JPH07282414A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH07282414A JPH07282414A JP6837494A JP6837494A JPH07282414A JP H07282414 A JPH07282414 A JP H07282414A JP 6837494 A JP6837494 A JP 6837494A JP 6837494 A JP6837494 A JP 6837494A JP H07282414 A JPH07282414 A JP H07282414A
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- Japan
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- magnetic
- head
- core
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属磁性膜を非磁性基板で挟み込んだ構造の
磁気ヘッドにおいて、高周波領域でのヘッド再生特性を
向上させる磁気ヘッドの構成及びその製造方法を提供す
る事を目的とする。 【構成】 金属磁性膜１を非磁性基板３で挟み込んだ構
造の磁気ヘッドにおいて、巻線溝部４、コア側面の少な
くとも一部に、ほぼトラック幅方向にスリット溝５を形
成した構造の磁気ヘッドである。
磁気ヘッドにおいて、高周波領域でのヘッド再生特性を
向上させる磁気ヘッドの構成及びその製造方法を提供す
る事を目的とする。 【構成】 金属磁性膜１を非磁性基板３で挟み込んだ構
造の磁気ヘッドにおいて、巻線溝部４、コア側面の少な
くとも一部に、ほぼトラック幅方向にスリット溝５を形
成した構造の磁気ヘッドである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高品位ＶＴＲ、ディジ
タルＶＴＲなど、高周波信号を用いるシステムに適した
磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
タルＶＴＲなど、高周波信号を用いるシステムに適した
磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向は、高品位Ｖ
ＴＲ、ディジタルＶＴＲなどのように高周波信号を用い
るシステムの開発及び製品化が進められている。磁気ヘ
ッドにおいても高周波領域での特性と、サブミクロンの
記録波長に十分対応できるものが要望されている。
ＴＲ、ディジタルＶＴＲなどのように高周波信号を用い
るシステムの開発及び製品化が進められている。磁気ヘ
ッドにおいても高周波領域での特性と、サブミクロンの
記録波長に十分対応できるものが要望されている。
【０００３】このような現状の中で磁気ヘッドは、保持
力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂａ−Ｆｅテ−
プ）に十分な書き込みを行う為、フェライトなどの酸化
物磁性材料に比べて、より飽和磁束密度Ｂｓの高い金属
磁性材料（例えばセンダスト、非晶質材料）を用いた磁
気ヘッドの開発が行われている。
力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂａ−Ｆｅテ−
プ）に十分な書き込みを行う為、フェライトなどの酸化
物磁性材料に比べて、より飽和磁束密度Ｂｓの高い金属
磁性材料（例えばセンダスト、非晶質材料）を用いた磁
気ヘッドの開発が行われている。
【０００４】しかし、バルク状の金属磁性材料を用いた
のでは、渦電流損失が大きくとても使用できない。
のでは、渦電流損失が大きくとても使用できない。
【０００５】この為、前記損失を抑えるために金属磁性
材料を薄膜化して用いており、例えば金属磁性膜と絶縁
膜との積層膜で主磁路を構成することによって高周波化
を図っている。また、リング型ヘッドでは金属磁性膜
は、ヘッドコアがリング状になっているので全体が磁気
的に等方な膜で構成されている。
材料を薄膜化して用いており、例えば金属磁性膜と絶縁
膜との積層膜で主磁路を構成することによって高周波化
を図っている。また、リング型ヘッドでは金属磁性膜
は、ヘッドコアがリング状になっているので全体が磁気
的に等方な膜で構成されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高品位
ＶＴＲ、ディジタルＶＴＲでは、使用する信号帯域が30
MHz〜60MHzに達し、磁気ヘッド用コアとしてもこのよう
な高周波帯域で高い初透磁率が要求されるが、上記の方
法では十分な特性が得られないという問題を有してい
た。
ＶＴＲ、ディジタルＶＴＲでは、使用する信号帯域が30
MHz〜60MHzに達し、磁気ヘッド用コアとしてもこのよう
な高周波帯域で高い初透磁率が要求されるが、上記の方
法では十分な特性が得られないという問題を有してい
た。
【０００７】図８は、Ｃｏ系アモルファス膜と絶縁膜と
の積層膜の初透磁率の周波数特性を示したものである。
積層膜は、渦電流損失を考慮してＣｏ系アモルファスの
膜厚を３μｍとし、層間の絶縁膜（ＳｉＯ2）０．２μ
ｍを８層積層したものである。
の積層膜の初透磁率の周波数特性を示したものである。
積層膜は、渦電流損失を考慮してＣｏ系アモルファスの
膜厚を３μｍとし、層間の絶縁膜（ＳｉＯ2）０．２μ
ｍを８層積層したものである。
【０００８】図において曲線（ａ）は等方膜のＣｏ系ア
