JPH10302214A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH10302214A JPH10302214A JP10777597A JP10777597A JPH10302214A JP H10302214 A JPH10302214 A JP H10302214A JP 10777597 A JP10777597 A JP 10777597A JP 10777597 A JP10777597 A JP 10777597A JP H10302214 A JPH10302214 A JP H10302214A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- grinding
- winding
- metal
- final
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 積層型磁気ヘッドの研削加工時の加工抵抗を
低減して金属磁性膜の剥離発生を防止し、加工面の延面
性を確保する。 【解決手段】 磁気コア半体１、２は非磁性ガード材１
１、１２、１３、１４と、それに挟持された金属磁性膜
６、７とからなり、金属磁性膜６、７の端部の突き合わ
せ部位で磁気ギャップｇが構成されている。また、磁気
コア半体１、２の突き合わせ面には、コイルを巻くため
の巻線窓８が形成されている。巻線窓８を形成する巻線
溝の研削加工は、巻線溝最終切込み寸法をＴ、巻線溝最
終仕上げ切込み寸法をＳとし、切り込み代（Ｔ−Ｓ）に
対してＭ（Ｍ≧２）の研削回数で研削加工を行う場合、
一回毎に切り込む寸法を（Ｔ−Ｓ）／Ｍとし、Ｍ回全て
を同一の砥石を用いて行う。また、巻線溝最終仕上げ切
込み寸法Ｓとして１μｍ以上、３μｍ以下の量を残す。
低減して金属磁性膜の剥離発生を防止し、加工面の延面
性を確保する。 【解決手段】 磁気コア半体１、２は非磁性ガード材１
１、１２、１３、１４と、それに挟持された金属磁性膜
６、７とからなり、金属磁性膜６、７の端部の突き合わ
せ部位で磁気ギャップｇが構成されている。また、磁気
コア半体１、２の突き合わせ面には、コイルを巻くため
の巻線窓８が形成されている。巻線窓８を形成する巻線
溝の研削加工は、巻線溝最終切込み寸法をＴ、巻線溝最
終仕上げ切込み寸法をＳとし、切り込み代（Ｔ−Ｓ）に
対してＭ（Ｍ≧２）の研削回数で研削加工を行う場合、
一回毎に切り込む寸法を（Ｔ−Ｓ）／Ｍとし、Ｍ回全て
を同一の砥石を用いて行う。また、巻線溝最終仕上げ切
込み寸法Ｓとして１μｍ以上、３μｍ以下の量を残す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダやデジタルオーディオテープレコーダ等の高
密度記録が可能な記録再生装置に適する磁気ヘッドの製
造方法に関する。
プレコーダやデジタルオーディオテープレコーダ等の高
密度記録が可能な記録再生装置に適する磁気ヘッドの製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、例えばビデオテープレコーダやデ
ジタルオーディオテープレコーダ等の記録再生装置にお
いては、高画質化等を目的として情報信号の短波長化が
進められており、これに対応して磁性粉に強磁性金属粉
末を用いた、所謂メタルテープや、ベースフィルム上に
強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の高抗磁力
磁気記録媒体が使用されるようになってきている。
ジタルオーディオテープレコーダ等の記録再生装置にお
いては、高画質化等を目的として情報信号の短波長化が
進められており、これに対応して磁性粉に強磁性金属粉
末を用いた、所謂メタルテープや、ベースフィルム上に
強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の高抗磁力
磁気記録媒体が使用されるようになってきている。
【０００３】一方、磁気ヘッドの分野においても、高抗
磁力磁気記録媒体に対応した、コア材料に金属磁性材料
を用いると共に狭トラック化を図った磁気ヘッドの開発
が行われている。かかる磁気ヘッドとしては、非磁性材
料よりなる基板で高透磁率、且つ、高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を挟み込んでなる磁気コア半体を、突き
合わせガラス融着により接合一体化した、所謂ラミネー
トタイプの磁気ヘッドが知られている。
磁力磁気記録媒体に対応した、コア材料に金属磁性材料
を用いると共に狭トラック化を図った磁気ヘッドの開発
が行われている。かかる磁気ヘッドとしては、非磁性材
料よりなる基板で高透磁率、且つ、高飽和磁束密度を有
する金属磁性膜を挟み込んでなる磁気コア半体を、突き
合わせガラス融着により接合一体化した、所謂ラミネー
トタイプの磁気ヘッドが知られている。
