JPH0869609A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

磁気ヘッド及びその製造方法

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JPH0869609A
JPH0869609A JP20513194A JP20513194A JPH0869609A JP H0869609 A JPH0869609 A JP H0869609A JP 20513194 A JP20513194 A JP 20513194A JP 20513194 A JP20513194 A JP 20513194A JP H0869609 A JPH0869609 A JP H0869609A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic head
head
film
metal
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Pending
Application number
JP20513194A
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English (en)
Inventor
Akinaga Natsui
昭長 夏井
Shunsaku Muraoka
俊作 村岡
Yasuhiro Nakaya
安広 仲谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は高品位VTRやデジタルVTR等の
高周波信号を効率よく記録再生する磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。 【構成】 金属磁性層3の両側を非磁性基板4で挟持し
たリング型磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッドの巻線溝面
とヘッドコア側面のすくなくとも一部に、ほぼトラック
幅方向にスリット溝8を配し、スリット溝8近傍の磁化
容易軸の方向を変化させ、磁路がほぼ磁化困難軸方向で
形成されたことを特徴とする。 【効果】 高周波特性の優れた高性能磁気ヘッドが実現
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高品位VTRやデジタル
VTR等の高周波信号を効率よく記録再生するのに適し
た磁気ヘッドおよびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年高品位VTRやデジタルVTR等の
広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになって
きており、磁気ヘッドとしても高飽和磁束密度を有し周
波数特性の優れた磁気ヘッドの開発が望まれている。現
在、飽和磁束密度の高い金属磁性材料を用いた磁気ヘッ
ドの開発が行われているが、その高周波特性は強磁性共
鳴によるスヌークの限界で制約されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】高品位VTRやデジタ
ルVTR等の広帯域の信号を取り扱うシステムでは、磁
気ヘッド用コア材料として高周波帯域で高い初透磁率を
有するものが要求される。しかし、ほとんどの磁性膜は
初透磁率の高周波特性が強磁性共鳴によるスヌークの限
界で制約されており、30MHz以上の周波数帯での初
透磁率は500以下となる。
【0004】したがって、このような無配向の磁性膜を
ヘッドコアとして用いたのでは前記のような高周波シス
テムに対応する高性能ヘッドを実現するのは困難であ
る。
【0005】一方、一軸異方性を有するアモルファス磁
性膜をその磁化容易軸方向を揃えて積層した多層膜の初
透磁率特性は、磁化容易軸方向に測定すると全周波数帯
で低い初透磁率特性となるのに対し、磁化困難軸方向に
測定した場合は高周波まで高い初透磁率を維持する。し
たがって、磁化困難軸方向だけで磁路を形成すれば高周
波まで高い再生効率のヘッドが実現できるが、ビデオヘ
ッド等のリングタイプのヘッドにおいては磁化困難軸方
向だけで磁路を構成することはヘッドの製造工程上極め
て難しい現状である。
【0006】本発明はこのような事情に鑑み、30MH
z以上の高周波帯でも十分高い効率で記録再生できる高
周波用の磁気ヘッドおよびその製造方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したリング型磁気
ヘッドにおいて、巻線溝部とヘッドコア側面に、スリッ
ト溝を配し、スリット溝近傍の磁化容易軸の方向を変化
させ、磁路がほぼ磁化困難軸方向で形成されたことを特
徴とする磁気ヘッドであり、またその製造方法は、あら
かじめ金属磁性膜に磁化容易軸を付与する工程と、磁路
が磁化困難軸方向となるようにスリット溝を形成する工
