JPH07225907A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH07225907A JPH07225907A JP1513294A JP1513294A JPH07225907A JP H07225907 A JPH07225907 A JP H07225907A JP 1513294 A JP1513294 A JP 1513294A JP 1513294 A JP1513294 A JP 1513294A JP H07225907 A JPH07225907 A JP H07225907A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 トラック幅規制溝加工工程と鏡面研磨加工工
程での基準面出し作業を無くし、製造工程の簡略化を図
ると共に、トラック幅規制溝深さ寸法を安定なものとし
て電磁変換特性のばらつきを抑え、且つトラック幅変化
の少ない信頼性の高い磁気ヘッドを製造する。 【構成】 磁気ヘッドを製造するに際して、巻線溝３が
形成された磁気コア基板１と形成されていない磁気コア
基板２を共に水平に並べ、回転砥石４を両磁気コア基板
１，２の一主面１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔
する方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒
体摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝５，６を、こ
れら磁気コア基板１，２同時に形成する。
程での基準面出し作業を無くし、製造工程の簡略化を図
ると共に、トラック幅規制溝深さ寸法を安定なものとし
て電磁変換特性のばらつきを抑え、且つトラック幅変化
の少ない信頼性の高い磁気ヘッドを製造する。 【構成】 磁気ヘッドを製造するに際して、巻線溝３が
形成された磁気コア基板１と形成されていない磁気コア
基板２を共に水平に並べ、回転砥石４を両磁気コア基板
１，２の一主面１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔
する方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒
体摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝５，６を、こ
れら磁気コア基板１，２同時に形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー（以下、ＶＴＲと称する。）等の如き磁気記録
再生装置に搭載して有用な磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
コーダー（以下、ＶＴＲと称する。）等の如き磁気記録
再生装置に搭載して有用な磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ＶＴＲ等に搭載される磁気ヘッ
ドは、以下のような工程を経て製造されている。先ず、
図１０に示すように、フェライト等よりなる一対の磁気
コア基板１０１，１０２を用意する。
ドは、以下のような工程を経て製造されている。先ず、
図１０に示すように、フェライト等よりなる一対の磁気
コア基板１０１，１０２を用意する。
【０００３】次に、一方の磁気コア基板１０１のみにコ
イルを巻回させるための巻線溝１０３を形成する。巻線
溝１０３は、磁気コア基板１０１の長手方向に基板全体
に亘って形成する。次いで、これら磁気コア基板１０
１，１０２を、図１１に示すように、ハの字状に傾け
る。
イルを巻回させるための巻線溝１０３を形成する。巻線
溝１０３は、磁気コア基板１０１の長手方向に基板全体
に亘って形成する。次いで、これら磁気コア基板１０
１，１０２を、図１１に示すように、ハの字状に傾け
る。
【０００４】そして、磁気記録媒体と摺接する媒体摺動
面近傍部分のみに、磁気ギャップのトラック幅を規制す
るためのトラック幅規制溝１０４，１０５を形成する。
トラック幅規制溝１０４，１０５を形成するに当たって
は、磁気コア基板１０１，１０２を研削機のベッド上に
固定し、回転砥石１０６を図１１中矢印Ｘで示す左右方
向に動かしてトラック幅規制溝加工を行う。
面近傍部分のみに、磁気ギャップのトラック幅を規制す
るためのトラック幅規制溝１０４，１０５を形成する。
トラック幅規制溝１０４，１０５を形成するに当たって
は、磁気コア基板１０１，１０２を研削機のベッド上に
固定し、回転砥石１０６を図１１中矢印Ｘで示す左右方
向に動かしてトラック幅規制溝加工を行う。
【０００５】次に、これら磁気コア基板１０１，１０２
を、図１２に示すように、水平に配置する。そして、こ
れら磁気コア基板１０１，１０２のギャップ形成面とな
る一主面１０１ａ，１０２ａを鏡面研磨する。
を、図１２に示すように、水平に配置する。そして、こ
れら磁気コア基板１０１，１０２のギャップ形成面とな
