JPH01140405A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高品位ＶＴＲ装置やディジタルＶＴＲ装置なと
の高周波信号を効率良く記録再生するのに適した磁気ヘ
ッドおよびその製造方法に関するものである。

従来の技術 近年、高品位ＶＴＲ装置やデジタルＶＴＲ装置なとの３
０〜６０Ｍ　ＨＺに達する広帯域の信号を取扱うシステ
ムの開発が行われ、磁気ヘッドとしても飽和磁束密度が
高く、周波数特性の優れたヘッドの開発が望まれている
。そこで、高周波帯で高い初透磁率を有する磁気ヘッド
用コア材料が要求され、従来のフェライトに代わり、飽
和磁束密度の高いセンダクトやアモルファス合金なとの
金属磁性材料を用いたヘッドの開発が行われている。

しかし、巻線窓を有するリング型磁気ヘッドにおいては
、磁束の流れる向きが、ヘッドの各部で異なるため、磁
気コア面内で一軸異方性を付けると、磁束が容易軸方向
に流れる部分ができ、磁路のレテクタンスが大きくなり
、効率が悪くなる。

したがって、センダストにおいては異方性が小さくなる
組成を選び、またアモルファス合金においてはキュリー
温度Ｔｃ以上の温度でのアニール、あるいは回転１１１
ｉ中アニールにより異方性を分散させ、初透磁率の余り
良くない無配向性の磁性体を磁気コアとして用いている
。

また、良く知られているように、強磁性膜の初透磁率μ
ｍの周波数特性は、無配向のものより一軸配向の困難軸
方向のほうが良い。たとえば、数μｍ程度の薄膜の場合
、第７図に示すように、困難軸方向の初透磁率μｍの曲
線ａは４０００以上得られるのに対して、容易軸方向の
初透磁率μ、の曲線すは非常に小さく、無配向の初透磁
率μ、の曲ｓＩＣの場合は１０００程度の値である。し
たがって、ヘッドコアの磁化容易軸の方向をトラック幅
方向と平行にできれば良い特性が得られる。

次に、具体的に第８図にてアモルファス合金を用いた磁
気ヘッドの構造の一例を説明づ゛る。この磁気ヘッドは
、アモルファス合金を用いた強磁性膜１を絶縁１１Ｗ２
を介して３層に積層して磁気コア３を形成し、この磁気
コア３を非磁性基板４で挟持し、巻線窓５の内に設けた
ボンディングガラス６により２つの対向するコアを接合
し、磁気ギャップ７を形成して構成している。このよう
に積層膜ヘッドとすることにより渦電流損失を改善して
いる。

発明が解決しようとする問題点 しかし、第８図に示したような渦電流損失を改善した従
来の積層膜ヘッドにおいては形状による反磁界係数が大
きく、第８図のＡ−Ａ’力方向テープトラック幅方向を
磁化容易軸とするのは困難なため、初透磁率の低い無配
向性の状態を磁気コア３として用いており、高周波での
ヘッド効率が悪かった。

本発明は上記問題点を解決するものであり、磁性膜の両
側を非磁性基板で挟持した構成の磁気ヘッドであって、
高周波でのヘッド効率を高めた磁気ヘッドを提供するこ
とを目的とするものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明は、磁気コアとなる磁
性膜の両側を非磁性基板で挟持したｌｌ造の磁気ヘッド
であって、巻＃！窓からテープ摺動面側に近い磁気コア
の磁化容易軸を前記テープのトラック幅方向に略平行と
したものである。

またその製造方法として、非磁性基板の片面に第１の磁
性膜を形成し、その反対面に接考膜を形成する工程と、
前記両面に膜を形成した基板を多数枚積み重ねて加圧熱
処理してひとつの積層ブロックを形成する工程と、前記
積層ブロックから一対のコア半体を切り出し、ひとつの
コア半体に巻線窓を設ける工程と、前記一対のコア半体
のギャップ面を平滑にラップし、ギャップ材を形成し、
一対のコア半体をギャップ面で接合し、ひとつのコアバ
ーを形成する工程と、前記コアバーのテープ摺動面をラ
ップし、所定のギャップ深さ近くまで仕上げる工程と、
前記コアバーのテープ摺動面に第２の磁性膜を形成し、
テープのトラック幅方向に磁界を印加し、熱処理し、次
に第１の磁性膜の膜面内に印加磁界を回転させて熱処理
する工程と、その後前記コアバーを適当なコア幅で切所
し、テープ摺動面を所定のキャップ深さまでラップして
ヘッドチップにする工程を有するものである。

