JPH09223302A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アジマス角があっても接合基板に対して垂直
にスライシングすることを課題とする。 【解決手段】 本発明の磁気ヘッドの製造方法は、金属
磁性膜２０が成膜された成膜基板２１にアジマス角θを
設けて複数枚積層して接合一体化して接合基板２３を形
成する工程と、接合基板２３のスライシング面２３ａ，
２３ｂにアジマス角θに対応した傾斜面３０ａとアジマ
ス角θを解消する垂直面３０ｂが形成された仮止めブロ
ック３０，３０を配して、後工程で接合される磁気コア
半体ブロック２４，２５をスライシングする工程とを備
える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレ
コーダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録
再生装置に搭載して好適な磁気ヘッド及びその製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダーやデジ
タルオーディオテープレコーダー等の磁気記録再生装置
においては、高画質化等を目的として情報信号の短波長
記録化が進められており、これに対応して磁性粉に強磁
性金属粉末を用いた、いわゆるメタルテープや、ベース
フィルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ
等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってき
ている。

【０００３】一方、これに対処すべく磁気ヘッドの分野
においても研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒
体を可能ならしめるため、コア材料に金属磁性材料を用
いるとともに狭トラック化を図った磁気ヘッドが開発さ
れている。

【０００４】このような磁気ヘッドの代表的なものとし
て、非磁性材料よりなる基板で高透磁率かつ高飽和磁束
密度を有する金属磁性膜を挟み込んでなる磁気コア半体
を、突き合わせガラス融着により接合一体化した、いわ
ゆるラミネートタイプの磁気ヘッドが知られている。

【０００５】このようなラミネートタイプの磁気ヘッド
は、金属磁性膜の膜厚が、すなわち磁気ギャップのトラ
ック幅となるものであるから、当該金属磁性膜を制御す
ることで簡単に狭トラック化が図れること、及び構造的
に擬似ギャップが発生しないこと、さらに製造工程が簡
単であることなど、種々の利点を有する。

【０００６】そして、このようなラミネートタイプの磁
気ヘッドの製造方法を概説すると、先ず、非磁性基板の
金属磁性膜形成面に金属磁性膜をスパッタリング法等に
よる真空薄膜形成法により所定の厚さに成膜した成膜基
板を作る。

【０００７】次に、金属磁性膜が形成された短冊状の成
膜基板を所定のアジマス角を設けて複数枚積層して接合
一体化して接合基板を形成する。

【０００８】そして、このアジマス角が設けられて作製
された接合基板に対して、そのスライシング面から平行
になるように磁気コア半体ブロックを砥石によりスライ
シングする。

【０００９】次いで、少なくとも一方の磁気コア半体ブ
ロックにコイルを巻装するための巻線溝を形成して、磁
気コア半体ブロック同士を突き合わせる。そして、この
磁気コア半体ブロック同士を突き合わせた磁気コアブロ
ックを所定の大きさの磁気ヘッドチップに切断すること
により、磁気ヘッドが完成する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の磁
気ヘッドの製造方法においては、所定のアジマス角が設
けられて作製された接合基板から磁気コア半体ブロック
を平行にスライシングする工程がある。

【００１１】かかるスライシング工程は、切り出された
磁気コア半体ブロックの平行度が低下すると、この平行
度は最終的にトラック精度に影響して、製造された磁気
ヘッドはトラックのずれが生じる原因となるために、高
精度が要求される工程である。

【００１２】しかしながら、従来の磁気ヘッドの製造方
法では、接合基板のスライシング面も上記アジマス角に
よる傾斜面とされているために、この接合基板から磁気
コア半体ブロックを平行にスライシングしようとして
も、スライシングに使用される砥石がその切り込み時に
振れてしまい、砥石が接合基板に対して垂直にスライシ
ングすることができないという問題を有していた。