る一主面１０１ａ，１０２ａを鏡面研磨する。
【０００６】次いで、各磁気コア基板１０１，１０２の
ギャップ形成面にＳｉＯ2 等をスパッタリングする等し
てギャップ膜（図示は省略する。）を成膜する。しかる
後、図１３に示すように、各磁気コア基板１０１，１０
２に形成されたトラック幅規制溝１０４，１０５同士を
相対向させて突き合わせ、これら磁気コア基板１０１，
１０２を融着ガラス１０７によって接合一体化する。
ギャップ形成面にＳｉＯ2 等をスパッタリングする等し
てギャップ膜（図示は省略する。）を成膜する。しかる
後、図１３に示すように、各磁気コア基板１０１，１０
２に形成されたトラック幅規制溝１０４，１０５同士を
相対向させて突き合わせ、これら磁気コア基板１０１，
１０２を融着ガラス１０７によって接合一体化する。
【０００７】そして、接合一体化された磁気コアブロッ
ク１０８を、図１３中線Ａ−Ｂ及び線Ｃ−Ｄで示す位置
でチップ切断する。この結果、図１４に示すように、フ
ェライトよりなる磁気コア１０９，１１０の突き合わせ
面間に記録再生ギャップとして機能する磁気ギャップｇ
を有した磁気ヘッドが完成する。
ク１０８を、図１３中線Ａ−Ｂ及び線Ｃ−Ｄで示す位置
でチップ切断する。この結果、図１４に示すように、フ
ェライトよりなる磁気コア１０９，１１０の突き合わせ
面間に記録再生ギャップとして機能する磁気ギャップｇ
を有した磁気ヘッドが完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の製造
工程に従って磁気ヘッドを製造した場合、トラック幅規
制溝加工と次工程である鏡面研磨加工における磁気コア
基板１０１，１０２の基準面が異なるために、次のよう
な問題が生じる。
工程に従って磁気ヘッドを製造した場合、トラック幅規
制溝加工と次工程である鏡面研磨加工における磁気コア
基板１０１，１０２の基準面が異なるために、次のよう
な問題が生じる。
【０００９】基準面出し作業がトラック幅規制溝加工工
程と鏡面研磨加工工程でそれぞれ必要となる。このた
め、製造工程数が増加する。
程と鏡面研磨加工工程でそれぞれ必要となる。このた
め、製造工程数が増加する。
【００１０】また、トラック幅規制溝加工工程では、２
つの磁気コア基板１０１，１０２に対してそれぞれ基準
面出し作業を行わなければならないことから、その基準
面出し作業にばらつきが生ずると、各磁気コア基板１０
１，１０２に形成されるトラック幅規制溝１０４，１０
５の溝深さにばらつきが発生する。その結果、ヘッドと
なった場合に電磁変換特性にばらつきが生じ、信頼性が
損なわれる。
つの磁気コア基板１０１，１０２に対してそれぞれ基準
面出し作業を行わなければならないことから、その基準
面出し作業にばらつきが生ずると、各磁気コア基板１０
１，１０２に形成されるトラック幅規制溝１０４，１０
５の溝深さにばらつきが発生する。その結果、ヘッドと
なった場合に電磁変換特性にばらつきが生じ、信頼性が
損なわれる。
【００１１】さらに、トラック幅規制溝が磁気ギャップ
ｇに対して垂直ではなく、例えば４５度の傾斜を有する
溝の場合、ギャップ深さが変化するに従いトラック幅Ｔ
ｗが変化するといった問題が発生する。
ｇに対して垂直ではなく、例えば４５度の傾斜を有する
溝の場合、ギャップ深さが変化するに従いトラック幅Ｔ
ｗが変化するといった問題が発生する。
【００１２】そこで本発明は、上述の従来の有する課題
に鑑みて提案されたものであり、トラック幅規制溝加工
工程と鏡面研磨加工工程での基準面出し作業を無くし、
製造工程の簡略化を図ると共に、トラック幅規制溝深さ
寸法を安定なものとして電磁変換特性のばらつきを抑
え、且つトラック幅変化の少ない信頼性の高い磁気ヘッ
ドの製造方法を提供することを目的とする。
に鑑みて提案されたものであり、トラック幅規制溝加工
工程と鏡面研磨加工工程での基準面出し作業を無くし、
製造工程の簡略化を図ると共に、トラック幅規制溝深さ
寸法を安定なものとして電磁変換特性のばらつきを抑
え、且つトラック幅変化の少ない信頼性の高い磁気ヘッ
ドの製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】磁気ヘッドを製造するに
は、先ず、一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の
磁気コア基板の一主面にコイルを巻回させる巻線溝を形
成する。そして、これら磁気コア基板を水平に並べ、回
転砥石を両磁気コア基板の一主面に対して近接する方向
と離隔する方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接
する媒体摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝を、こ
れら磁気コア基板同時に形成する。
は、先ず、一対の磁気コア基板のうち少なくとも一方の
磁気コア基板の一主面にコイルを巻回させる巻線溝を形
成する。そして、これら磁気コア基板を水平に並べ、回
転砥石を両磁気コア基板の一主面に対して近接する方向