【０００４】図１に例示した磁気ヘッドについて説明す
ると、磁気コアは閉磁路を構成する一対の磁気コア半体
１および磁気コア半体２が突き合わされて接合一体化さ
れ、磁気記録媒体摺動面３に磁気ギャップｇを形成して
いる。前記磁気コア半体１、２は非磁性ガード材１１、
１２、１３、１４と、金属磁性膜６、７とからなり、金
属磁性膜６、７は非磁性ガード材１１、１２、１３、１
４によって挟み込まれている。
ると、磁気コアは閉磁路を構成する一対の磁気コア半体
１および磁気コア半体２が突き合わされて接合一体化さ
れ、磁気記録媒体摺動面３に磁気ギャップｇを形成して
いる。前記磁気コア半体１、２は非磁性ガード材１１、
１２、１３、１４と、金属磁性膜６、７とからなり、金
属磁性膜６、７は非磁性ガード材１１、１２、１３、１
４によって挟み込まれている。
【０００５】磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗは、金属
磁性膜６、７が非磁性ガード材１１、１２、１３、１４
によって挟み込まれているため、金属磁性膜６、７の膜
厚によって規制される。また、磁気コア半体１、２の突
き合わせ面では、当該磁気ギャップｇのフロントデプス
Ｄｐを規制すると共に、コイルを巻回させるための巻線
窓８が形成されている。
磁性膜６、７が非磁性ガード材１１、１２、１３、１４
によって挟み込まれているため、金属磁性膜６、７の膜
厚によって規制される。また、磁気コア半体１、２の突
き合わせ面では、当該磁気ギャップｇのフロントデプス
Ｄｐを規制すると共に、コイルを巻回させるための巻線
窓８が形成されている。
【０００６】上述した磁気ヘッドは、金属磁性膜６、７
の膜厚が磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗとなるもので
あるから、当該金属磁性膜６、７の膜厚を制御すること
で簡単に狭トラック化が図れること、および構造的に擬
似ギャップが発生しないこと、更に製造工程が簡単であ
ることなど、種々の利点を有している。
の膜厚が磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗとなるもので
あるから、当該金属磁性膜６、７の膜厚を制御すること
で簡単に狭トラック化が図れること、および構造的に擬
似ギャップが発生しないこと、更に製造工程が簡単であ
ることなど、種々の利点を有している。
【０００７】しかしながら、従来、この形態の磁気ヘッ
ドはその製造方法においては磁気コア半体１、２に巻線
窓８を構成する巻線溝〔図５（ａ）の符号８ａ〕を形成
する際、研削砥石が金属磁性膜６、７に対し垂直に研削
されるために金属磁性膜６、７と磁気コア半体１、２間
で、または金属磁性膜６、７が積層構造である場合は積
層内で剥離するという問題があった。これは研削する際
の加工抵抗が大きいために生ずるものであり、この加工
抵抗を低減するために砥石の砥粒径を大きくすると研削
加工面は脆性面となり、金属磁性膜６、７が積層構造で
ある場合は積層構造の絶縁効果が低下することになる。
ドはその製造方法においては磁気コア半体１、２に巻線
窓８を構成する巻線溝〔図５（ａ）の符号８ａ〕を形成
する際、研削砥石が金属磁性膜６、７に対し垂直に研削
されるために金属磁性膜６、７と磁気コア半体１、２間
で、または金属磁性膜６、７が積層構造である場合は積
層内で剥離するという問題があった。これは研削する際
の加工抵抗が大きいために生ずるものであり、この加工
抵抗を低減するために砥石の砥粒径を大きくすると研削
加工面は脆性面となり、金属磁性膜６、７が積層構造で
ある場合は積層構造の絶縁効果が低下することになる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、積層
型磁気ヘッドの研削加工時の加工抵抗を小さくして、磁
気コアブロックに加わる加工負荷を低減し、金属磁性膜
の剥離発生を低減し、更に金属磁性膜が積層構造である
場合はその絶縁性を確保する。
型磁気ヘッドの研削加工時の加工抵抗を小さくして、磁
気コアブロックに加わる加工負荷を低減し、金属磁性膜
の剥離発生を低減し、更に金属磁性膜が積層構造である
場合はその絶縁性を確保する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
なされたものであり、金属製磁性膜を非磁性ガード材に
挟み込んで形成された、少なくともその一方に巻線溝を
有する２つの磁気コア半体を、その金属磁性膜の端面同
士を対向させて突き合わせ、その突き合わせの面の所定
の部位に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドにおいて、
該磁気ヘッドの巻線溝を、研削加工における最終切り込
み寸法をＴとし、最終研削加工時の仕上げ切り込み寸法
をＳとし、総研削回数をＭ（Ｍ≧２）とし、一回毎に切
