JPH08138205A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 広帯域特性を損なうことなく、しかも加工工
程の少ない生産性に優れた磁気ヘッドを提供する。 【構成】 金属磁性膜４，５を一対のコア部材６，７及
び８，９によりその膜厚方向から挟み込んでなる一対の
磁気コア半体１，２を、その突き合わせ面に呈する金属
磁性膜４，５の端面同士を相対向させ、その突き合わせ
面間に磁気ギャップｇを形成してなる磁気ヘッドにおい
て、媒体摺動面３に露出する金属磁性膜４，５の形状を
直線ではなく屈曲した形とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ（以下、ＶＴＲという。）やディジタルデータレ
コーダー等の如き高密度記録可能な磁気記録再生装置に
搭載して有用な磁気ヘッド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に
おいては、記録信号の高密度化や高周波数化等が進めら
れており、この高密度記録化に対応して磁気記録媒体と
して磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属粉末を用
いた，いわゆるメタルテープや強磁性金属材料を蒸着に
よりベースフィルム上に被着した，いわゆる蒸着テープ
等が使用されるようになっている。

【０００３】そして、この種の磁気記録媒体は、高い残
留磁束密度Ｂｒと高い保磁力Ｈｃを有するために、記録
再生に用いる磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束
密度Ｂｓと高い透磁率μを有することが要求されてい
る。

【０００４】そこで従来、セラミックス等の非磁性基板
により強磁性金属膜をその膜厚方向から挟み込み、この
強磁性金属膜をトラック部分とした，いわゆるラミネー
ト型の磁気ヘッドや、ギャップ部に金属磁性膜を有する
ように磁性フェライト基板に金属磁性膜を被着形成し
た，いわゆるメタルインギャップ型の磁気ヘッド（ＭＩ
Ｇヘッド）等、種々のメタルヘッドが提案されている。

【０００５】例えば、ラミネート型の磁気ヘッドを製造
するには、先ず、図１３に示すように、セラミックス等
からなる複数の非磁性基板１０１を用意する。次に、図
１４に示すように、これら非磁性基板１０１の一主面に
膜厚の薄い強磁性金属膜と絶縁膜を交互に何層にも積層
した金属磁性膜１０２を形成する。

【０００６】続いて、図１５に示すように、これら非磁
性基板１０１を交互に並べて接合一体化する。そして、
この接合一体化された磁気コア基板１０３に対して、図
１６に示す点線に沿って切断する。

【０００７】次に、図１７に示すように、切断された一
対の磁気コア半体ブロック１０４，１０５の突き合わせ
面に、コイルを巻装させるための巻線溝１０６，１０７
を形成し、その突き合わせ面を鏡面研磨する。そして、
これら磁気コア半体ブロック１０４，１０５を、図１８
に示すように、各磁気コア半体ブロック１０４，１０５
にそれぞれ形成された金属磁性膜１０２，１０２同士を
相対向させて突き合わせ、ギャップ接合する。

【０００８】次に、その接合された接合ブロック１０８
を、図１９中点線に沿ってチップ切断する。その結果、
図２０に示すように、一対の非磁性基板１０１によって
金属磁性膜１０２をその膜厚方向より挟み込んでなる磁
気コア半体１０９，１１０が、互いの金属磁性膜１０
２，１０２同士を突き合わせ、その突き合わせ面間に磁
気ギャップｇが形成されてなるラミネートヘッドが作製
される。

【０００９】このラミネートヘッドでは、各磁気コア半
体１０９，１１０に形成された金属磁性膜１０２，１０
２が同一直線上に設けられ、この金属磁性膜１０２の膜
厚により磁気ギャップｇのトラック幅が規制されてい
る。つまり、この金属磁性膜１０２の膜厚が磁気ギャッ
プｇのトラック幅とされている。

【００１０】ところで、このラミネート型の磁気ヘッド
は、ＭＩＧヘッドに比べて再生特性等は優れているが、
上述の工程の如く加工工数が多く、コストの点からはＭ
ＩＧヘッドに比しかなり劣っている。すなわち、ＭＩＧ
ヘッドの加工工程は、従来から用いられているフェライ
トヘッドとほとんど同じ工程であり、平面研削の回数が
少ない。しかし、ラミネートヘッドの加工工程は、基板
上への積層膜の成膜から始まって、接合・切断を繰り返
す工程をたどり、切断後には毎回切断ブロックの大きさ
の精度を保つため平面研削をおこなわなければならな
い。このことが、この作製法における加工工数の多さの
原因になっている。