【００１３】そこで、本発明は、このような実情に鑑み
て提案されたものであって、アジマス角があっても接合
基板に対して垂直にスライシングすることができるよう
にして、磁気コア半体ブロックの平行度が高められた磁
気ヘッドの製造方法を提供することを課題とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は、上記課題を解決するために、金属磁性膜を一
対の非磁性基板により挟み込んでなる一対の磁気コア半
体を上記金属磁性膜の端面が対向するように突合わせて
接合一体化しその突き合わせ面間に磁気ギャップを形成
してなる磁気ヘッドの製造方法において、金属磁性膜が
成膜された成膜基板にアジマス角を設けて複数枚積層し
て接合一体化して接合基板を形成する工程と、接合基板
のスライシング面にアジマス角に対応した傾斜面とアジ
マス角を解消する垂直面が形成された仮止めブロックを
配して、後工程で接合される磁気コア半体ブロックをス
ライシングする工程とを備えたことを特徴とする。

【００１５】また、金属磁性膜が成膜された成膜基板に
アジマス角を設けて複数枚積層して接合一体化して接合
基板を形成する際に、この接合基板のスライシング面と
なる両側に各々仮止めブロックを一体に取り付けること
を特徴とする。

【００１６】また、仮止めブロックが一対の非磁性基板
の材質と同じ材質であることを特徴とする。

【００１７】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、接合基
板のスライシング面にアジマス角に対応した傾斜面とア
ジマス角を解消する垂直面が形成された仮止めブロック
を配することにより、スライシングに使用される砥石が
接合基板に対して垂直にスライシングすることができる
ようになり、従来方法のようなスライング時の砥石の振
れが防止される。

【００１８】そして、接合基板のスライシング面となる
両側に各々仮止めブロックを一体に取り付けることによ
り、スライシング時の仮止めブロックのずれが防止され
る。

【００１９】さらに、仮止めブロックが一対の非磁性基
板の材質と同じ材質であることにより、材質の違いによ
る加工状態の変化を最小限に抑制することができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説
明する。

【００２１】まず、本実施の形態の磁気ヘッドの構成に
ついて説明する。

【００２２】本発明が適用される磁気ヘッドは、いわゆ
るラミネートタイプの磁気ヘッドである。この磁気ヘッ
ドは、図１に示すように、金属磁性膜３が膜厚方向より
一対の非磁性基板１１，１２により挟み込まれてなる磁
気コア半体１と、同様に金属磁性膜４が膜厚方向より一
対の非磁性基板１３，１４により挟み込まれてなる磁気
コア半体２が、上記金属磁性膜３，４を突き合わせるよ
うにして接合一体化されたものである。そして、上記金
属磁性膜３，４の突き合わせ面間には、磁気ギャップｇ
が形成され、該金属磁性膜３，４により閉磁路が構成さ
れている。

【００２３】このような磁気ヘッドは、金属磁性膜３，
４の膜厚が、すなわち磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗ
となるものであるから、当該金属磁性膜３，４を制御す
ることで簡単に狭トラック化が図れること、及び構造的
に擬似ギャップが発生しないこと、さらに後述する製造
工程が簡単であることなど、種々の利点を有するもので
ある。

【００２４】金属磁性膜３、４は、各種強磁性材料の他
に、例えば高飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性に優
れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強磁性合材
料としては従来より公知の物がいずれも使用でき、結晶
質であるか、非晶質であるかを問わない。

【００２５】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合金、Ｆｅ−Ｓ
ｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合
金等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の一
層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎ
ｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，
Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種を添加
したものであってもよい。

【００２６】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上
の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素からなる合
金、またはこれらを主成分としてＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタルーメタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタルーメタル系アモルファス
合金）等が挙げられる。

【００２７】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、膜厚制御性に優れるスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビーム法等に代表
される真空薄膜形成技術が採用される。

【００２８】なお、上記基板に成膜する金属磁性膜３，
４は、単層に限らず、高周波帯域での渦電流損失を回避
するために金属磁性膜と絶縁層を交互に何層にも積層し
た、いわゆる積層膜であってもよい。