程とを有するものと、さらに熱処理を行う工程を有する
ことを特徴とする。
【0008】
【作用】したがって本発明によれば、金属磁性膜に磁化
容易軸を付与し、前記スリット溝を形成することによっ
て、磁化困難軸方向だけで磁路を構成でき、高周波特性
の優れた高性能磁気ヘッドが実現できる。
【0009】
【実施例】図1は、第1の発明の実施例における磁気ヘ
ッドの斜視図を示す。あらかじめ金属磁性膜1に磁気ギ
ャップ面7とほぼ平行に磁化容易軸9aを付与し、磁気
ギャップ面7とほぼ平行な巻線溝面とコア側面の双方の
一部にスリット溝8を形成する。これによりスリット溝
8近傍の磁化容易軸9aの向きが変化し、磁化容易軸9
bが形成され、高周波特性の優れた高性能磁気ヘッドが
実現できた。
【0010】図2は、第1の発明の実施例における磁気
ヘッドの製造方法の斜視図を示す。チタン酸マグネシウ
ム系の非磁性基板4に、Co系アモルファス合金からな
る金属磁性膜1と、SiO2 からなる絶縁膜2とが交互
に積層された金属磁性層3をスパッタリングにより形成
し、これを接着ガラス5を用いて積層し一対のコア半体
10a、10bをつくる。Co系アモルファス合金には
スパッタ時あるいは積層接着時に磁化容易軸9aが磁気
ギャップ面7とほぼ平行になるように磁気異方性を付与
する。次に、このコア半体10aの磁気ギャップ面7に
巻線窓6を形成し、さらに、磁気ギャップ面7とほぼ平
行な巻線溝面とコア側面の双方にスリット溝8を形成す
る。次に、両コア半体10a,10bを高融点ガラス等
のギャップ材を介して磁気ギャップ面7で突き合わせ、
所定の厚み11で切断し磁気ヘッドを得る。
【0011】以上の方法により作製したヘッドは、磁化
容易軸9aの向きが磁化容易軸9bのように変化し、磁
化困難軸だけで磁路が形成され、高周波特性の優れた高
性能磁気ヘッドが実現できた。
【0012】図3は、第2の発明の実施例における磁気
ヘッドの斜視図を示す。あらかじめ金属磁性膜1に磁気
ギャップ面7とほぼ垂直に磁化容易軸9aを付与し、磁
気ギャップ面7と非平行な巻線溝面とコア側面の双方の
一部にスリット溝8を形成する。これによりスリット溝
8近傍の磁化容易軸9aの向きが変化し、磁化容易軸9
bが形成され、高周波特性の優れた高性能磁気ヘッドが
実現できた。
【0013】図4は、第2の発明の実施例における磁気
ヘッドの製造方法の斜視図を示す。チタン酸マグネシウ
ム系の非磁性基板4に、Co系アモルファス合金からな
る金属磁性膜1と、SiO2 からなる絶縁膜2とが交互
に積層された金属磁性層3をスパッタリングにより形成
し、これを接着ガラス5を用いて積層し一対のコア半体
10a、10bをつくる。Co系アモルファス合金には
スパッタ時あるいは積層接着時に磁化容易軸9aが磁気
ギャップ面7とほぼ垂直になるように磁気異方性を付与
する。次に、このコア半体10aの磁気ギャップ面7に
巻線窓6を形成し、さらに、磁気ギャップ面7と非平行
な巻線溝面とコア側面の双方にスリット溝8を形成す
る。次に、両コア半体10a,10bを高融点ガラス等
のギャップ材を介して磁気ギャップ面7で突き合わせ、
所定の厚み11で切断し、磁気ギャップ深さを所定の深
さに研磨して磁気ヘッドを得る。
【0014】以上の方法により作製したヘッドは、磁化
容易軸9aの向きが磁化容易軸9bのように変化し、磁
化困難軸だけで磁路が形成され、高周波特性の優れた高
性能磁気ヘッドが実現できた。
【0015】また、第1の発明および第2の発明におい
て、スリット溝8を形成した後、熱処理を行うことによ
り磁化容易軸9bの変化が強くなり、さらに高周波特性
の優れた高性能磁気ヘッドが実現できた。
【0016】図5は、従来の無配向の積層金属磁性膜を
用いた磁気ヘッド(c)、第1の発明の製造方法による
磁化容易軸が形成された磁気ヘッド(a)および第2の
発明の製造方法による磁化容易軸が形成された磁気ヘッ
ド(b)の相対出力の周波数特性を示す。30MHz以
上の高周波において、本発明の磁気ヘッドは、従来の磁
気ヘッドを大きく上回る高周波特性を示していることが
わかる。
【0017】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、30MHz
以上の高周波帯でも十分高い効率で記録再生できる高周
波用磁気ヘッドが容易に得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明の実施例における磁気ヘッドの斜視
【図2】第1の発明の実施例における磁気ヘッドの製造
方法の斜視図
【図3】第2の発明の実施例における磁気ヘッドの斜視
【図4】第2の発明の実施例における磁気ヘッドの製造
方法の斜視図
【図5】従来の磁気ヘッドおよび本発明による磁気ヘッ
ドの相対出力の周波数特性を示す図
【符号の説明】
1 金属磁性膜 2 絶縁膜 3 金属磁性層 4 基板 5 接着ガラス 6 巻線窓 7 磁気ギャップ面 8 スリット溝 9a、9b 磁化容易軸 10a、10b コア半体 11 切断幅

