JPH0325708A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH0325708A
JPH0325708A JP16163989A JP16163989A JPH0325708A JP H0325708 A JPH0325708 A JP H0325708A JP 16163989 A JP16163989 A JP 16163989A JP 16163989 A JP16163989 A JP 16163989A JP H0325708 A JPH0325708 A JP H0325708A
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JP
Japan
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magnetic
core half
laminate
film
half bodies
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Application number
JP16163989A
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English (en)
Inventor
Shunsaku Muraoka
俊作 村岡
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高品位VTRやデジタルVTR等の高周波信号
を効率よく記録再生するのに適した磁気ヘッドの製造方
法に関するものであも 従来の技術 近年高品位VTRやデジタルVTRなどの広帯域の信号
を取り扱うシステムの開発が盛んになってきており、磁
気記録媒体もこのような大量の情報を記録するために 
酸化鉄系から合金粉末媒体や金属蒸着媒体等の高抗磁力
媒体へと変わりつつある。そこで磁気ヘッドとしてk 
これらの高抗磁力媒体に対応するような高飽和磁束密度
を有し周波数特性の優れた磁気ヘッドの開発が望まれて
いも 現在、飽和磁束密度の高いセンダストやアモルフ
ァス合金等の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開発が
行なわれているバ バルク状の金属磁性材料を用いたの
では渦電流損失が大きくとても上記システムには使えな
し〜 この八 上記損失をできるだけ抑えるために 金
属磁性材料を薄膜化して用いることが検討されており、
例えば金属磁性薄膜と絶縁膜との積層膜で主磁気回路を
構戒することによって高周波化を図っている。
発明が解決しようとする課題 高品位VTRやデジタルVTRではその記録信号帯域は
30MHz〜60MHzに達し 磁気ヘッド用コア材と
してはこのような高周波帯域で高い初透磁率を有するも
のが要求される。第9図It  Co系アモルファス磁
性膜とSide膜との積層膜の初透磁率の周波数特性を
示したものであも アモルファス積層膜においては 一
層当たりの磁性膜の膜厚は渦電流損失を考慮して4μm
とし層間のSi(h膜厚は0.1μmで5層積層したも
のであム 図において(1)は無配向のアモルファス積
層膜で、積層効果により渦電流損失は改善されているが
その高周波特性は強磁性共鳴によるスヌークの限界線で
制約されており、30MHz以上の高周波帯での初透磁
率は500以下となん したがってこのような無配向の磁性膜をヘッドコアとし
て用いたのでは前記のような高周波システムに対応する
高性能ヘッドを実現するのは困難であも 一方、一軸異方性を有するアモルファス磁性膜をその容
易軸方向を揃えて積層した多層膜の初透磁率特性(戴 
容易軸方向に測定すると(2)のように全周波数帯で極
めて低い初透磁率特性を示すのに対し 困難軸方向に測
定した場合は(3)のように高周波まで高い透磁率を維
持L.60MHzでも1000以上の値を有すも した
がって、困難軸方向だけで磁路を形戒すれば 高周波ま
で高い再生効率のヘッドが実現できも そして、ビデオ
ヘッド等のリングタイプのヘッドにおいて(友 困難軸
方向だけで磁路を構或するにはヘッドのトラック幅方向
が容易軸となるように異方性を付ける力\あるいは 巻
線窓を中心として、放射状に容易軸を付ければ良へ しかし トラック幅方向に容易軸を付けるの1よヘッド
の形状による反磁界の効果のた歇 現状では非常に困難
であり、また放射状に容易軸を付けるのEL  ヘッド
製造上極めて難しいのが現状であ課題を解決するための
手段 本発明の磁気ヘッドの製造方法1上 金属磁性膜の両側
を非磁性基板で挟持したブロックの両側に高保持力材料
をその同一極面が向い合わうように配して積層体を形成
する工程と、前記積層体から一対のコア半体を切り出し
 少なくとも一方のコア半体の磁気ギャップ面に巻線窓
を形成する工程と、一対のコア半体を磁気ギャップ面で
突合せ熱処理する工程を有することを特徴とすも作用 第5図(友 巻線窓5を有するヘッドコア形状の高保磁
力材料から発生する磁界6を示した図であん 高保磁力
材料{友 ヘッドコア形状の厚み方向に着磁されており
、上面がN!  下面がS極となっている。磁界はN極
からS極へと流れるので、N極から発生した磁界6(上
 巻線窓5方向と、ヘッドの外周方向へと分かれ 最短
経路を通りS極へ達する。すなわち磁界は 巻線窓5を
中心に放射状の方向へ流れることになん 第6図(友 
金属磁性膜4の両側に高保磁力材料1をN極を向かい合
わせるように 若干の間隔をおいて配した時の磁界6の
流れを側面から見た図であ&N極から発生した磁界6は
S極へ向かおうとするので、磁界の流れは図のようにな
も したがって金属磁性膜4にζよ 膜面内で巻線窓5
を中心に放射状の方向に磁界が加わることになん すな