【００２９】また、上記非磁性基板１１、１２、１３、
１４は、一般的には非磁性フェライト、酸化ジルコニウ
ム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミ
ック、チタン酸系セラミック等、或いは、その接合材が
用いられる。しかし、磁気記録媒体に対する耐摩耗性が
あるものならば特に材料を限定するものではない。

【００３０】また、上記磁気ヘッドにおいては、一方の
磁気コア半体２の対向面に、その一端により磁気ギャッ
プｇのデプス（深さ）Ｄｐを規制するとともに、図示し
ないコイルを巻装するための巻線窓８が設けられてい
る。この巻線窓８は、磁気コア半体１の突き合わせ面の
中途部で矩形状の孔として磁気ヘッドの厚さ方向に貫通
して形成されている。

【００３１】次に、上述の片窓タイプの磁気ヘッドの製
造方法について説明する。

【００３２】一般に磁気ヘッドには、一対の磁気コア半
体のうちの片方の磁気コア半体にのみ巻線窓を設けた片
窓タイプの磁気ヘッドと、一対の磁気コア半体の両方の
磁気コア半体に巻線窓を設けた両窓タイプの磁気ヘッド
の２種類がある。本発明は、この２種類のどちらのタイ
プの磁気ヘッドでも製作することができるが、片窓タイ
プの磁気ヘッドの方が比較的簡単に製作することができ
る。以下、片窓タイプの磁気ヘッドの製造例について説
明する。

【００３３】先ず、図２に示すように、非磁性基板２０
に鏡面加工を行った後、この非磁性基板２０の金属磁性
膜形成面に金属磁性膜２１をスパッタリング法等による
真空薄膜形成法により所定の厚さに成膜した成膜基板２
２を作る。

【００３４】次に、図３に示すように、上記金属磁性膜
２１が形成された短冊状の成膜基板２１にアジマス角θ
を設けて複数枚積層して接合一体化して、接合基板２３
を形成する。

【００３５】次いで、図４に示すように、接合基板２３
のスラシシング面２３ａ，２３ｂに仮止めブロック３
０，３０を配して、Ａ−Ａ、Ｂ−Ｂ、Ｃ−Ｃ、Ｄ−Ｄ、
Ｅ−Ｅ線に沿って平行にスライシングする。

【００３６】上記仮止めブロック３０，３０は、上記ア
ジマス角θを設けて作製した接合基板２３に対して砥石
が垂直に切り込むようにするためのもので、本実施の形
態では、接合基板２３とは別個に設けられるものであ
る。

【００３７】すなわち、この仮止めブロック３０，３０
は、図４に示すように、アジマス角θ１に対応した角度
θが形成されるとともに接合基板２３のスラシシング面
２３ａ，２３ｂを完全に覆う傾斜面３０ａと、アジマス
角θを解消して砥石が接合基板２３に対して垂直に切り
込むようにするための垂直面３０ｂとが形成された台形
状を呈してなる。

【００３８】この台形状の仮止めブロック３０，３０の
材質は、一対の非磁性基板１１，１２，１３，１４とな
る非磁性基板２１の材質と同じ材質であることが好まし
い。すなわち、本実施の形態においては、非磁性フェラ
イト、酸化ジルコニウム系セラミック等が用いられる。
これは、材質の違いによる加工状態の変化を最小限に抑
制するためである。

【００３９】本実施の形態においては、このように、接
合基板２３のスライシング面２３ａ，２３ｂである砥石
の進入側面２３ａと砥石の出口側面２３ｂに上記構成の
仮止めブロック３０，３０を配した後に、Ａ−Ａ、Ｂ−
Ｂ、Ｃ−Ｃ、Ｄ−Ｄ、Ｅ−Ｅ線に沿って砥石によりスラ
イシングするものであるから、砥石の振れが生じるよう
なことがなく、高い平行度をもつ磁気コア半体ブロック
２４，２５が切り出される。