作用 上記構成および方法によれば、巻線窓よりテープ摺動面
側に近い、ヘッド効率に最も影響の太きい前部磁気ギャ
ップを形成する磁気コアの磁化容易軸をテープのトラッ
ク軸方向に平行にすることにより、磁束の流れる方向が
磁化困難軸方向となり、磁気コアの初透磁率の周波数特
性が上げられ、高周波での特性が改善される。

実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

本発明の一実施例の磁気ヘッドの斜視図を第１図に、第
１図のＢ−８層断面図を第２図に示す。

第１図および第２図において、１１はアモルファス合金
なとの強磁性膜で、使用帯域における渦電流損失を少な
くして特性を良くするために５ｉ０２なとの絶縁１１９
１２を介した３層の積層構造としている。この積層膜か
らなる磁気コア１３は、チタン酸バリウム系セラミック
スなとの非磁性基板１４で挟持され、巻線窓１５の内に
設けたボンディングガラス１６により２つの対向する磁
気コア１３を接合し、磁気ギャップ１７を形成している
。第２図において、巻線窓１５よりテープ摺動面１３ａ
の側に近い磁気コア１３の磁化容易軸１８はテープのト
ラック幅方向ｄの方向を向いている。

次に、上記構成の磁気ヘッドの製造方法を説明する。ま
ず非磁性基板１４の片面にアモルファス合金の磁性膜１
１をこのアモルファス磁性膜の結晶化温度Ｔｘとキュリ
ー温度Ｔｃとの関係をＴｘ＜Ｔｃにてスパッタリングに
より、ＳｉＯ２の絶縁膜１２を介して３層の積層構造に
して形成し、その反対面に低融点ガラス接着膜２２〔第
２．第３図参照〕を形成する。両面にそれぞれの膜を形
成した非磁性基板１４を多数枚積み重ねて加圧熱処理し
てひとつのＷ４層ブロックを形成する。そして、第３図
に示すように、その積層ブロックから一対のコア半体１
９ａ、　１９ｂを切出し、ひとつのコア半体ｔ９ａに巻
線窓１５を設け、一対のコア半体１９ａ、　１９ｂのギ
ャップ面１９ｃを平滑にラップし、ボンディングガラス
１６のギャップ材を形成し、一対のコア半体１９ａ、　
１９ｂをギャップ面１９Ｃで接合し、ひとつのコアパー
２０を形成する。次に第４図に示すように、コアパー２
０のテープ摺動面２０ａをラップし、所定のギャップ深
さ近くまで仕上げ、コアパー２０のテープ摺動面２０ａ
にアモルファス合金膜２１をスパッタリングにより形成
する。その後、第５図に示すようにトラック幅方向ｄに
磁界１ｔｅｘｔを印加し、熱処理する。そのときの第５
図の破線で示すアモルファス合金膜２１の内部の磁化状
態を第６図に示す。

コアパー２０のテープ摺動面２０ａに設けたアモルファ
ス合金膜２１の内部の磁化は、形状による反磁界が小さ
いため、印加磁界Ｈｅｘｔの方向を向く。またアモルフ
ァス膜で形成された磁気コア１３のトラックにおいては
形状による反磁界が大きいため印加磁界Ｈｅｘｔにより
、磁化を印加磁界方向へ向かせるのは難しい。しかし、
アモルファス膜で形成された磁気コア１３のトラックの
テープ摺動面ｔ３ａの付近では、テープ摺動面１３ａの
上に設けられたアモルファス合金Ｗｉ１２１の影響で、
反磁界が小さくなり、テープ摺動面１３ａから数１０μ
ｍの範囲で、トラック噸方向ｄに磁化が向く。このため
、少なくとも前部磁気ギャップ１７を形成する磁気コア
１３の磁化容易軸１８かトラック幅方向に平行に向くこ
とになる。次に、磁性膜１１の膜面内に印加磁界を回転
させて熱処理する。それにより、少なくとも前部磁気ギ
ャップ１７を形成する磁気コア部以外の部分は無配向と
なる。前部磁気ギャップ１７部を形成する磁気コア部は
前熱処理時の異方性がメモリされでいる。その後、コア
パー２０を適当なコア幅で切断し、コアパー２０のテー
プ摺動面２０ａを所定のギャップ深さまでラップしてヘ
ッドチップが完成する。