と離隔する方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接
する媒体摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝を、こ
れら磁気コア基板同時に形成する。
【００１４】次いで、磁気コア基板を水平に並べた状態
で、上記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板の
一主面をそれぞれ鏡面研磨する。しかる後、少なくとも
一方の鏡面研磨された磁気コア基板の一主面にギャップ
膜を成膜する。次に、各磁気コア基板にそれぞれ形成さ
れたトラック幅規制溝を相対向させてトラック位置合わ
せしながらこれら磁気コア基板同士を突き合わせガラス
にて接合一体化する。そして最後に、接合一体化された
ブロックより所定の大きさにチップ切断して磁気ヘッド
を完成する。
で、上記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板の
一主面をそれぞれ鏡面研磨する。しかる後、少なくとも
一方の鏡面研磨された磁気コア基板の一主面にギャップ
膜を成膜する。次に、各磁気コア基板にそれぞれ形成さ
れたトラック幅規制溝を相対向させてトラック位置合わ
せしながらこれら磁気コア基板同士を突き合わせガラス
にて接合一体化する。そして最後に、接合一体化された
ブロックより所定の大きさにチップ切断して磁気ヘッド
を完成する。
【００１５】金属磁性膜を主コアとするいわゆるメタル
・イン・ギャップ型の磁気ヘッド（以下、ＭＩＧヘッド
と称する。）を製造するには、鏡面研磨加工後に、その
研磨面上に金属磁性膜を成膜し、さらにその金属磁性膜
上にギャップ膜を形成する。そして、ギャップ膜同士を
突き合わせ面として、一対の磁気コア基板をガラスにて
接合一体化する。
・イン・ギャップ型の磁気ヘッド（以下、ＭＩＧヘッド
と称する。）を製造するには、鏡面研磨加工後に、その
研磨面上に金属磁性膜を成膜し、さらにその金属磁性膜
上にギャップ膜を形成する。そして、ギャップ膜同士を
突き合わせ面として、一対の磁気コア基板をガラスにて
接合一体化する。
【００１６】ギャップ膜は、両方の磁気コア基板に形成
してもよく、或いはいずれか一方の磁気コア基板に形成
するようにしてもよい。
してもよく、或いはいずれか一方の磁気コア基板に形成
するようにしてもよい。
【００１７】
【作用】一対の磁気コア基板を水平に並べ、回転砥石を
両磁気コア基板の一主面に対して近接する方向と離隔す
る方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒体
摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝を、これら磁気
コア基板同時に形成すると、ギャップ深さ方向に対する
実用部分のトラック幅変化は少なくなり、安定した電磁
変換特性が得られる磁気ヘッドが製造される。また、磁
気ギャップ部の磁気コア断面積も確保される。
両磁気コア基板の一主面に対して近接する方向と離隔す
る方向に上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒体
摺動面近傍部分のみにトラック幅規制溝を、これら磁気
コア基板同時に形成すると、ギャップ深さ方向に対する
実用部分のトラック幅変化は少なくなり、安定した電磁
変換特性が得られる磁気ヘッドが製造される。また、磁
気ギャップ部の磁気コア断面積も確保される。
【００１８】さらに、トラック幅規制溝加工を水平な状
態で行った後、その状態で鏡面研磨加工を行うので、ト
ラック幅規制溝加工と鏡面研磨加工は共に同じ基準面を
基準として加工されることになる。したがって、従来別
々に必要であった基準面出し加工が要らなくなり、その
加工に要する工程の削減が図れると共に、トラック幅規
制溝加工の作業ばらつきが無くなり、結果としてトラッ
ク幅規制溝深さが一定となる。
態で行った後、その状態で鏡面研磨加工を行うので、ト
ラック幅規制溝加工と鏡面研磨加工は共に同じ基準面を
基準として加工されることになる。したがって、従来別
々に必要であった基準面出し加工が要らなくなり、その
加工に要する工程の削減が図れると共に、トラック幅規
制溝加工の作業ばらつきが無くなり、結果としてトラッ
ク幅規制溝深さが一定となる。
【００１９】また、上記鏡面研磨加工後に、その研磨面
上に金属磁性膜を成膜すれば、簡単に高出力のＭＩＧヘ
ッドが完成する。
上に金属磁性膜を成膜すれば、簡単に高出力のＭＩＧヘ
ッドが完成する。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。磁気ヘッドを
製造するには、先ず、図１に示すように、フェライト等
の酸化物磁性材料からなる短冊状をなす一対の磁気コア
基板１，２を作成する。
いて図面を参照しながら詳細に説明する。磁気ヘッドを
製造するには、先ず、図１に示すように、フェライト等