【００１１】これを解消するために、例えば、媒体摺動
面の形状を図２１に示すような形状となることを許すな
らば、工数の少ない積層型ヘッドの作製方法として、次
のような工程を考えることができる。

【００１２】先ず、先のラミネートヘッドを製造したよ
うに、図１３から図１５の工程を経て磁気コア基板１０
３を作製した後、この磁気コア基板１０３の一主面に、
図２２に示すように金属磁性膜１０２の膜厚方向に沿っ
てコイルを巻装するための巻線溝１０６，１０７を形成
する。巻線溝１０６，１０７は、互いに反対の向きとな
るように対象形状に形成する。

【００１３】次に、この磁気コア基板１０３を、図２２
中点線に沿って切断する。そして、その切断された一対
の磁気コア半体ブロック１０４，１０５を、図２３に示
すように突き合わせてギャップ接合する。そして最後
に、その接合された接合ブロック１０８を、金属磁性膜
１０２に対して斜めとなるように、図２４中点線に沿っ
てチップ切断する。その結果、図２１に示す金属磁性膜
１０２の端面１０２ａがヘッドチップ側面に露出してな
るラミネートヘッドが作製される。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】このラミネートヘッド
では、図２２で示す巻線溝形成工程以降の工程がフェラ
イトヘッドやＭＩＧヘッドの加工工程とほとんど同一で
あり、コスト的に問題のないプロセスである。

【００１５】しかし、積層膜とされる金属磁性膜１０２
の端面１０２ａを斜めに切断することになるため、この
部分での絶縁が破られ、高周波特性が劣化する。従っ
て、昨今のより広帯域を求められる状況においては、か
かる問題を早急に解決する必要がある。

【００１６】そこで本発明は、上述の従来技術の有する
課題を解消するために提案されたものであって、広帯域
特性を損なうことなく、加工工数の低減が達成できる再
生出力特性に優れた磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、非磁性材料からなる一対のコア部材により金属磁性
膜をその膜厚方向から挟み込んでなる一対の磁気コア半
体を有し、その磁気コア半体の突き合わせ面に呈する金
属磁性膜の端面同士を突き合わせ、その突き合わせ面間
に磁気ギャップを形成してなる，いわゆるラミネートヘ
ッド構造である。そして、この磁気ヘッドでは、高周波
特性を維持しつつ、加工工数の低減を図るために、磁気
ギャップが呈する媒体摺動面に現れた金属磁性膜の形状
を直線でないものとする。

【００１８】金属磁性膜としては、単層膜又は積層膜の
いずれであっても構わない。また、この金属磁性膜を挟
み込む一方のコア部材は、非磁性基板と非磁性ガラスよ
り構成される。

【００１９】一方、本発明に係る磁気ヘッドを製造する
には、先ず、非磁性材料からなる基板の一主面に、この
主面に対して垂直な垂直面と、この主面に対して傾斜す
る傾斜面を有した溝を所定ピッチで基板全体に亘って複
数形成する。次に、上記溝を含めて基板の主面に金属磁
性膜を成膜した後、この金属磁性膜の上から各溝内に非
磁性ガラスを充填する。

【００２０】そして、これら各溝の垂直面位置で、この
垂直面に沿って基板を切断して磁気コアブロックを形成
した後、一方の磁気コアブロックの金属磁性膜と、他方
の磁気コアブロックの金属磁性膜が形成される面とは反
対側の面を突き合わせるようにして、これら複数の磁気
コアブロックを接合一体化して磁気コア基板を形成す
る。

【００２１】続いて、この磁気コア基板の一主面にコイ
ルを巻回させる巻線溝を、金属磁性膜の膜厚方向に基板
全体に亘って形成する。次に、この磁気コア基板を金属
磁性膜の膜厚方向に切断し、二分して磁気コア半体ブロ
ックを形成する。そして、各磁気コア半体ブロックに形
成された金属磁性膜同士を相対向させて突き合わせ、ギ
ャップ接合する。そして最後に、その接合一体化された
接合ブロックを、基板に形成した傾斜面と平行にチップ
切断する。

【００２２】

【作用】本発明に係るラミネートヘッドにおいては、磁
気ギャップが呈する媒体摺動面に現れた金属磁性膜の形
状を直線でないものとしているため、製造工程の簡略化
が図れると共に、高周波特性に優れたものとなる。