【００４０】本実施の形態では、図４中、Ａ−Ａ，Ｂ−
Ｂ線とＣ−Ｃ，Ｄ−Ｄ線に沿ってスライシングすると、
磁気コア半体ブロック２４が切り出され、他方、図４
中、Ｂ−Ｂ，Ｃ−Ｃ線とＤ−Ｄ，Ｅ−Ｅ線に沿ってスラ
イシングすると、磁気コア半体ブロック２５が切り出さ
れる。

【００４１】そして、上記のようにしてスライシングし
た後は、スライシングにより残った部分の仮止めブロッ
ク３０，３０を除去する。

【００４２】ここで、仮止めブロックとしては、上記構
成のもに限定されず、アジマス角θを解消する面が形成
されたものであれば良い。したがって、例えば、図９及
び図１０に示すように、接合基板２３のスライシング面
２３ａ，２３ｂとなる両側に各々仮止めブロック３１，
３１を一体に形成するようなものであっても良い。

【００４３】この図９及び図１０に示す接合基板３３
は、金属磁性膜３，４が成膜された短冊状の成膜基板２
２にアジマス角θを設けて複数枚積層して接合一体化し
て接合基板２３を形成する際に、この接合基板３３を構
成する各成膜基板２２と略々同じ大きさの仮止めブロッ
ク３１，３１が一体的に取り付けられるものである。

【００４４】すなわち、上記各仮止めブロック３１，３
１は、成膜基板２２の両端部に配されて、アジマス角θ
に対応した角度が形成された傾斜面３１ａと、アジマス
角θを解消して砥石が接合基板２３に対して垂直に切り
込むようにするための垂直面３１ｂとが形成された台形
状を呈してなり、略々同じ大きさの成膜基板２２と一体
となされている。

【００４５】そして、この実施の形態では、このように
仮止めブロック３１，３１が接合基板３３に一体に取り
付けられるものであるから、この仮止めブロック３１，
３１の材質は一対の非磁性基板１１，１２，１３，１４
となる非磁性基板２１の材質と同じ材質であるようにさ
れている。

【００４６】本実施の形態では、この仮止めブロック３
１，３１が取り付けられた接合基板３３の外形形状は、
略々正確な長方形となり、したがって、この長方形の接
合基板３３から磁気コア半体ブロック２４，２５を図１
０中Ａ−Ａ、Ｂ−Ｂ、Ｃ−Ｃ、Ｄ−Ｄ、Ｅ−Ｅ線に沿っ
てそのまま砥石によりスライシングすると、接合基板３
３に仮止めブロック３１，３１が一体に取り付けられて
いるために、スライシングの際に仮止めブロック３１，
３１がずれるようなことがない。

【００４７】よって、仮止めブロック３１，３１が一体
に取り付けられた接合基板３３をスライシングする際
に、砥石の振れが生じるようなことがなく、高い平行度
をもつ磁気コア半体ブロック２４，２５が切り出され
る。

【００４８】次いで、上記のようにして接合基板２３か
らスライシングした磁気コア半体ブロック２４，２５一
方（２４）に、図５に示すように、その磁気ギャップ形
成面となる面に、後工程においてコイルを巻装するため
の矩形状の巻線溝８を長手方向に形成する。

【００４９】他方、上記磁気コアブロック２４と対とな
る他方の磁気コアブロック２５には、上記巻線窓８は形
成せず、他は同様に製作する。すなわち、図３を用いて
説明した磁気コア半体ブロック２３の切断に際して、略
対称な一対の磁気コア半体ブロック２５を用意してお
く。

【００５０】次いで、この一対の磁気コア半体ブロック
２４，２５の突き合わ面を鏡面仕上げした後、図６に示
すように、これらの磁気コア半体ブロック２４，２５を
突き合わせる。この磁気コア半体ブロック２４，２５を
突き合わせる際には、それぞれの金属磁性膜３，４の位
置合わせを行い、磁気コア半体１，２を突き合わせ面に
ギャップ膜として機能するギャップスペーサを介在させ
て接合一体化する。この結果、突き合わされた金属磁性
膜３，４間に磁気ギャップｇが形成される。