の酸化物磁性材料からなる短冊状をなす一対の磁気コア
基板１，２を作成する。
【００２１】次に、一方の磁気コア基板１にのみコイル
を巻回させるための巻線溝３を形成する。巻線溝３は、
磁気コア基板１の一主面１ａに断面略コ字状をなす溝と
して、この磁気コア基板１の長手方向に沿って基板全体
に亘り形成する。
を巻回させるための巻線溝３を形成する。巻線溝３は、
磁気コア基板１の一主面１ａに断面略コ字状をなす溝と
して、この磁気コア基板１の長手方向に沿って基板全体
に亘り形成する。
【００２２】なお、本実施例では、一方の磁気コア基板
１にのみ巻線溝３を形成したが、他方の磁気コア基板２
にも巻線溝３を形成するようにしても構わない。これ
は、製造する磁気ヘッドの用途或いは特性に応じて適宜
決められる。
１にのみ巻線溝３を形成したが、他方の磁気コア基板２
にも巻線溝３を形成するようにしても構わない。これ
は、製造する磁気ヘッドの用途或いは特性に応じて適宜
決められる。
【００２３】しかる後、これら磁気コア基板１，２を、
図２に示すようにその長手方向が同一向きとなるように
互いの一側面同士を突き合わせた状態で研削機のベッド
上に水平となるように並べて固定する。そして、円盤状
をなす回転砥石４を回転させると共に両磁気コア基板
１，２の一主面１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔
する方向（図２中矢印Ｙで示す方向）に上下動させなが
ら磁気記録媒体と摺接する媒体摺動面近傍部分のみにト
ラック幅規制溝５，６を、これら磁気コア基板１，２同
時に形成する。
図２に示すようにその長手方向が同一向きとなるように
互いの一側面同士を突き合わせた状態で研削機のベッド
上に水平となるように並べて固定する。そして、円盤状
をなす回転砥石４を回転させると共に両磁気コア基板
１，２の一主面１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔
する方向（図２中矢印Ｙで示す方向）に上下動させなが
ら磁気記録媒体と摺接する媒体摺動面近傍部分のみにト
ラック幅規制溝５，６を、これら磁気コア基板１，２同
時に形成する。
【００２４】トラック幅規制溝５，６を形成するに当た
っては、磁気コア基板１，２の突き合わせ面上に回転砥
石４の中心を持って行き、且つ回転砥石４の直径を選択
することにより、媒体摺動面近傍部分のみにトラック幅
規制溝５，６を形成することができる。
っては、磁気コア基板１，２の突き合わせ面上に回転砥
石４の中心を持って行き、且つ回転砥石４の直径を選択
することにより、媒体摺動面近傍部分のみにトラック幅
規制溝５，６を形成することができる。
【００２５】回転砥石４を磁気コア基板１，２の一主面
１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔する方向に上下
動させながら当該磁気コア基板１，２を研削すると、ト
ラック幅規制溝５，６の底面は回転砥石４のＲ形状に応
じた円弧状をなす形状となる。このため、磁気コア断面
積の減少を防止することができ、電磁変換特性の低下を
抑制できる。
１ａ，２ａに対して近接する方向と離隔する方向に上下
動させながら当該磁気コア基板１，２を研削すると、ト
ラック幅規制溝５，６の底面は回転砥石４のＲ形状に応
じた円弧状をなす形状となる。このため、磁気コア断面
積の減少を防止することができ、電磁変換特性の低下を
抑制できる。
【００２６】次に、トラック幅規制溝加工と同じく磁気
コア基板１，２を水平に並べた状態で、これら磁気コア
基板１，２の一主面１ａ，２ａをそれぞれ鏡面研磨す
る。鏡面研磨加工をするに当たっては、トラック幅規制
溝加工を行ったのと同じ基準面を基準として加工するこ
とになるので、従来のような基準面出し作業をする必要
がなく、その工程も削減できる。また、同一基準面を基
準としてトラック幅規制溝加工と鏡面研磨加工を行うの
で、鏡面研磨加工後のトラック幅規制溝５，６の溝深さ
寸法を一定なものとすることができる。
コア基板１，２を水平に並べた状態で、これら磁気コア
基板１，２の一主面１ａ，２ａをそれぞれ鏡面研磨す
る。鏡面研磨加工をするに当たっては、トラック幅規制
溝加工を行ったのと同じ基準面を基準として加工するこ
とになるので、従来のような基準面出し作業をする必要
がなく、その工程も削減できる。また、同一基準面を基
準としてトラック幅規制溝加工と鏡面研磨加工を行うの
で、鏡面研磨加工後のトラック幅規制溝５，６の溝深さ
寸法を一定なものとすることができる。
【００２７】次いで、各磁気コア基板１，２の研磨面に
ＳｉＯ2 等の酸化膜又は非磁性金属膜をスパッタリング
等してギャップ膜（図示は省略する。）を形成する。
ＳｉＯ2 等の酸化膜又は非磁性金属膜をスパッタリング
等してギャップ膜（図示は省略する。）を形成する。
【００２８】ギャップ膜は、両方の磁気コア基板１，２
に形成してもよいが、片方の磁気コア基板１又は２のみ
に形成してもよい。両方の磁気コア基板１，２にギャッ
プ膜を形成する場合は、片側のギャップ膜の膜厚を所定