【００２３】一方、本発明に係るラミネートヘッドの製
造方法においては、非磁性材料からなる基板の一主面に
単に金属磁性膜を成膜するのではなく、この基板に垂直
面と傾斜面からなる溝を形成し、その溝を含めて金属磁
性膜を成膜するようにしている。このため、金属磁性膜
の形状が直線ではなく、溝の形状に沿った屈曲した形状
となる。

【００２４】その後、この金属磁性膜の上から溝内にガ
ラスを充填した後、該溝の垂直面位置でこの垂直面に沿
って切断し、その切断された各ブロックを接合一体化し
て磁気コア基板を形成する。続いて、この磁気コア基板
に巻線溝を形成した後、この磁気コア基板を切断して一
対の磁気コア半体ブロックを形成する。そして、二分さ
れた磁気コア半体ブロックを接合一体化してギャップ接
合を行い、その接合ブロックを基板に形成した傾斜面と
平行にチップ切断すると、媒体摺動面に呈する金属磁性
膜の形状が直線でなくなる。

【００２５】このように、基板の接合・切断工程を繰り
返す工程が少ないため、切断後に毎回切断ブロックの大
きさの精度を保つための平面研削を行う必要がなくな
り、製造工程の簡略化が図れる。

【００２６】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００２７】本実施例の磁気ヘッドは、図１に示すよう
に、閉磁路を構成する一対の磁気コア半体１，２が突き
合わされ接合一体化されることにより、磁気記録媒体と
摺接する媒体摺動面３に、記録及び／又は再生ギャップ
として動作する磁気ギャップｇを形成してなっている。

【００２８】磁気コア半体１，２は、磁気コア材として
の金属磁性膜４，５と、この金属磁性膜４，５を膜厚方
向より挟み込む一対の非磁性材料からなるコア部材６，
７及び８，９とから構成されている。

【００２９】金属磁性膜４，５は、図２に示すように、
高周波帯域での渦電流損失を回避するために、強磁性金
属材料からなる膜厚の薄い磁性金属膜と絶縁膜を交互に
何層にも積層した，いわゆる積層膜として形成されてい
る。なお、この金属磁性膜４，５は、絶縁膜を介在させ
ない単層の膜としてもよい。

【００３０】かかる金属磁性膜４，５は、媒体摺動面３
に呈する形状が直線ではなく、磁気ギャップｇが形成さ
れるギャップ近傍部では斜めとされ、それ以外の部分で
は水平とされている。また、この金属磁性膜４，５は、
図２１に示す磁気ヘッドとは異なり、コア厚方向におけ
るヘッドチップ側面にはその端面が露出することなく、
完全にコア部材６，７及び８，９により挟み込まれてい
る。このため、この磁気ヘッドでは、絶縁が破られるこ
とがなく、高周波特性の低下が生じないようになされて
いる。

【００３１】一方、コア部材６，７及び８，９は、磁路
を構成する金属磁性膜４，５をその膜厚方向から挟み込
むガード材として機能するものである。これらコア部材
６，７及び８，９のうち、一方のコア部材６，９は、セ
ラミックス等からなる非磁性基板よりなる。そして、こ
のコア部材６，９とによって金属磁性膜４，５を挟み込
む他方のコア部材７，８は、セラミックス等からなる非
磁性基板７ａ，８ａと非磁性ガラス７ｂ，８ｂとからな
る。この非磁性基板７ａ，８ａは、金属磁性膜４，５が
斜めとされる磁気ギャップ近傍部に設けられ、非磁性ガ
ラス７ｂ，８ｂは、金属磁性膜４，５が平行とされる部
分に設けられている。

【００３２】そして、一方の磁気コア半体２の突き合わ
せ面には、磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制すると共
に、コイルを巻装するための巻線窓１０が形成されてい
る。この巻線窓１０は、磁気ギャップｇのデプスＤｐを
規制する傾斜面１０ａを有した略コ字状をなす孔とし
て、コア厚方向に貫通して形成されている。

【００３３】このように構成された磁気ヘッドでは、閉
磁路を構成する金属磁性膜４，５を挟み込むようにして
設けられるコア部材６，７及び８，９が非磁性材料より
なることから、互いの磁気コア半体１，２の突き合わせ
面に呈する金属磁性膜４，５の端面同士を突き合わせ、
その突き合わせ面間に形成される磁気ギャップｇのトラ
ック幅Ｔｗが、この金属磁性膜４，５の膜厚によって規
制されている。つまり、この金属磁性膜４，５の膜厚が
磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制することにな
る。