モルファス積層膜で、積層構造によって渦電流損失は改
善されているが、強磁性共鳴によるスヌ−クの限界線で
高周波特性が制約されており、30MHz以上の高周波帯域
での初透磁率は５００以下となる。
モルファス積層膜で、積層構造によって渦電流損失は改
善されているが、強磁性共鳴によるスヌ−クの限界線で
高周波特性が制約されており、30MHz以上の高周波帯域
での初透磁率は５００以下となる。
【０００９】したがって、このような等方的の磁性膜を
ヘッドコアとして用いたのでは、前記のような高周波帯
域を使用するシステムに対応する高性能ヘッドを実現す
るのは困難である 一方、一軸異方性を有する磁性膜をその容易軸方向を揃
えて積層した多層膜の初透磁率特性は、曲線（ｂ）のよ
うに全周波数帯で極めて低い値を示すのに対し、困難軸
方向に測定した時は、曲線（ｃ）のように高周波領域で
も高い値を有する。
ヘッドコアとして用いたのでは、前記のような高周波帯
域を使用するシステムに対応する高性能ヘッドを実現す
るのは困難である 一方、一軸異方性を有する磁性膜をその容易軸方向を揃
えて積層した多層膜の初透磁率特性は、曲線（ｂ）のよ
うに全周波数帯で極めて低い値を示すのに対し、困難軸
方向に測定した時は、曲線（ｃ）のように高周波領域で
も高い値を有する。
【００１０】したがって、困難軸方向だけで磁路を形成
すれば高周波まで高い再生効率のヘッドが実現できる。
すれば高周波まで高い再生効率のヘッドが実現できる。
【００１１】ビデオヘッド等のリングタイプのヘッドに
おいては、困難軸方向だけで磁路を構成するには、ヘッ
ドのトラック幅方向が容易軸となるように異方性を付け
るか、あるいは巻線溝を中心として放射状に容易軸を付
ければ良い。
おいては、困難軸方向だけで磁路を構成するには、ヘッ
ドのトラック幅方向が容易軸となるように異方性を付け
るか、あるいは巻線溝を中心として放射状に容易軸を付
ければ良い。
【００１２】しかし、トラック幅方向に容易軸を付ける
のは、ヘッドの形状による反磁界の効果のため現状では
非常に困難であり、また放射状に容易軸を付けるのは、
ヘッド製造上極めて難しいのが現状である。
のは、ヘッドの形状による反磁界の効果のため現状では
非常に困難であり、また放射状に容易軸を付けるのは、
ヘッド製造上極めて難しいのが現状である。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の磁気ヘッドは、巻線溝部、ヘッドコア側面部
の少なくとも一部にスリット溝を形成する構成とし、ま
た製造方法は、前記スリット溝を形成する工程を有する
ものと、さらに熱処理を行う工程を有することを特徴と
する。
に本発明の磁気ヘッドは、巻線溝部、ヘッドコア側面部
の少なくとも一部にスリット溝を形成する構成とし、ま
た製造方法は、前記スリット溝を形成する工程を有する
ものと、さらに熱処理を行う工程を有することを特徴と
する。
【００１４】
【作用】したがって本発明によれば、前記スリット溝を
形成したり、さらに熱処理を行ったりする事によって、
高周波領域での初透磁率が高くなり、磁気ヘッド特性の
中でも特に再生出力が向上する。
形成したり、さらに熱処理を行ったりする事によって、
高周波領域での初透磁率が高くなり、磁気ヘッド特性の
中でも特に再生出力が向上する。
【００１５】
（実施例１）以下、本発明の第１の実施例について図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【００１６】図１において、金属磁性膜１と絶縁膜２の
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４とコア側面の双
方の一部にスリット溝５を形成し、ギャップ材６を介し
て突き合わせ接合した磁気ヘッドコアである。
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４とコア側面の双
方の一部にスリット溝５を形成し、ギャップ材６を介し
て突き合わせ接合した磁気ヘッドコアである。
【００１７】（実施例２）以下、本発明の第２の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００１８】図２において、金属磁性膜１と絶縁膜２の
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４の一部にスリッ
ト溝５を形成し、ギャップ材６を介して突き合わせ接合
した磁気ヘッドコアである。
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４の一部にスリッ
ト溝５を形成し、ギャップ材６を介して突き合わせ接合
した磁気ヘッドコアである。
【００１９】（実施例３）以下、本発明の第３の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００２０】図３において、金属磁性膜１と絶縁膜２の
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４とコア側面の一
部にスリット溝５を形成し、ギャップ材６を介して突き
合わせ接合した磁気ヘッドコアである。
積層膜を非磁性基板３で挟み込んだ構造の一対のコア半
体の少なくとも一方に形成した巻線溝４とコア側面の一
部にスリット溝５を形成し、ギャップ材６を介して突き
合わせ接合した磁気ヘッドコアである。
【００２１】（実施例４）以下、本発明の第４の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００２２】図４（ａ）は、金属磁性膜と絶縁膜の積層