以上のように磁気ヘッドを作製することにより、前部磁
気ギャップ１７を形成する磁気コア１３の磁化容易軸１
８がトラック幅方向ｄに平行に向いており、磁気コア１
３のその他の部分が無配向であるようなヘッド構成にす
ることができる。このような構成にすることにより、ヘ
ッド効率に最も影響の大きい前部磁気ギャップ１７の近
傍、すなわち、巻線窓１５よりテープ摺動面１３ａに近
い磁気コア１３は、磁束の流れる方向が磁化困難軸方向
にできるので初透磁率が高く、その周波数特性も良く、
良好なヘッド特性を得ることができる。

発明の効果 以上のように本発明によれば、巻線窓よりテープ摺動面
側に近い磁気コアの磁化容易軸をテープのトラック軸方
向に平行にすることにより、初透磁率が高く、その周波
数特性もよく高周波帯でも充分高い効率で記録再生でき
る高周波用の磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示Ｖｍ気ヘッドの斜視図、
第２図は第１図のＢ−Ｂ’断面図、第３図〜第５図はそ
れぞれ本発明の磁気ヘッドの製造工程を示す磁気ヘッド
の斜視図、第６図は第５図において磁界中熱処理時の磁
性膜の磁化状態を示す説明図、第７図は異方性の方向に
よる強磁性薄膜の初透磁率の周波数特性図、第８図は従
来の磁気ヘッドの斜視図である。 １１・・・磁性膜、１２・・・絶縁膜、１３・・・磁気
コア、１４・・・非磁性基板、１５・・・巻線窓、１６
・・・ボンディングガラス、１７・・・磁気ギャップ、
１８・・・磁化容易軸、１９ａ。 １９ｂ・・・コア半体、　２０・・・コアバー、２１・
・・アモルファス合金膜、ｄ・・・テープのトラック幅
方向。 第１図 第２図 ノ 第６図 　ｚｌ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気コアとなる磁性膜の両側を非磁性基板で挟持し
   た構造の磁気ヘッドであって、巻線窓よりテープ摺動面
   側に近い磁気コアの磁化容易軸を前記テープのトラック
   幅方向に略平行とした磁気ヘッド。 ２、磁性膜は、アモルファス磁性膜である特許請求の範
   囲第１項記載の磁気ヘッド。 ３、アモルファス磁性膜の結晶化温度Ｔ＿ｘとキュリー
   温度Ｔ＿ｃとの関係がＴ＿ｘ＜Ｔ＿ｃである特許請求の
   範囲第２項記載の磁気ヘッド。 ４、非磁性基板の片面に第１の磁性膜を形成し、その反
   対面に接着膜を形成する工程と、前記両面に膜を形成し
   た基板を多数枚積み重ねて加圧熱処理してひとつの積層
   ブロックを形成する工程と、前記積層ブロックから一対
   のコア半体を切り出し、ひとつのコア半体に巻線窓を設
   ける工程と、前記一対のコア半体のギャップ面を平滑に
   ラップし、ギャップ材を形成し、一対のコア半体をギャ
   ップ面で接合し、ひとつのコアバーを形成する工程と、
   前記コアバーのテープ摺動面をラップし、所定のギャッ
   プ深さ近くまで仕上げる工程と、前記コアバーのテープ
   摺動面に第２の磁性膜を形成し、テープのトラック幅方
   向に磁界を印加し、熱処理し、次に第１の磁性膜の膜面
   内に印加磁界を回転させて熱処理する工程と、その後前
   記コアバーを適当なコア幅で切断し、前記テープ摺動面
   を所定のキャップ深さまでラップしてヘッドチップにす
   る工程とを有する磁気ヘッドの製造方法。