り込む寸法をＬとすると、Ｌ＝（Ｔ−Ｓ）／Ｍの関係を
保持して同一の砥石による複数回の研削により形成する
磁気ヘッドの製造方法を提供する。
なされたものであり、金属製磁性膜を非磁性ガード材に
挟み込んで形成された、少なくともその一方に巻線溝を
有する２つの磁気コア半体を、その金属磁性膜の端面同
士を対向させて突き合わせ、その突き合わせの面の所定
の部位に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドにおいて、
該磁気ヘッドの巻線溝を、研削加工における最終切り込
み寸法をＴとし、最終研削加工時の仕上げ切り込み寸法
をＳとし、総研削回数をＭ（Ｍ≧２）とし、一回毎に切
り込む寸法をＬとすると、Ｌ＝（Ｔ−Ｓ）／Ｍの関係を
保持して同一の砥石による複数回の研削により形成する
磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【００１０】前記研削加工に使用する砥石の平均砥粒径
を１５μｍ以下とすること、また、前記最終研削加工時
の仕上げ切り込み寸法Ｓは、１μｍ以上、３μｍ以下と
して上記課題を解決する。
を１５μｍ以下とすること、また、前記最終研削加工時
の仕上げ切り込み寸法Ｓは、１μｍ以上、３μｍ以下と
して上記課題を解決する。
【００１１】本発明の構成によると、磁気コア半体に巻
線溝を形成する際に同一の砥石を用いて複数回の研削を
行い、最終切り込み寸法を１μｍ以上、３μｍ以下とす
ることで加工抵抗の低減ができ、また、切削加工面を延
性面とし、更に、金属磁性膜が積層構造である場合はそ
の絶縁性を確保することができる。
線溝を形成する際に同一の砥石を用いて複数回の研削を
行い、最終切り込み寸法を１μｍ以上、３μｍ以下とす
ることで加工抵抗の低減ができ、また、切削加工面を延
性面とし、更に、金属磁性膜が積層構造である場合はそ
の絶縁性を確保することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例について図
１ないし図１０を参照して説明する。本発明に係わる磁
気ヘッドの磁気コアは図１に示すように、閉磁路を構成
する一対の磁気コア半体１、２が突き合わされ、接合さ
れて構成されている。前記磁気コア半体１、２は非磁性
ガード材１１、１２、１３、１４と、それに挟持された
金属磁性膜６、７とからなり、金属磁性膜６、７の端部
の突き合わせ部位で磁気ギャップｇが構成されている。
１ないし図１０を参照して説明する。本発明に係わる磁
気ヘッドの磁気コアは図１に示すように、閉磁路を構成
する一対の磁気コア半体１、２が突き合わされ、接合さ
れて構成されている。前記磁気コア半体１、２は非磁性
ガード材１１、１２、１３、１４と、それに挟持された
金属磁性膜６、７とからなり、金属磁性膜６、７の端部
の突き合わせ部位で磁気ギャップｇが構成されている。
【００１３】非磁性ガード材１１、１２、１３、１４は
非磁性で所定の熱膨張係数を有し、磁気テープに対する
耐磨耗性を有するものであれば特に材料は限定されな
い。例えば非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラ
ミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、チ
タン酸系セラミック等、或いはその接合材を用いる。
非磁性で所定の熱膨張係数を有し、磁気テープに対する
耐磨耗性を有するものであれば特に材料は限定されな
い。例えば非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラ
ミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、チ
タン酸系セラミック等、或いはその接合材を用いる。
【００１４】磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗは、金属
磁性膜６、７が非磁性ガード材１１、１２、１３、１４
によって挟み込まれているため、金属磁性膜６、７の膜
厚によって規制される。また、磁気コア半体１、２の突
き合わせ面には、コイルを巻くための巻線窓８が形成さ
れている。即ち、前記巻線窓８は磁気コア半体２の突き
合わせ面の磁気記録媒体摺動面３に近い部位において、
磁気ヘッドの厚さ方向に貫通して形成されている。
磁性膜６、７が非磁性ガード材１１、１２、１３、１４
によって挟み込まれているため、金属磁性膜６、７の膜
厚によって規制される。また、磁気コア半体１、２の突
き合わせ面には、コイルを巻くための巻線窓８が形成さ
れている。即ち、前記巻線窓８は磁気コア半体２の突き
合わせ面の磁気記録媒体摺動面３に近い部位において、
磁気ヘッドの厚さ方向に貫通して形成されている。
【００１５】前記金属磁性膜６、７には、各種強磁性材
料の他に、例えば高飽和磁束密度を有し、且つ、軟磁気