膜７を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体の巻線溝４
とコア側面の双方にスリット溝５を形成し、ギャップ突
き合わせ面を鏡面に研磨した後ギャップ材６を成膜した
一対のコア半体である。
膜７を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体の巻線溝４
とコア側面の双方にスリット溝５を形成し、ギャップ突
き合わせ面を鏡面に研磨した後ギャップ材６を成膜した
一対のコア半体である。
【００２３】図４（ｂ）は、一対のコア半体をギャップ
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
【００２４】（実施例５）以下、本発明の第５の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００２５】図５（ａ）は、金属磁性膜と絶縁膜の積層
膜７を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体に巻線溝４
にスリット溝５を形成し、ギャップ突き合わせ面を鏡面
に研磨した後ギャップ材６を成膜した一対のコア半体で
ある。
膜７を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体に巻線溝４
にスリット溝５を形成し、ギャップ突き合わせ面を鏡面
に研磨した後ギャップ材６を成膜した一対のコア半体で
ある。
【００２６】図５（ｂ）は、一対のコア半体をギャップ
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
【００２７】（実施例６）以下、本発明の第６の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００２８】図６（ａ）は、金属磁性膜と絶縁膜の積層
膜を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体に巻線溝４と
コア側面にスリット溝５を形成し、ギャップ突き合わせ
面を鏡面に研磨した後ギャップ材６を成膜した一対のコ
ア半体である。
膜を、非磁性基板３で挟み込んだコア半体に巻線溝４と
コア側面にスリット溝５を形成し、ギャップ突き合わせ
面を鏡面に研磨した後ギャップ材６を成膜した一対のコ
ア半体である。
【００２９】図６（ｂ）は、一対のコア半体をギャップ
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
面を突き合わせ熱処理で接着してチップに切断し磁気テ
−プ摺動面を研磨した磁気ヘッドコアである。
【００３０】また、コア側面にスリット溝を形成する工
程が、熱処理で接着した後に行う方法もある。
程が、熱処理で接着した後に行う方法もある。
【００３１】図７は、本発明の磁気ヘッド特性に関する
効果を示す一例であり、等方的なＣｏ系アモルファス膜
を用いて、曲線（ａ）は従来の構成と製造方法もの、曲
線（ｂ）はスリット溝を形成したもの（ギャップ形成し
た後にコア側面にスリット溝形成）、曲線（ｃ）はスリ
ット溝形成後に熱処理を行ったもので、磁気ヘッドの相
対出力の周波数特性を示すものである。
効果を示す一例であり、等方的なＣｏ系アモルファス膜
を用いて、曲線（ａ）は従来の構成と製造方法もの、曲
線（ｂ）はスリット溝を形成したもの（ギャップ形成し
た後にコア側面にスリット溝形成）、曲線（ｃ）はスリ
ット溝形成後に熱処理を行ったもので、磁気ヘッドの相
対出力の周波数特性を示すものである。
【００３２】熱処理温度は、等方性Ｃｏ系アモルファス
膜の高周波透磁率（日本応用磁気学会誌Vol.17 No.2
P113 1993）の資料を参考にして４００℃に設定した。
膜の高周波透磁率（日本応用磁気学会誌Vol.17 No.2
P113 1993）の資料を参考にして４００℃に設定した。
【００３３】スリット溝を形成したものは、従来に比べ
30MHzで１ｄＢ程度、さらに熱処理を行ったものは２〜
３ｄＢ高い値が得られ、良好な周波数特性を示している
ことがわかる。これは、磁気抵抗が大きいギャップ近傍
にだけ前記の加工および熱処理を行ってもほぼ同じ効果
が得られた。
30MHzで１ｄＢ程度、さらに熱処理を行ったものは２〜
３ｄＢ高い値が得られ、良好な周波数特性を示している
ことがわかる。これは、磁気抵抗が大きいギャップ近傍
にだけ前記の加工および熱処理を行ってもほぼ同じ効果
が得られた。
【００３４】また、積層膜を狭持する非磁性基板の代わ
りに酸化物磁性基板を用いたリング型ヘッドの公開特許
公報昭55-64619や平2-78007などのような構造において
も前記スリット溝の形成、熱処理を行う事によって同様
の効果が得られた。
りに酸化物磁性基板を用いたリング型ヘッドの公開特許
公報昭55-64619や平2-78007などのような構造において
も前記スリット溝の形成、熱処理を行う事によって同様
の効果が得られた。
【００３５】
【発明の効果】以上のように本発明は、磁気ヘッドコア
の巻線溝部、コア側面部の少なくとも一部にスリット溝
を加工するか、さらに熱処理を行うことによって、高周
波領域での初透磁率が高くなり、高いヘッド出力が得ら
れる。
の巻線溝部、コア側面部の少なくとも一部にスリット溝
を加工するか、さらに熱処理を行うことによって、高周
波領域での初透磁率が高くなり、高いヘッド出力が得ら
れる。