【００５１】次いで、図７に示すように、これら一対の
磁気コア半体ブロック２４，２５を接合してできた磁気
コアブロック２６に対し、磁気記録媒体との当たりを確
保するために円筒研磨を施す。

【００５２】最後に、図８に示すように、磁気コアブロ
ック２６に当たり幅規制溝９を入れて、図８中矢印方向
から切断すると、図１に示す本実施例の磁気ヘッドが完
成する。

【００５３】ここで、各部材の接合には、従来公知の接
合方法が使用可能であり、例示するならば低温熱拡散接
合（接合面にそれぞれ設けられた貴金属層同士の熱拡散
により接合する方法）、ガラス接合等による接合が挙げ
られる。

【００５４】

【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、
接合基板のスライシング面にアジマス角に対応した傾斜
面とアジマス角を解消する垂直面が形成された仮止めブ
ロックを配することにより、スライングに使用される砥
石が接合基板に対して垂直にスライシングすることがで
きるようになり、従来のような砥石の振れが防止され
る。

【００５５】したがって、スライシングされた磁気コア
半体ブロックの平行度は高くなり、その結果、製造され
た磁気ヘッドは、安定且つ高精度にトラックを形成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用して製造される磁気ヘッドの一例
を示す斜視図である。

【図２】本発明に適用した磁気ヘッドの実施の形態を製
造する方法を工程順に示すもので、非磁性基板に金属磁
性膜を成膜する工程を示す斜視図である。

【図３】上記成膜基板を接合して接合基板を作製する工
程を示す斜視図である。

【図４】接合基板のスライシング面に仮止めブロックを
配してスライシングする工程を示す側面図である。

【図５】磁気コア半体ブロックに巻線溝加工を施す工程
を示す斜視図である。

【図６】磁気コア半体ブロック同士を突き合わせる工程
を示す斜視図である。

【図７】磁気コアブロックの円筒研削工程を示す斜視図
である。

【図８】磁気コア半体ブロックに当たり幅規制溝を入
れ、磁気ヘッドチップに切断する工程を示す斜視図であ
る。

【図９】本発明が適用される他の実施の形態に係る仮止
めブロックが一体的に形成された接合基板を示す斜視図
である。

【図１０】上記仮止めブロックが一体的に形成された接
合基板をスライシングする工程を示す側面図である。

【符号の説明】

１，２ 磁気コア半体 ３，４ 金属磁性膜 ８ 巻線窓（巻線溝） １１，１２，１３，１４，２０ 非磁性基板 ２３ 接合基板 ２３ａ，２３ｂ 接合基板のスラシシング面 ２４，２５ 磁気コア半体ブロック ２６ 磁気コアブロック ３０，３１ 仮止めブロック ３０ａ，３１ａ 仮止めブロックの傾斜面 ３０ｂ，３１ｂ 仮止めブロックの垂直面 ３３ 仮止めブロックが一体に取り付けられた接合基板 θ アジマス角 ｇ 磁気ギャップ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 金属磁性膜を一対の非磁性基板により挟
   み込んでなる一対の気コア半体を上記金属磁性膜の端面
   が対向するように突合わせて接合一体化しその突き合わ
   せ面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドの製造
   方法において、 金属磁性膜が成膜された成膜基板にアジマス角を設けて
   複数枚積層して接合一体化して接合基板を形成する工程
   と、 接合基板のスライシング面にアジマス角に対応した傾斜
   面とアジマス角を解消する垂直面が形成された仮止めブ
   ロックを配して、後工程で接合される磁気コア半体ブロ
   ックをスライシングする工程とを備えたことを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 金属磁性膜が成膜された成膜基板をアジ
   マス角を設けて複数枚積層して接合一体化して接合基板
   を形成する際に、この接合基板のスライシング面となる
   両側に各々仮止めブロックを一体に取り付けることを特
   徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 仮止めブロックが一対の非磁性基板の材
   質と同じ材質であることを特徴とする請求項１記載の磁
   気ヘッドの製造方法。