ギャップ長の半分とする。片側の磁気コア基板１又は２
のみにギャップ膜を形成する場合は、所定ギャップ長に
ギャップ膜を形成する。
に形成してもよいが、片方の磁気コア基板１又は２のみ
に形成してもよい。両方の磁気コア基板１，２にギャッ
プ膜を形成する場合は、片側のギャップ膜の膜厚を所定
ギャップ長の半分とする。片側の磁気コア基板１又は２
のみにギャップ膜を形成する場合は、所定ギャップ長に
ギャップ膜を形成する。
【００２９】そして、図３に示すように、各磁気コア基
板１，２の一主面１ａ，２ａに成膜されたギャップ膜を
突き合わせ面として、各磁気コア基板１，２に形成され
たトラック幅規制溝５，６を相対向させてトラック位置
合わせしながらこれら磁気コア基板１，２同士を突き合
わせる。しかる後、巻線溝３にガラス棒を挿入し、当該
ガラス棒を溶かすことにより、これら磁気コア基板１，
２同士を接合一体化させる。
板１，２の一主面１ａ，２ａに成膜されたギャップ膜を
突き合わせ面として、各磁気コア基板１，２に形成され
たトラック幅規制溝５，６を相対向させてトラック位置
合わせしながらこれら磁気コア基板１，２同士を突き合
わせる。しかる後、巻線溝３にガラス棒を挿入し、当該
ガラス棒を溶かすことにより、これら磁気コア基板１，
２同士を接合一体化させる。
【００３０】そして、融着ガラス７によって接合一体化
された磁気コアブロックを、図３中線Ｅ−Ｆ及び線Ｇ−
Ｈで示す位置でチップ切断する。この結果、図４に示す
ように、フェライトよりなる一対の磁気コア８，９の突
き合わせ面間に記録又は再生ギャップ或いは記録再生ギ
ャップとして機能する磁気ギャップｇを有した磁気ヘッ
ドが完成する。この磁気ヘッドにおける磁気ギャップｇ
のトラック幅Ｔｗは、互いの磁気コア８，９の突き合わ
せ面に形成されるトラック幅規制溝５，６によって規制
されている。
された磁気コアブロックを、図３中線Ｅ−Ｆ及び線Ｇ−
Ｈで示す位置でチップ切断する。この結果、図４に示す
ように、フェライトよりなる一対の磁気コア８，９の突
き合わせ面間に記録又は再生ギャップ或いは記録再生ギ
ャップとして機能する磁気ギャップｇを有した磁気ヘッ
ドが完成する。この磁気ヘッドにおける磁気ギャップｇ
のトラック幅Ｔｗは、互いの磁気コア８，９の突き合わ
せ面に形成されるトラック幅規制溝５，６によって規制
されている。
【００３１】以上のようにして作成された各磁気ヘッド
は、いずれもトラック幅規制溝５，６の溝深さがほぼ同
じになるので、電磁変換特性のばらつきの無い信頼性の
高いヘッドとなる。
は、いずれもトラック幅規制溝５，６の溝深さがほぼ同
じになるので、電磁変換特性のばらつきの無い信頼性の
高いヘッドとなる。
【００３２】ところで、前述の巻線溝３を形成する工程
において、両方の磁気コア基板１，２にそれぞれ巻線溝
３を形成した場合には、図５に示すように、両方の磁気
コア８，９に巻線溝３を有した磁気ヘッドが得られる。
において、両方の磁気コア基板１，２にそれぞれ巻線溝
３を形成した場合には、図５に示すように、両方の磁気
コア８，９に巻線溝３を有した磁気ヘッドが得られる。
【００３３】また、前述のトラック幅規制溝形成工程で
は、トラック幅規制溝５，６として磁気ギャップｇに対
して垂直なストレート部分を有した形状としたが、磁気
ギャップｇの両端縁部分を傾斜させた場合には、図６に
示すような磁気ヘッドが得られる。かかる形状のトラッ
ク幅規制溝５，６を形成する場合、従来のように一対の
磁気コア基板１，２をハの字状に配置して研削すると、
図８に示すように、ギャップ深さ方向に対してトラック
幅Ｔｗが著しく変化する。しかし、本実施例のように、
磁気コア基板１，２に対して回転砥石４を上下動させな
がら研削すれば、図９に示すように、ギャップ深さ方向
に対する実用部分のトラック幅Ｔｗの変化はほとんど無
い。したがって、安定した電磁変換特性を持つ磁気ヘッ
ドを製造することができる。
は、トラック幅規制溝５，６として磁気ギャップｇに対
して垂直なストレート部分を有した形状としたが、磁気
ギャップｇの両端縁部分を傾斜させた場合には、図６に
示すような磁気ヘッドが得られる。かかる形状のトラッ
ク幅規制溝５，６を形成する場合、従来のように一対の
磁気コア基板１，２をハの字状に配置して研削すると、
図８に示すように、ギャップ深さ方向に対してトラック
幅Ｔｗが著しく変化する。しかし、本実施例のように、
磁気コア基板１，２に対して回転砥石４を上下動させな
がら研削すれば、図９に示すように、ギャップ深さ方向
に対する実用部分のトラック幅Ｔｗの変化はほとんど無
い。したがって、安定した電磁変換特性を持つ磁気ヘッ
ドを製造することができる。
【００３４】例えば、図８の従来法では、ギャップ深さ
ｈ1 が３０μｍになるとトラック幅Ｔｗは１０μｍ変化
する。一方、本実施例の方法では、ギャップ深さｈ2 が
３０μｍになってもトラック幅Ｔｗはわずか２μｍ以内
の変化にすぎない。したがって、本実施例の方法により
磁気ヘッドを製造した場合には、従来ヘッドに比べて電
磁変換特性を０．５ｄＢ向上させることができる。