特性に優れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強
磁性合金材料としては従来より公知のものがいずれも使
用でき、また、結晶質、非晶質を問わない。
料の他に、例えば高飽和磁束密度を有し、且つ、軟磁気
特性に優れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強
磁性合金材料としては従来より公知のものがいずれも使
用でき、また、結晶質、非晶質を問わない。
【００１６】例えば金属磁性膜６、７の材料として、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ
−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−
Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇ
ａ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｓｉ−Ａｌ系合金等が挙げられる。更には耐蝕性や耐
磨耗性等の一層の向上を図るため、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉ
ｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の中の少なく
とも一種を添加したものであってもよい。
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ
−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−
Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇ
ａ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｓｉ−Ａｌ系合金等が挙げられる。更には耐蝕性や耐
磨耗性等の一層の向上を図るため、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉ
ｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の中の少なく
とも一種を添加したものであってもよい。
【００１７】また、強磁性非晶質金属合金、所謂、アモ
ルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの中の１つ以
上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからな
る合金、またはこれらを主成分としてＡｌ，Ｇｅ，Ｂ
ｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，
Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系ア
モルファス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素
や希土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモル
ファス合金）等が挙げられる。
ルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの中の１つ以
上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからな
る合金、またはこれらを主成分としてＡｌ，Ｇｅ，Ｂ
ｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，
Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系ア
モルファス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素
や希土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモル
ファス合金）等が挙げられる。
【００１８】これら金属磁性膜６、７の成膜方法とし
て、膜厚制御性に優れているスパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法等に代
表される真空薄膜形成技術が採用される。
て、膜厚制御性に優れているスパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法等に代
表される真空薄膜形成技術が採用される。
【００１９】つぎに、本発明に係わる磁気ヘッドの製造
方法について説明する。一般に磁気ヘッドには、磁気コ
ア半体の両方に巻線窓のための溝を設けた、所謂両窓型
と、片方だけに溝を設けた、所謂片窓型の２種類がある