【００３４】次に、上述の磁気ヘッドを製造する方法に
ついて説明する。

【００３５】先ず、図３に示すように、ガード材となる
平面矩形状をなす非磁性基板１１を用意する。そして、
この非磁性基板１１の一主面１１ａに、図４に示すよう
に、この主面１１ａに対して垂直な垂直面１２と、この
主面１１ａに対して傾斜する傾斜面１３を有した断面略
Ｖ字状をなす溝１４を形成する。

【００３６】かかる溝１４は、非磁性基板１１の短辺方
向に基板全体に亘って形成し、該基板長手方向に沿って
所定ピッチで複数形成する。

【００３７】次に、上記溝１４を含めて非磁性基板１１
の一主面１１ａに、図５に示すように、金属磁性膜１５
を成膜する。ここでは、膜厚の薄い磁性金属膜と絶縁膜
を交互に何層にも成膜して、積層膜とされる金属磁性膜
１５とした。

【００３８】この磁性金属材料には、各種強磁性材料の
他に、例えば高飽和磁束密度を有し、且つ軟磁気特性に
優れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強磁性合
金材料としては従来より公知のものがいずれも使用で
き、結晶質、非晶質であるかを問わない。

【００３９】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合金、Ｆｅ−Ｓ
ｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金
等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐磨耗性等のより
一層の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｅ、
Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｈｆ、Ｖ等の少なくとも一種を添加
したものであってもよい。

【００４０】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏの１つ以上
の元素とＰ、Ｃ、Ｂ、Ｓｉの１つ以上の元素とからなる
合金、またはこれらを主成分としてＡｌ、Ｇｅ、Ｂｅ、
Ｓｎ、Ｉｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモ
ルファス合金、あるいはＣｏ、Ｈｆ、Ｚｒ等の遷移元素
や希土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモル
ファス合金）等が挙げられる。

【００４１】一方、絶縁膜としては、ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂
Ｏ₃ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の酸化物や窒化物等の如き電気的絶
縁材料よりなる膜が使用できる。また、これら金属磁性
膜１５を形成する方法としては、膜厚制御性に優れるス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術が
採用できる。

【００４２】次に、図６に示すように、金属磁性膜１５
の上から各溝１４内に非磁性ガラス１６を充填する。そ
の結果、この溝１４内に充填された非磁性ガラス１６に
よって、金属磁性膜１５が押さえ付けられ、該溝１４か
ら金属磁性膜１５が剥がれないようになされている。

【００４３】次いで、この非磁性基板１１を、図７中線
Ａ−Ａ’、線Ｂ−Ｂ’、線Ｃ−Ｃ’、線Ｄ−Ｄ’で示す
各溝１４の垂直面１２位置で、この垂直面１２に沿って
切断する。その結果、図８に示すような、同一形状をな
す磁気コアブロック１７が複数作製される。

【００４４】次に、図９に示すように、一方の磁気コア
ブロック１７の金属磁性膜１５と、他方の磁気コアブロ
ック１７の金属磁性膜１５が形成される面とは反対側の
面を突き合わせるようにして、これら複数の磁気コアブ
ロック１７を接合一体化する。その結果、平面矩形状を
なす磁気コア基板１８が得られる。

【００４５】次いで、図１０に示すように、この磁気コ
ア基板１８の一主面にコイルを巻回させるための巻線溝
１９，２０を形成する。巻線溝１９，２０は、金属磁性
膜１５の膜厚方向に、この磁気コア基板１８全体に亘っ
て形成する。本実施例では、互いに逆向きとした一対の
巻線溝１９，２０を所定位置に形成した。

【００４６】次に、この磁気コア基板１８を、図１０中
線Ｅ−Ｅ’で示す基板中心位置で切断して二分する。そ
して、この二分された磁気コア半体ブロック２１，２２
を、図１１に示すように、各磁気コア半体ブロック２
１，２２に形成された金属磁性膜１５，１５同士を相対
向させて突き合わせ、ギャップ接合する。

【００４７】その結果、互いの金属磁性膜１５，１５の
突き合わせ面間に、記録及び／又は再生ギャップとして
機能する磁気ギャップｇが形成される。

【００４８】そして最後に、その接合一体化された接合
ブロック２３を、図１２中線Ｆ−Ｆ’及び線Ｇ−Ｇ’で
示すように、傾斜面１３と平行にチップ切断する。その
結果、図１及び図２に示すラミネートヘッドが完成す
る。