ｈ1 が３０μｍになるとトラック幅Ｔｗは１０μｍ変化
する。一方、本実施例の方法では、ギャップ深さｈ2 が
３０μｍになってもトラック幅Ｔｗはわずか２μｍ以内
の変化にすぎない。したがって、本実施例の方法により
磁気ヘッドを製造した場合には、従来ヘッドに比べて電
磁変換特性を０．５ｄＢ向上させることができる。
【００３５】また、前述のようにトラック幅規制溝加
工、鏡面研磨加工を順次施した後、各磁気コア基板１，
２の一主面１ａ，２ａに金属磁性膜１０，１１をそれぞ
れ成膜し、その金属磁性膜１０，１１上にギャップ膜を
成膜して、各磁気コア基板１，２をガラス接合してチッ
プ切断すれば、図７に示す如きＭＩＧヘッドが形成され
る。つまり、前述の製造工程のうち、鏡面研磨工程とギ
ャップ膜成膜工程の間に金属磁性膜成膜工程を入れるの
みで、簡単にＭＩＧヘッドを製造することができる。な
お、ギャップ膜は、各磁気コア基板１，２に形成された
金属磁性膜１０，１１の両方に成膜されていてもよい
が、いずれか一方にのみ形成されていてもよい。
工、鏡面研磨加工を順次施した後、各磁気コア基板１，
２の一主面１ａ，２ａに金属磁性膜１０，１１をそれぞ
れ成膜し、その金属磁性膜１０，１１上にギャップ膜を
成膜して、各磁気コア基板１，２をガラス接合してチッ
プ切断すれば、図７に示す如きＭＩＧヘッドが形成され
る。つまり、前述の製造工程のうち、鏡面研磨工程とギ
ャップ膜成膜工程の間に金属磁性膜成膜工程を入れるの
みで、簡単にＭＩＧヘッドを製造することができる。な
お、ギャップ膜は、各磁気コア基板１，２に形成された
金属磁性膜１０，１１の両方に成膜されていてもよい
が、いずれか一方にのみ形成されていてもよい。
【００３６】上記金属磁性膜１０，１１には、例えば従
来より公知の高飽和磁束密度且つ軟磁気特性に優れた強
磁性金属材料が使用され、結晶質、非晶質を問わない。
来より公知の高飽和磁束密度且つ軟磁気特性に優れた強
磁性金属材料が使用され、結晶質、非晶質を問わない。
【００３７】例示するならば、Ｆｅ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ｃ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等の結晶質材や、Ｃｏ−Ｚ
ｒ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｐｄ
−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｐｄ−Ｒｕ等のアモルファス合金
が挙げられる。
系合金、Ｆｅ−Ｃ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ
−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等の結晶質材や、Ｃｏ−Ｚ
ｒ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｐｄ
−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｐｄ−Ｒｕ等のアモルファス合金
が挙げられる。
【００３８】もちろん、一般に使用されるアモルファス
合金（例えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏのうち１以上の元素と、
Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉのうち１以上の元素とからなる合金、
またこれを主成分としたＡｌ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍ
ｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金
等のメタルーメタロイド系、或いはＣｏ−Ｚｒ，Ｃｏ−
Ｈｆ等の遷移元素を主成分とする合金、またはこれらに
希土類元素を添加した合金等のメタルーメタル系アモル
ファス合金）等も使用可能である。
合金（例えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏのうち１以上の元素と、
Ｐ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉのうち１以上の元素とからなる合金、
またこれを主成分としたＡｌ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍ
ｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金
等のメタルーメタロイド系、或いはＣｏ−Ｚｒ，Ｃｏ−
Ｈｆ等の遷移元素を主成分とする合金、またはこれらに
希土類元素を添加した合金等のメタルーメタル系アモル
ファス合金）等も使用可能である。
【００３９】また、上記金属磁性膜１０，１１は単層の
膜であってもよいが、高周波領域での渦電流損失を低減
させるために、薄膜の金属磁性層と非磁性絶縁層を交互