わ仮 本発明の方法で、磁気ヘッドを作製すると、熱処
理時に金属磁性膜の膜面内で巻線窓を中心に放射状に磁
界が加わるので、第4図に示すよう類 巻線窓5を中心
として放射状に容易軸をもつリングタイプヘッドの作製
が可能となん そして、このヘッドは磁路のほとんど力
文 困難軸方向から構戊されるので、金属磁性膜の困難
軸方向の特性を有効に利用でき、30MHz以上の高周
波でも十分に高い効率で信号を記録再生できも 実施例 第1図〜第4図(よ 本発明の第1の実施例における磁
気ヘッドの製造工程の斜視図を示す。
まずチタン酸マグネシウム系の非磁性基板3aの片面上
に金属磁性膜と絶縁膜とをスパッタリングで交互に積層
し 積層膜4を形威すん 本実施例で(友 金属磁性膜
はCo−Nb−Zr−Taの組戒のアモルファス合金を
用いており、飽和磁束密度Bs〜8000G,キュリー
温度Tc〜490℃である。また 一層当りの膜厚1よ
 使用周波数帯における渦電流損失を考慮した厚さ以下
になっていも また絶縁膜SiOaを用い厚みは0.1
μmとした 次に この積層膜4が形成された基板3aと、もうひと
つの非磁性基板3bを積層膜4を挟むように重株 さら
にその基板3a, 3bの両側をSm−Coの高保磁力
材料からなる基板1a,lbで、その同一極面を向かい
合わせるように挟ヘ 各基板間を結晶化ガラス等の接着
ガラス2で接着することにより、第2図に示すような積
層体20をつくも この積層体20<&  金属磁性膜
とS iO2からなる積層膜4の両側を非磁性基板3a
, 3bで挟ヘ さらにその両側を高保磁力材料1a,
 lbで、その同一極面を向い合わせるように挟んだ構
戊になっていも 次にこの積層体20を切断し 一対のコア半体20a,
20bをつくも そして一方のコア半体20aの磁気ギ
ャップ面に巻線窓5を形成し 両コア半体20a,20
bのギャップ面を平滑に研磨u  SiO2や高融点ガ
ラス等のギャップ材8を介して一対のコア半体20a,
 20bをギャップ面でつき合わせて、熱処理をほどこ
し ギャップ面で接着されたギヤップドバーを作製ずも
 そしてギャップドバーを所定の厚み9で切断し ヘッ
ドチップを得る(第3図)。以上の方法により作製した
ヘッド1よ 作用の項で説明したような磁界が熱処理中
に印加されることにより、第4図に示すように 磁化容
易軸7が巻線窓5を中心に放射状に形戒されも 第4図
において、4はアモルファス合金とSiOeからなる積
層膜玄磁化容易軸7が巻線窓5を中心に放射状に形戒さ
れていも また3は非磁性基板であん このヘッドは磁
路のほとんどが磁化困難軸方向となるので高周波帯域で
の初透磁率が高くなり、再生効率が高くなん 第7図は
 本発明の第2の実施例により作製されたヘッドの斜視
図であも 第1の実施例と異なるところは基板として、
Mn−ZnフエライI・の強磁性酸化物lOを用いてお
り、そのた△ トラック幅をガラス11で規制している
点であん このような基板を用いても本実施例の製造法
によれば磁化容易軸7が巻線窓5を中心に放射状に形成
され 高周波領域での再生効率が高いヘッドが実現でき
九 本実施例で(友 高保磁力材料としてSm−COを
用いた択 その材料のキュリー温度力文 ギャップ形成
温度以上の高保磁力材料であれば どれを用いても良L
1  第8図は従来の無配向の積層金属磁性膜を用いた
磁気ヘッド(b)、および本発明の製造方法による磁化
容易軸が巻線窓を中心に放射状に形成された磁気ヘッド
(a)の相対出力の周波数特性を示す。30MHz以上
の高周波において、本発明の磁気ヘッド{友 従来の磁
気ヘッドを大きく上回る高周波特性を示していることが
わかん 発明の効果 本発明の製造方法によれζ1  30MHz以上の高周
波帯でも十分高い効率で記録再生できる高周波用磁気ヘ
ッドが容易に得られも
【図面の簡単な説明】
第1は 第2@ 第3図及び第4図は本発明の第1の実
施例における磁気ヘッドの製造工程の斜視は 第5@ 
第6図は同実施例の作用を示す原理は 第7図は本発明
の第2の実施例により得られた磁気ヘッドの斜視は 第
8図は従来の磁気ヘッドおよび本発明による磁気ヘッド
の相対出力の周波数特性を示す鳳 第9図は異方性の方
向による金属磁性膜の初透磁率の周波数特性の測定結果
を示す図であも

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属磁性膜の両側を非磁性基板で挟持したブロッ
    クの両側に、高保持力材料をその同一極面が向い合わう
    ように配して積層体を形成する工程と、前記積層体から
    一対のコア半体を切り出し、少なくとも一方のコア半体
    の磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程と、一対のコ
    ア半体を磁気ギャップ面で突合せ熱処理する工程を有す
    ることを特徴とする磁気ヘッドの製造法法。
  2. (2)金属磁性膜がアモルファス磁性膜であることを特
    徴とする請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。
  3. (3)金属磁性膜が金属磁性膜と絶縁膜との積層膜であ
    ることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッドの製造方
    法。
JP16163989A 1989-06-23 1989-06-23 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH0325708A (ja)

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