【図１】本発明の第１の実施例の磁気ヘッドのヘッドコ
アの外観図
アの外観図
【図２】本発明の第２の実施例の磁気ヘッドのヘッドコ
アの外観図
アの外観図
【図３】本発明の第３の実施例の磁気ヘッドのヘッドコ
アの外観図
アの外観図
【図４】（ａ）は図１に示す実施例ヘッドにおけるギャ
ップ膜形成後の外観図 （ｂ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
ップ膜形成後の外観図 （ｂ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
【図５】（ａ）は図２に示す実施例ヘッドにおけるギャ
ップ膜形成後の外観図 （ｂ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
ップ膜形成後の外観図 （ｂ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
【図６】（ａ）は図３に示す実施例ヘッドにおけるギャ
ップ膜形成後の外観図 （ｃ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
ップ膜形成後の外観図 （ｃ）は同実施例におけるヘッドコアの外観図
【図７】本発明のヘッド相対出力図
【図８】金属磁性膜の配向と初透磁率との関係図
【符号の説明】 １ 金属磁性膜 ２ 絶縁膜 ３ 非磁性基板 ４ 巻線溝 ５ スリット溝 ６ ギャップ材 ７ 積層膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 養田 広 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】主磁路が金属磁性膜で構成され、両側面を
非磁性基板で挟み込んだ構造のリング型磁気ヘッドであ
って、巻線溝部とヘッドコア側面の少なくとも一部に、
ほぼトラック幅方向にスリット溝を配した構造を備えた
事を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】金属磁性膜の両側面を非磁性基板で狭持し
たヘッドコアの巻線溝部と側面部の少なくとも一部に、
ほぼトラック幅方向にスリット溝を形成する工程を有す
る事を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】請求項２に記載の磁気ヘッドの製造方法に
おいて、スリット溝を形成した後、熱処理を行う工程を
有する事を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】主磁路が金属磁性膜で構成され、両側面を
酸化物磁性基板で挟み込んだ構造のリング型磁気ヘッド
であって、巻線溝部とヘッドコア側面の少なくとも一部
に、ほぼトラック幅方向にスリット溝を配した構造を備
えた事を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項５】金属磁性膜の両側面を酸化物磁性基板で狭
持したヘッドコアの巻線溝部と側面部の少なくとも一部
に、ほぼトラック幅方向にスリット溝を形成する工程を
有する事を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】請求項５に記載の磁気ヘッドの製造方法に
おいて、スリット溝を形成した後、熱処理を行う工程を
有する事を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6837494A JPH07282414A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6837494A JPH07282414A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07282414A true JPH07282414A (ja) | 1995-10-27 |
Family
ID=13371917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6837494A Pending JPH07282414A (ja) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07282414A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8605386B1 (en) | 2012-07-25 | 2013-12-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording head, head gimbal assembly with the same, and disk drive |
-
1994
- 1994-04-06 JP JP6837494A patent/JPH07282414A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8605386B1 (en) | 2012-07-25 | 2013-12-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording head, head gimbal assembly with the same, and disk drive |
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