に積層してなる積層膜構造としてもよい。この場合、非
磁性絶縁層には、例えばＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ａｌ2
Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 等の如き材料よりなる膜が
使用できる。
膜であってもよいが、高周波領域での渦電流損失を低減
させるために、薄膜の金属磁性層と非磁性絶縁層を交互
に積層してなる積層膜構造としてもよい。この場合、非
磁性絶縁層には、例えばＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，Ａｌ2
Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 等の如き材料よりなる膜が
使用できる。
【００４０】また、金属磁性膜１０，１１を成膜するに
は、従来より公知の手段が採用できる。例えば、真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の
如き真空薄膜形成手段が挙げられる。
は、従来より公知の手段が採用できる。例えば、真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の
如き真空薄膜形成手段が挙げられる。
【００４１】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の方法によれば、トラック幅規制溝加工と鏡面研磨加
工を行う際の基準面が同じであるため、従来基準面出し
作業を２度行っていたものを省略することができ、その
加工に要する工程の削減を図ることができると共に、基
準面出しの作業ばらつきが無く、トラック幅規制溝深さ
寸法を安定なものとすることができる。
明の方法によれば、トラック幅規制溝加工と鏡面研磨加
工を行う際の基準面が同じであるため、従来基準面出し
作業を２度行っていたものを省略することができ、その
加工に要する工程の削減を図ることができると共に、基
準面出しの作業ばらつきが無く、トラック幅規制溝深さ
寸法を安定なものとすることができる。
【００４２】また、本発明の方法によれば、トラック幅
規制溝がギャップに対して垂直ではなく、傾斜を持つト
ラック幅規制溝を施した場合でもギャップ深さが変化し
てもトラック幅の変化が少ない磁気ヘッドを製造するこ
とができる。したがって、磁気ギャップ近傍部の磁気コ
アボリュームを確保した電磁変換特性に優れた磁気ヘッ
ドを提供できる。
規制溝がギャップに対して垂直ではなく、傾斜を持つト
ラック幅規制溝を施した場合でもギャップ深さが変化し
てもトラック幅の変化が少ない磁気ヘッドを製造するこ
とができる。したがって、磁気ギャップ近傍部の磁気コ
アボリュームを確保した電磁変換特性に優れた磁気ヘッ
ドを提供できる。
【００４３】また、本発明の方法によれば、鏡面研磨加
工後に、その研磨面上に金属磁性膜を成膜することで、
簡単に高出力のＭＩＧヘッドを製造することができる。
工後に、その研磨面上に金属磁性膜を成膜することで、
簡単に高出力のＭＩＧヘッドを製造することができる。
【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。
示すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。
【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、トラック幅規制溝形成工程を示す斜視図で
ある。
示すもので、トラック幅規制溝形成工程を示す斜視図で
ある。
【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、ガラス接合工程を示す斜視図である。
示すもので、ガラス接合工程を示す斜視図である。
【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を順次
示すもので、チップ切断した状態を示す磁気ヘッドの斜
視図である。
示すもので、チップ切断した状態を示す磁気ヘッドの斜
視図である。
【図５】巻線溝を両方の磁気コアに形成した磁気ヘッド
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図６】磁気ギャップの両側を傾斜させたトラック幅規
制溝を有した磁気ヘッドの斜視図である。
制溝を有した磁気ヘッドの斜視図である。
【図７】ＭＩＧヘッドの斜視図である。
【図８】従来の方法によりトラック幅規制溝を形成した
例を示すもので、（ａ）は磁気コア基板に形成したトラ
ック幅規制溝の平面図、（ｂ）はその断面図である。
例を示すもので、（ａ）は磁気コア基板に形成したトラ
ック幅規制溝の平面図、（ｂ）はその断面図である。
【図９】本発明の方法によりトラック幅規制溝を形成し
た例を示すもので、（ａ）は磁気コア基板に形成したト
ラック幅規制溝の平面図、（ｂ）はその断面図である。