【００４９】以上のような工程に従って製造すれば、基
板の接合・切断を繰り返す工程が少なくなり、製造工程
の増大を招く切断後の平面研削の必要性が無くなる。従
って、生産性の向上が図れ、安価な磁気ヘッドを提供で
きる。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、媒体摺動面に露出する金属磁性膜の形状を
直線状でなく屈曲した形状としているため、ラミネート
ヘッドが持つ本来の広帯域特性を損なわず、また、煩雑
な工程を経ずに製造できる等、出力特性並びに生産性に
優れた磁気ヘッドを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドを媒体摺動面から
見た平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、非磁性基板作製工程を示す斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、溝形成工程を示す斜視図である。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、金属磁性膜形成工程を示す斜視図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、非磁性ガラス充填工程を示す斜視図であ
る。

【図７】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、ブロック切断工程を示す斜視図である。

【図８】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、磁気コアブロック形成工程を示す斜視図で
ある。

【図９】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、磁気コア基板形成工程を示す斜視図であ
る。

【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順
次示すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順
次示すもので、磁気コア半体ブロックのギャップ接合工
程を示す斜視図である。

【図１２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順
次示すもので、ヘッドチップ切断工程を示す斜視図であ
る。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、非磁性基板作製工程を示す斜視図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、金属磁性膜形成工程を示す斜視図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、磁気コア基板形成工程を示す斜視図である。

【図１６】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、ブロック切断工程を示す斜視図である。

【図１７】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１８】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、磁気コア半体ブロックのギャップ接合工程を示す斜
視図である。

【図１９】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、ヘッドチップ切断工程を示す斜視図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドの製造方法を順次示すもの
で、作製された磁気ヘッドを媒体摺動面から見た状態を
示す平面図である。

【図２１】さらに従来の磁気ヘッドの一例を示すもの
で、媒体摺動面から見た状態を示す平面図である。

【図２２】図２１に示す磁気ヘッドの製造方法を順次示
すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図２３】図２１に示す磁気ヘッドの製造方法を順次示
すもので、磁気コア半体ブロックのギャップ接合工程を
示す斜視図である。

【図２４】図２１に示す磁気ヘッドの製造方法を順次示
すもので、ヘッドチップ切断工程を示す斜視図である。

【符号の説明】

１，２ 磁気コア半体 ３ 媒体摺動面 ４，５ 金属磁性膜 ６，７，８，９ コア部材 １０ 巻線溝

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性材料からなる一対のコア部材によ
   り金属磁性膜をその膜厚方向から挟み込んでなる一対の
   磁気コア半体を有し、その磁気コア半体の突き合わせ面
   に呈する金属磁性膜の端面同士を突き合わせ、その突き
   合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドに
   おいて、 上記磁気ギャップが呈する媒体摺動面に現れた金属磁性
   膜の形状が直線でないことを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 金属磁性膜が単層膜又は積層膜であるこ
   とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 金属磁性膜を挟み込む一方のコア部材
   が、非磁性基板と非磁性ガラスからなることを特徴とす
   る請求項１記載の磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 非磁性材料からなる基板の一主面に、こ
   の主面に対して垂直な垂直面と、この主面に対して傾斜
   する傾斜面を有した溝を所定ピッチで基板全体に亘って
   複数形成する工程と、 上記溝を含めて基板の主面に金属磁性膜を成膜する工程
   と、 上記金属磁性膜の上から各溝内に非磁性ガラスを充填す
   る工程と、 上記各溝の垂直面位置で、この垂直面に沿って基板を切
   断して磁気コアブロックを形成する工程と、 一方の磁気コアブロックの金属磁性膜と他方の磁気コア
   ブロックの金属磁性膜が形成される面とは反対側の面を
   突き合わせるようにして、これら複数の磁気コアブロッ
   クを接合一体化し、磁気コア基板を形成する工程と、 この磁気コア基板の一主面にコイルを巻回させる巻線溝
   を、金属磁性膜の膜厚方向に基板全体に亘って形成する
   工程と、 上記磁気コア基板を金属磁性膜の膜厚方向に切断して二
   分する工程と、 その二分された磁気コア半体ブロックを、各磁気コア半
   体ブロックに形成された金属磁性膜同士が相対向するよ
   うに突き合わせてギャップ接合する工程と、 その接合一体化された接合ブロックを、基板に形成した
   傾斜面と平行にチップ切断する工程とを有してなる磁気
   ヘッドの製造方法。