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持した
    リング型磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性膜が前記磁
    気ヘッドの磁気ギャップ面とほぼ平行に磁化容易軸を有
    しており、前記磁気ヘッドの磁気ギャップ面とほぼ平行
    な巻線溝面とヘッドコア側面のすくなくとも一部に、ほ
    ぼトラック幅方向にスリット溝を配することにより、ス
    リット溝近傍の磁化容易軸の方向を変化させ、磁路がほ
    ぼ磁化困難軸方向で形成されたことを特徴とする磁気ヘ
    ッド。
  2. 【請求項2】金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持した
    リング型磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性膜に、前記
    磁気ヘッドの磁気ギャップ面とほぼ平行に磁化容易軸を
    付与する工程と、前記磁気ヘッドの磁気ギャップ面とほ
    ぼ平行な巻線溝面とヘッドコア側面のすくなくとも一部
    に、ほぼトラック幅方向にスリット溝を配する工程とを
    有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  3. 【請求項3】スリット溝を形成した後、熱処理を行う工
    程を有することを特徴とする請求項2記載の磁気ヘッド
    の製造方法。
  4. 【請求項4】金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持した
    リング型磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性膜が前記磁
    気ヘッドの磁気ギャップ面とほぼ垂直に磁化容易軸を有
    しており、前記磁気ヘッドの磁気ギャップ面と非平行な
    巻線溝面とヘッドコア側面のすくなくとも一部に、ほぼ
    トラック幅方向にスリット溝を配することにより、スリ
    ット溝近傍の磁化容易軸の方向を変化させ、磁路がほぼ
    磁化困難軸方向で形成されたことを特徴とする磁気ヘッ
    ド。
  5. 【請求項5】金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持した
    リング型磁気ヘッドにおいて、前記金属磁性膜に、前記
    磁気ヘッドの磁気ギャップ面と垂直に磁化容易軸を付与
    する工程と、前記磁気ヘッドの磁気ギャップ面と非平行
    な巻線溝面とヘッドコア側面のすくなくとも一部に、ほ
    ぼトラック幅方向にスリット溝を配する工程とを有する
    ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  6. 【請求項6】スリット溝を形成した後、熱処理を行う工
    程を有することを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッド
    の製造方法。
  7. 【請求項7】金属磁性膜が金属磁性膜と絶縁膜との積層
    膜であることを特徴とする請求項1または4記載の磁気
    ヘッド。
  8. 【請求項8】金属磁性膜が金属磁性膜と絶縁膜との積層
    膜であることを特徴とする請求項2、3、5、6のいず
    れか1項に記載の磁気ヘッドの製造方法。
  9. 【請求項9】金属磁性膜がアモルファス磁性膜であるこ
    とを特徴とする請求項7記載の磁気ヘッド。
  10. 【請求項10】金属磁性膜がアモルファス磁性膜である
    ことを特徴とする請求項8記載の磁気ヘッドの製造方
    法。
JP20513194A 1994-08-30 1994-08-30 磁気ヘッド及びその製造方法 Pending JPH0869609A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8605386B1 (en) 2012-07-25 2013-12-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic recording head, head gimbal assembly with the same, and disk drive

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8605386B1 (en) 2012-07-25 2013-12-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic recording head, head gimbal assembly with the same, and disk drive

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