た例を示すもので、（ａ）は磁気コア基板に形成したト
ラック幅規制溝の平面図、（ｂ）はその断面図である。
【図１０】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、（ａ）は一方の磁気コア基板に巻線
溝を形成する工程を示す斜視図、（ｂ）は溝加工をしな
い磁気コア基板の作成工程を示す斜視図である。
を順次示すもので、（ａ）は一方の磁気コア基板に巻線
溝を形成する工程を示す斜視図、（ｂ）は溝加工をしな
い磁気コア基板の作成工程を示す斜視図である。
【図１１】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、トラック幅規制溝加工工程を示す斜
視図である。
を順次示すもので、トラック幅規制溝加工工程を示す斜
視図である。
【図１２】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、鏡面研磨加工工程を示す斜視図であ
る。
を順次示すもので、鏡面研磨加工工程を示す斜視図であ
る。
【図１３】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、ガラス接合工程を示す斜視図であ
る。
を順次示すもので、ガラス接合工程を示す斜視図であ
る。
【図１４】従来の方法により磁気ヘッドを製造する工程
を順次示すもので、チップ切断した状態を示す磁気ヘッ
ドの斜視図である。
を順次示すもので、チップ切断した状態を示す磁気ヘッ
ドの斜視図である。
１，２ 磁気コア基板 ３ 巻線溝 ４ 回転砥石 ５，６ トラック幅規制溝 ７ 融着ガラス ８，９ 磁気コア １０，１１ 金属磁性膜
Claims (2)
- 【請求項１】 一対の磁気コア基板のうち少なくとも一
方の磁気コア基板の一主面にコイルを巻回させる巻線溝
を形成する工程と、 これら磁気コア基板を水平に並べ、回転砥石を両磁気コ
ア基板の一主面に対して近接する方向と離隔する方向に
上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒体摺動面近
傍部分のみにトラック幅規制溝を、これら磁気コア基板
同時に形成する工程と、 磁気コア基板を水平に並べた状態で、上記トラック幅規
制溝が形成された磁気コア基板の一主面をそれぞれ鏡面
研磨する工程と、 少なくとも一方の鏡面研磨された磁気コア基板の一主面
にギャップ膜を成膜する工程と、 各磁気コア基板にそれぞれ形成されたトラック幅規制溝
を相対向させてトラック位置合わせしながらこれら磁気
コア基板同士を突き合わせガラスにて接合一体化する工
程と、 接合一体化されたブロックより所定の大きさにチップ切
断する工程とを有してなる磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 一対の磁気コア基板のうち少なくとも一
方の磁気コア基板の一主面にコイルを巻回させる巻線溝
を形成する工程と、 これら磁気コア基板を水平に並べ、回転砥石を両磁気コ
ア基板の一主面に対して近接する方向と離隔する方向に
上下動させながら磁気記録媒体と摺接する媒体摺動面近
傍部分のみにトラック幅規制溝を、これら磁気コア基板
同時に形成する工程と、 磁気コア基板を水平に並べた状態で、上記トラック幅規
制溝が形成された磁気コア基板の一主面をそれぞれ鏡面
研磨する工程と、 鏡面研磨された一対の磁気コア基板の一主面にそれぞれ
金属磁性膜を成膜する工程と、 少なくとも一方の金属磁性膜上にギャップ膜を成膜する
工程と、 各磁気コア基板にそれぞれ形成されたトラック幅規制溝
を相対向させてトラック位置合わせしながらこれら磁気
コア基板同士を突き合わせガラスにて接合一体化する工
程と、 接合一体化されたブロックより所定の大きさにチップ切
断する工程とを有してなる磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1513294A JPH07225907A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1513294A JPH07225907A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225907A true JPH07225907A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11880303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1513294A Pending JPH07225907A (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07225907A (ja) |
-
1994
- 1994-02-09 JP JP1513294A patent/JPH07225907A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030708 |