が、本発明の磁気ヘッドの製造方法は両窓型と片窓型と
のいずれの型の磁気ヘッドの製造にも適用できる。ここ
では片窓型の磁気ヘッドの製造について説明する。
方法について説明する。一般に磁気ヘッドには、磁気コ
ア半体の両方に巻線窓のための溝を設けた、所謂両窓型
と、片方だけに溝を設けた、所謂片窓型の２種類がある
が、本発明の磁気ヘッドの製造方法は両窓型と片窓型と
のいずれの型の磁気ヘッドの製造にも適用できる。ここ
では片窓型の磁気ヘッドの製造について説明する。
【００２０】まず、図２に示すような短冊状の非磁性ガ
ード材基板２０に、金属磁性膜２１をスパッタリング法
等により所定の厚みに成膜した成膜基板２２を作成す
る。尚、非磁性ガード材基板２０に成膜する金属磁性膜
２１は単層に限らず、高周波帯域での渦電流損失を回避
するために金属磁性膜と絶縁層とを交互に積層した積層
膜であってもよい。
ード材基板２０に、金属磁性膜２１をスパッタリング法
等により所定の厚みに成膜した成膜基板２２を作成す
る。尚、非磁性ガード材基板２０に成膜する金属磁性膜
２１は単層に限らず、高周波帯域での渦電流損失を回避
するために金属磁性膜と絶縁層とを交互に積層した積層
膜であってもよい。
【００２１】つぎに、図３に示すように複数の成膜基板
２２をアジマス角度θを設けて接合し、接合基板２３を
形成する。
２２をアジマス角度θを設けて接合し、接合基板２３を
形成する。
【００２２】つぎに、図４に示すように前記接合基板２
３を破線で示す位置で切断し、磁気コア半体ブロック２
４、２５を形成する。
３を破線で示す位置で切断し、磁気コア半体ブロック２
４、２５を形成する。
【００２３】つぎに、図５（ａ）に示すように、磁気コ
ア半体ブロック２４のギャップ形成面４０に平面加工を
施すと共に、ギャップ形成面４０にコイルを巻回させる
ための巻線溝８ａを磁気コア半体ブロック２４の全幅に
わたって形成する。一方、同図（ｂ）に示すように磁気
コア半体ブロック２５のギャップ形成面４１に平面加工
を施す。片窓型磁気ヘッドであるため巻線のための溝加
工は必要ない。
ア半体ブロック２４のギャップ形成面４０に平面加工を
施すと共に、ギャップ形成面４０にコイルを巻回させる
ための巻線溝８ａを磁気コア半体ブロック２４の全幅に
わたって形成する。一方、同図（ｂ）に示すように磁気
コア半体ブロック２５のギャップ形成面４１に平面加工
を施す。片窓型磁気ヘッドであるため巻線のための溝加
工は必要ない。
【００２４】その巻線溝８ａの形成の際、図６の側面図
に示すように、巻線溝最終切込み寸法をＴ、巻線溝最終
仕上げ切込み寸法をＳとし、切り込み代（Ｔ−Ｓ）に対
してＭ（Ｍ≧２）の総研削回数で研削加工を行う場合、
一回毎に切り込む寸法を（Ｔ−Ｓ）／Ｍという条件で切
削する。また、Ｍ回の研削全てに同一の砥石を用いるこ
ととする。このとき図７に示すように仕上げのための、
巻線溝最終仕上げ切込み寸法Ｓとして１μｍ以上、３μ
ｍ以下の量を残す。この研削方法が本発明の特徴を成す
ものであり、加工抵抗を低減し、切削加工面の延性面を
確保することができる。
に示すように、巻線溝最終切込み寸法をＴ、巻線溝最終
仕上げ切込み寸法をＳとし、切り込み代（Ｔ−Ｓ）に対
してＭ（Ｍ≧２）の総研削回数で研削加工を行う場合、
一回毎に切り込む寸法を（Ｔ−Ｓ）／Ｍという条件で切
削する。また、Ｍ回の研削全てに同一の砥石を用いるこ
ととする。このとき図７に示すように仕上げのための、
巻線溝最終仕上げ切込み寸法Ｓとして１μｍ以上、３μ
ｍ以下の量を残す。この研削方法が本発明の特徴を成す
ものであり、加工抵抗を低減し、切削加工面の延性面を
確保することができる。
【００２５】磁気コア半体ブロック２４、２５のギャッ
プ形成面４０、４１を鏡面仕上げを施した後、図８に示
すように磁気コア半体ブロック２４、２５を突き合わせ
る。このとき、金属磁性膜２１が分割されて形成された
磁気コア半体ブロック２４、２５の金属磁性膜６、７の
位置合わせを行い、ギャップ材を介して接合一体化す
る。この結果、突き合わされた金属磁性膜６、７の間に
磁気ギャップｇが形成される。
プ形成面４０、４１を鏡面仕上げを施した後、図８に示
すように磁気コア半体ブロック２４、２５を突き合わせ
る。このとき、金属磁性膜２１が分割されて形成された
磁気コア半体ブロック２４、２５の金属磁性膜６、７の
位置合わせを行い、ギャップ材を介して接合一体化す
る。この結果、突き合わされた金属磁性膜６、７の間に
磁気ギャップｇが形成される。
【００２６】つぎに、図９に示すように、これら磁気コ
ア半体ブロック２４、２５で形成された磁気コアブロッ
ク２６に対し、磁気記録媒体との当たりを確保するため
に当たり面に円筒研磨を施す。
ア半体ブロック２４、２５で形成された磁気コアブロッ
ク２６に対し、磁気記録媒体との当たりを確保するため
に当たり面に円筒研磨を施す。
【００２７】最後に図１０に示すように、磁気コアブロ
ック２６に当たり幅規制溝９を入れて、矢印Ａ−Ａの方
向に破線に沿って切断することにより、図１に示す本発
明に係わる磁気ヘッドが作製される。
ック２６に当たり幅規制溝９を入れて、矢印Ａ−Ａの方
向に破線に沿って切断することにより、図１に示す本発
明に係わる磁気ヘッドが作製される。
【００２８】尚、製造過程における各部材の接合には、
従来より公知の接合方法が使用可能であり、例えば低温
熱拡散接合やボンディングガラス等による接合が挙げら
れる。
従来より公知の接合方法が使用可能であり、例えば低温
熱拡散接合やボンディングガラス等による接合が挙げら
れる。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドの製造法によると、磁気コア半体に巻線溝
を形成する際、同一の砥石を用いて複数回の研削により
行い、最終切り込み寸法を１μｍ以上、３μｍ以下とす
ることで加工抵抗を低減でき、また、切削加工面を延性
面とし、更に、金属磁性膜が積層構造である場合はその
絶縁性を確保することができ、高密度記録に好適な磁気
ヘッドを提供することができる。
の磁気ヘッドの製造法によると、磁気コア半体に巻線溝
を形成する際、同一の砥石を用いて複数回の研削により
行い、最終切り込み寸法を１μｍ以上、３μｍ以下とす
ることで加工抵抗を低減でき、また、切削加工面を延性
面とし、更に、金属磁性膜が積層構造である場合はその
絶縁性を確保することができ、高密度記録に好適な磁気
ヘッドを提供することができる。
【図１】 本発明に係わる磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。
図である。
【図２】 非磁性ガード材基板に金属磁性膜を成膜する
工程を示す概念図である。
工程を示す概念図である。
【図３】 成膜基板の接合工程を示す概念図である。
【図４】 接合基板の切断工程を示す概念図である。
【図５】 磁気コア半体ブロックにギャップ形成面平面
加工および巻線溝加工を施す工程を示す概念図である。
加工および巻線溝加工を施す工程を示す概念図である。
【図６】 磁気コア半体ブロックに粗巻線溝加工を施す
工程を示す概念図である。
工程を示す概念図である。
【図７】 磁気コア半体ブロックに仕上げ巻線溝加工を
施す工程を示す概念図である。
施す工程を示す概念図である。
【図８】 磁気コア半体ブロック同士の突き合わせ工程
を示す概念図である。
を示す概念図である。
【図９】 磁気コアブロックの円筒研削工程を示す概念
図である。
図である。
【図１０】 磁気コアブロックに当たり幅規制溝を入
れ、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
れ、磁気ヘッドごとに切断する工程を示す概念図であ
る。
１，２…磁気コア半体、３…磁気記録媒体摺動面、６，
７…金属磁性膜、８…巻線窓、８ａ…巻線溝、９…当た
り幅規制溝、１１，１２，１３，１４…非磁性ガード
材、２０…非磁性ガード材基板、２１…金属磁性膜、２
２…成膜基板、２３…接合基板、２４，２５…磁気コア
ブロック半体、２６…磁気コアブロック、４０，４１…
ギャップ形成面、Ｔｗ…トラック幅、Ｄｐ…フロントデ
プス、ｇ…磁気ギャップ、θ…アジマス角度、Ｔ…巻線
溝最終切込み寸法、Ｍ…総研削回数、Ｓ…巻線溝最終仕
上げ切込み寸法
７…金属磁性膜、８…巻線窓、８ａ…巻線溝、９…当た
り幅規制溝、１１，１２，１３，１４…非磁性ガード
材、２０…非磁性ガード材基板、２１…金属磁性膜、２
２…成膜基板、２３…接合基板、２４，２５…磁気コア
ブロック半体、２６…磁気コアブロック、４０，４１…
ギャップ形成面、Ｔｗ…トラック幅、Ｄｐ…フロントデ
プス、ｇ…磁気ギャップ、θ…アジマス角度、Ｔ…巻線
溝最終切込み寸法、Ｍ…総研削回数、Ｓ…巻線溝最終仕
上げ切込み寸法
Claims (3)
- 【請求項１】 金属製磁性膜を非磁性ガード材に挟み込
んで形成された、少なくともその一方に巻線溝を有する
２つの磁気コア半体を、その金属磁性膜の端面同士を対
向させて突き合わせ、その突き合わせの面の所定の部位
に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドにおいて、 該磁気ヘッドの巻線溝を、研削加工における最終切り込
み寸法をＴとし、最終研削加工時の仕上げ切り込み寸法
をＳとし、総研削回数をＭ（Ｍ≧２）とし、一回毎に切
り込む寸法をＬとすると、Ｌ＝（Ｔ−Ｓ）／Ｍの関係を
保持して同一の砥石による複数回の研削によって形成す
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記研削加工に使用する砥石の平均砥粒
径を１５μｍ以下とすることを特徴とする、請求項１に
記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記最終研削加工時の仕上げ切り込み寸
法Ｓは、１μｍ以上、３μｍ以下であることを特徴とす
る、請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10777597A JPH10302214A (ja) | 1997-04-24 | 1997-04-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10777597A JPH10302214A (ja) | 1997-04-24 | 1997-04-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10302214A true JPH10302214A (ja) | 1998-11-13 |
Family
ID=14467709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10777597A Withdrawn JPH10302214A (ja) | 1997-04-24 | 1997-04-24 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10302214A (ja) |
-
1997
- 1997-04-24 JP JP10777597A patent/JPH10302214A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5663857A (en) | Magnetic head | |
| JPH10302214A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3772458B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH10302212A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60231903A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| KR100229243B1 (ko) | 자기헤드 | |
| JP2000149213A (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JPS6015807A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH05282619A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0156445B2 (ja) | ||
| JPH113506A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0916902A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH08138205A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH09223302A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0765316A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH07282414A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0785288B2 (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH06251310A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH11213318A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH07220221A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH05325129A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06251321A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH07225907A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH07192216A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH06111230A (ja) | 磁気ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20040316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |