JPH0234082B2 - - Google Patents
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- JPH0234082B2 JPH0234082B2 JP56210425A JP21042581A JPH0234082B2 JP H0234082 B2 JPH0234082 B2 JP H0234082B2 JP 56210425 A JP56210425 A JP 56210425A JP 21042581 A JP21042581 A JP 21042581A JP H0234082 B2 JPH0234082 B2 JP H0234082B2
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録再生ヘツドに関し、特に媒体
上の磁化反転間隔が１ミクロン程度又はそれ以下
の高密度領域で使用する記録再生用の磁気ヘツド
に関する。
上の磁化反転間隔が１ミクロン程度又はそれ以下
の高密度領域で使用する記録再生用の磁気ヘツド
に関する。
磁気記録媒体上の記録密度を上げる為には記録
する磁化パターンの間隔を短くしなければならな
い。この場合媒体上の記録磁化は、磁化パターン
の反転間隔が短くなるにつれて媒体厚み方向の磁
化成分が大きくなり、高密度磁気記録を行うヘツ
ドとしては媒体厚み方向に磁路を形成できる事が
望ましい。一般に媒体厚み方向（垂直方向）に記
録再生する技術を垂直磁化記録と称し、詳しくは
例えば日本応用磁気学会第一回資料「磁気記録の
将来に関する−考察−垂直磁気記録の可能性につ
いて」（昭和52年５月26日）にて記載されている
のでここでは詳細は省く。第１図Ａは当該垂直磁
気記録における記録媒体及び磁気ヘツドの構造を
示すものであり、従来この構造で記録技術の開発
が進んでいる。第１図Ａは記録トラツク方向の断
面図であり、磁気記録媒体１０１は、記録又は再
生の過程で、ヘツドに対し例えば矢印１０６の方
向に移動する。磁気ヘツドは１０２及び１０４よ
り構成され、両者は媒体１０１を挾む様にして対
向している。１０２の中心付近には、媒体１０１
の面にほぼ垂直になる様に高透磁率磁性薄膜（例
えば１ミクロン前後の厚みのパーマロイ膜）１０
３が、基板１０２上にメツキ又はスパツター等の
プロセスで形成され、サンドイツチされた構造を
している。１０４は透磁率の比較的高い材料（例
えばNi−Znフエライト等）で構成された磁性コ
アでありコア１０４の周囲には、記録再生用コイ
ル１０５が巻きつけられている。記録時にはコイ
ル１０５に流す記録電流によつて生ずる磁界が矢
印１０７の如く媒体１０１を通過し、殊に磁性薄
膜１０３と媒体１０１との接触部分に磁界が集中
する事によつてその部分を磁化記録する。
する磁化パターンの間隔を短くしなければならな
い。この場合媒体上の記録磁化は、磁化パターン
の反転間隔が短くなるにつれて媒体厚み方向の磁
化成分が大きくなり、高密度磁気記録を行うヘツ
ドとしては媒体厚み方向に磁路を形成できる事が
望ましい。一般に媒体厚み方向（垂直方向）に記
録再生する技術を垂直磁化記録と称し、詳しくは
例えば日本応用磁気学会第一回資料「磁気記録の
将来に関する−考察−垂直磁気記録の可能性につ
いて」（昭和52年５月26日）にて記載されている
のでここでは詳細は省く。第１図Ａは当該垂直磁
気記録における記録媒体及び磁気ヘツドの構造を
示すものであり、従来この構造で記録技術の開発
が進んでいる。第１図Ａは記録トラツク方向の断
面図であり、磁気記録媒体１０１は、記録又は再
生の過程で、ヘツドに対し例えば矢印１０６の方
向に移動する。磁気ヘツドは１０２及び１０４よ
り構成され、両者は媒体１０１を挾む様にして対
向している。１０２の中心付近には、媒体１０１
の面にほぼ垂直になる様に高透磁率磁性薄膜（例
えば１ミクロン前後の厚みのパーマロイ膜）１０
３が、基板１０２上にメツキ又はスパツター等の
プロセスで形成され、サンドイツチされた構造を
している。１０４は透磁率の比較的高い材料（例
えばNi−Znフエライト等）で構成された磁性コ
アでありコア１０４の周囲には、記録再生用コイ
ル１０５が巻きつけられている。記録時にはコイ
ル１０５に流す記録電流によつて生ずる磁界が矢
印１０７の如く媒体１０１を通過し、殊に磁性薄
膜１０３と媒体１０１との接触部分に磁界が集中
する事によつてその部分を磁化記録する。
再生時には、同じく薄膜１０３が媒体１０１に
接触する部分の媒体上の記録磁化によつて薄膜１
０３とコア１０４の中に矢印１０７の如く発生す
る磁界の変化をコイル１０５が検出する。以上が
垂直磁化記録の方式と従来提案されているヘツド
構造の例である。第１図Ｂは従来水平磁化記録に
広く用いられている所謂るリング型のヘツド構造
を示してある。磁気コア１１０と１１１は媒体に
対向する面の側で近接し、所謂るギヤツプを形成
している。媒体対向面とは反対側になる部分にお
いてコア１１０と１１１は結合しており、リング
コア形状を成す。リングコアには記録再生用のコ
イル１０８が巻いてある。記録時又は再生時にお
いて磁界は矢印１０９の如くリング状のコア内に
形成され、記録時に、ギヤツプ先端部で媒体を磁
化記録し、再生時に、媒体上の記録磁化が発生す
る磁束の内、コア１１０内に入り込む磁束と１１
１内に入り込む磁束の差分がコイル１０８を通過
する。
接触する部分の媒体上の記録磁化によつて薄膜１
０３とコア１０４の中に矢印１０７の如く発生す
る磁界の変化をコイル１０５が検出する。以上が
垂直磁化記録の方式と従来提案されているヘツド
構造の例である。第１図Ｂは従来水平磁化記録に
広く用いられている所謂るリング型のヘツド構造
を示してある。磁気コア１１０と１１１は媒体に
対向する面の側で近接し、所謂るギヤツプを形成
している。媒体対向面とは反対側になる部分にお
いてコア１１０と１１１は結合しており、リング
コア形状を成す。リングコアには記録再生用のコ
イル１０８が巻いてある。記録時又は再生時にお
いて磁界は矢印１０９の如くリング状のコア内に
形成され、記録時に、ギヤツプ先端部で媒体を磁
化記録し、再生時に、媒体上の記録磁化が発生す
る磁束の内、コア１１０内に入り込む磁束と１１
１内に入り込む磁束の差分がコイル１０８を通過
する。
ここで、第１図Ａに示す高透磁率磁性膜はパー
マロイ等を蒸着或はスパツタ等によつて一般に形
成するものである。記録密度は、磁性膜１０３の
端面形状、特にその端部の所謂るエツジ形状が直
角に加工されていれば磁性膜１０３の厚さに関係
なく、高い値まで実現可能である。然しながら、
同一磁性膜によつて再生可能な磁化密度は磁性膜
厚に依存し、再生可能な最小磁化反転間隔は膜厚
の２分の１である事が知られている。第１図Ｂの
形状のヘツドに関しても同様に、ギヤツプ厚さの
２分の１か再生可能な磁化反転間隔の最小値であ
る。実用的な磁化反転間隔の最小値は、磁性膜１
０３の厚さ或はギヤツプ厚さと同等程度とされて
いる。前記垂直磁化記録の原理に従えば記録限界
は、磁化ドメイン相当、即ち数百オングストロー
ムまでとされている。記録密度換算で、１インチ
当たり、数百キロ個の酸化反転まで可能となる。
しかしながら、当業界で周知の如く、磁性膜１０
３をサブミクロンの厚さで、且つ磁気特性の優れ
た実用性の高い膜として形成する事は極めて困難
である。これに対し、非磁性膜で上記相当の薄膜
を形成する事は比較的容易である。実際、第１図
Ｂの構造でギヤツプ厚さを0.1ミクロン相当にお
いて実用的な再生ヘツドを形成できている。但
し、Ｂの形状にあつては、記録密度に限界があ
り、記録再生の両機能を備えたヘツドは得られな
い（既述の資料参照）。
マロイ等を蒸着或はスパツタ等によつて一般に形
成するものである。記録密度は、磁性膜１０３の
端面形状、特にその端部の所謂るエツジ形状が直
角に加工されていれば磁性膜１０３の厚さに関係
なく、高い値まで実現可能である。然しながら、
同一磁性膜によつて再生可能な磁化密度は磁性膜
厚に依存し、再生可能な最小磁化反転間隔は膜厚
の２分の１である事が知られている。第１図Ｂの
形状のヘツドに関しても同様に、ギヤツプ厚さの
２分の１か再生可能な磁化反転間隔の最小値であ
る。実用的な磁化反転間隔の最小値は、磁性膜１
０３の厚さ或はギヤツプ厚さと同等程度とされて
いる。前記垂直磁化記録の原理に従えば記録限界
は、磁化ドメイン相当、即ち数百オングストロー
ムまでとされている。記録密度換算で、１インチ
当たり、数百キロ個の酸化反転まで可能となる。
しかしながら、当業界で周知の如く、磁性膜１０
３をサブミクロンの厚さで、且つ磁気特性の優れ
た実用性の高い膜として形成する事は極めて困難
である。これに対し、非磁性膜で上記相当の薄膜
を形成する事は比較的容易である。実際、第１図
Ｂの構造でギヤツプ厚さを0.1ミクロン相当にお
いて実用的な再生ヘツドを形成できている。但
し、Ｂの形状にあつては、記録密度に限界があ
り、記録再生の両機能を備えたヘツドは得られな
い（既述の資料参照）。
本発明は、高密記録再生において生ずる係る磁
気ヘツドの問題点を克服し、記録においても、再
においても高密度領域を実現できる実用的なヘツ
ドを供する事を目的とする。以下、本発明になる
ヘツドに関して、２、３の実施例を基に説明す
る。第２図Ａは本発明になる磁気ヘツドの一実施
例であつてその基本的な構造を示す。第１図Ａに
対応する断面図である。第１図Ａの磁性膜１０３
に代つて二層の高透磁率磁性膜２０１と２０２が
ある。２０１と２０２は媒体対向部で所謂るギヤ
ツプ部を形成し、媒体対向部分とは反対側の端部
で互に結合している。これによつて２０１と２０
２は薄膜状のリング構造を取る。また磁性膜２０
１には再生用コイル２０３を巻いてある。両磁性
膜２０１，２０２は媒体を介して磁気コア１０４
に対向している。コア１０４には記録用コイル１
０５を巻いてある。記録時にコイル１０５に記録
電流を流すと、記録磁界が磁性膜２０１と２０２
の端面付近に集中し、該端面に近接する媒体１０
１が磁化記録される。媒体上に残る記録磁化は、
磁性膜後端部即ち磁性薄膜２０２の左端の所謂る
エツジ部分で磁化されたものとなり、両磁性膜２
０１，２０２の厚さは記録密度には関係ない。再
生時にあつては、媒体上の記録磁化により磁性膜
２０１と２０２の媒体対向面に磁束が漏れ込む。
この時両磁性膜はリング構造を形成しているの
で、コイル２０３を通過する磁束は、磁性膜２０
１と２０２が媒体対向面付近に形成するギヤツプ
近傍の記録磁化に対応する。従つて再生時に、コ
イル２０３の端子に誘起される電流を検出する事
によりギヤツプ付近の記録磁化を再生できる。第
２図Ｂは下側ヘツドが磁気コアを持たない例であ
る。第３図は、第２図２０１，２０２，２０３の
具体的な実施形状例であり、コイル２０３を含め
て全て薄膜で形成した場合を示す。Ａは断面図、
Ｂは平面図である。チタン酸バリウム等の非磁性
基板３０１上にパーマロイ等によつて第一の磁性
膜３０２を形成する。磁性膜３０２上に、絶縁層
を介して、コイルを構成するアルミニウム又は銅
等の導体薄膜３０６を形成する。図は二層の導体
層から成るコイルの例であり、３０４の部分を中
心に導体３０６はスパイラル形状を成している。
本スパイラルコイル薄膜形状は当業界にあつては
既知のものであるので詳細な構造の説明は略す。
更にコイル導体層の上に、絶縁層を介して第二の
磁性膜３０３を形成する。ここで、３０３は、３
０４の部分で、第一の磁性膜３０２と結合する
様、３０４部分の絶縁層は除去されている。ま
た、ヘツドの媒体対向面側３０５で、絶縁層の厚
みを薄くし、所謂るギヤツプ部を構成する。第二
の磁性膜の上には保護層３０７を形成する。第２
図、或は第３図において、両磁性膜の厚さは既述
の如く特別記録密度には関係しないので、製造し
易い、0.5〜２ミクロン程度が適当である。第３
図３０５のギヤツプ厚さは再生限界に係る為、十
分薄くする必要がある。具体的には、例えば、必
要なギヤツプ厚相当のSiO2膜を第一の磁性層上
に形成して後、レジスト材等によつて他の絶縁層
を形成する。第二の磁性膜の形成に先立つて３０
５部分のみレジスト絶縁層をエツチング除去し
て、SiO2のみを残し、所期の膜厚を得る事がで
きている。
気ヘツドの問題点を克服し、記録においても、再
においても高密度領域を実現できる実用的なヘツ
ドを供する事を目的とする。以下、本発明になる
ヘツドに関して、２、３の実施例を基に説明す
る。第２図Ａは本発明になる磁気ヘツドの一実施
例であつてその基本的な構造を示す。第１図Ａに
対応する断面図である。第１図Ａの磁性膜１０３
に代つて二層の高透磁率磁性膜２０１と２０２が
ある。２０１と２０２は媒体対向部で所謂るギヤ
ツプ部を形成し、媒体対向部分とは反対側の端部
で互に結合している。これによつて２０１と２０
２は薄膜状のリング構造を取る。また磁性膜２０
１には再生用コイル２０３を巻いてある。両磁性
膜２０１，２０２は媒体を介して磁気コア１０４
に対向している。コア１０４には記録用コイル１
０５を巻いてある。記録時にコイル１０５に記録
電流を流すと、記録磁界が磁性膜２０１と２０２
の端面付近に集中し、該端面に近接する媒体１０
１が磁化記録される。媒体上に残る記録磁化は、
磁性膜後端部即ち磁性薄膜２０２の左端の所謂る
エツジ部分で磁化されたものとなり、両磁性膜２
０１，２０２の厚さは記録密度には関係ない。再
生時にあつては、媒体上の記録磁化により磁性膜
２０１と２０２の媒体対向面に磁束が漏れ込む。
この時両磁性膜はリング構造を形成しているの
で、コイル２０３を通過する磁束は、磁性膜２０
１と２０２が媒体対向面付近に形成するギヤツプ
近傍の記録磁化に対応する。従つて再生時に、コ
イル２０３の端子に誘起される電流を検出する事
によりギヤツプ付近の記録磁化を再生できる。第
２図Ｂは下側ヘツドが磁気コアを持たない例であ
る。第３図は、第２図２０１，２０２，２０３の
具体的な実施形状例であり、コイル２０３を含め
て全て薄膜で形成した場合を示す。Ａは断面図、
Ｂは平面図である。チタン酸バリウム等の非磁性
基板３０１上にパーマロイ等によつて第一の磁性
膜３０２を形成する。磁性膜３０２上に、絶縁層
を介して、コイルを構成するアルミニウム又は銅
等の導体薄膜３０６を形成する。図は二層の導体
層から成るコイルの例であり、３０４の部分を中
心に導体３０６はスパイラル形状を成している。
本スパイラルコイル薄膜形状は当業界にあつては
既知のものであるので詳細な構造の説明は略す。
更にコイル導体層の上に、絶縁層を介して第二の
磁性膜３０３を形成する。ここで、３０３は、３
０４の部分で、第一の磁性膜３０２と結合する
様、３０４部分の絶縁層は除去されている。ま
た、ヘツドの媒体対向面側３０５で、絶縁層の厚
みを薄くし、所謂るギヤツプ部を構成する。第二
の磁性膜の上には保護層３０７を形成する。第２
図、或は第３図において、両磁性膜の厚さは既述
の如く特別記録密度には関係しないので、製造し
易い、0.5〜２ミクロン程度が適当である。第３
図３０５のギヤツプ厚さは再生限界に係る為、十
分薄くする必要がある。具体的には、例えば、必
要なギヤツプ厚相当のSiO2膜を第一の磁性層上
に形成して後、レジスト材等によつて他の絶縁層
を形成する。第二の磁性膜の形成に先立つて３０
５部分のみレジスト絶縁層をエツチング除去し
て、SiO2のみを残し、所期の膜厚を得る事がで
きている。
両磁性膜の、媒体対向面におけるトラツク幅方
向の長さは基本的に同一であるので図面は省略す
る。第４図は、トラツク幅方向の長さを、第一と
第二の磁性膜で異なる場合の実施例を示してあ
る。４０１は第３図３０２に、４０２は第３図３
０３に対応する磁性膜の、トラツク幅方向の図面
である。磁性膜４０１と４０２は、結合部４０３
で３０４の如く結合している。ここで媒体１０１
に対向する部分における膜幅は図中ａ，ｂで示す
如く異なつている。ヘツド移動方向に対して磁性
膜４０１が後端にあれば、媒体上の記録トラツク
幅はｂとなり、再生トラツク幅はａで決まる。即
ち記録トラツク幅に対する再生トラツクの位置ず
れに対し許容量として（ｂ−ａ）を与える事がで
きる。
向の長さは基本的に同一であるので図面は省略す
る。第４図は、トラツク幅方向の長さを、第一と
第二の磁性膜で異なる場合の実施例を示してあ
る。４０１は第３図３０２に、４０２は第３図３
０３に対応する磁性膜の、トラツク幅方向の図面
である。磁性膜４０１と４０２は、結合部４０３
で３０４の如く結合している。ここで媒体１０１
に対向する部分における膜幅は図中ａ，ｂで示す
如く異なつている。ヘツド移動方向に対して磁性
膜４０１が後端にあれば、媒体上の記録トラツク
幅はｂとなり、再生トラツク幅はａで決まる。即
ち記録トラツク幅に対する再生トラツクの位置ず
れに対し許容量として（ｂ−ａ）を与える事がで
きる。
第５図は、更に別の実施例について模式的な構
造を示してある。５０１と５０２はそれぞれ前記
した第一と第二の磁性膜に相当し、５０８部分に
ギヤツプを形成している。磁性膜５０１と５０２
は、５０５の部分で結合している。又５０５を磁
芯とする如く再生用コイル５０４が巻いてある。
造を示してある。５０１と５０２はそれぞれ前記
した第一と第二の磁性膜に相当し、５０８部分に
ギヤツプを形成している。磁性膜５０１と５０２
は、５０５の部分で結合している。又５０５を磁
芯とする如く再生用コイル５０４が巻いてある。
更に、両磁性膜の外側には、両磁性膜を磁芯と
する如く、記録用コイル５０３が巻いてある。従
つて、実施例第５図にあつては、媒体を挾んで磁
性膜に対向するヘツド部材はない。基本的な構造
は以上である。ヘツドの形状は第５図の如く対称
である必要は格別ない。更に記録再生特性は、或
はＳ／Ｎ比に関して、磁気コア材５０６，５０７
を図の如く設けてやる事により性能の向上を計れ
る。
する如く、記録用コイル５０３が巻いてある。従
つて、実施例第５図にあつては、媒体を挾んで磁
性膜に対向するヘツド部材はない。基本的な構造
は以上である。ヘツドの形状は第５図の如く対称
である必要は格別ない。更に記録再生特性は、或
はＳ／Ｎ比に関して、磁気コア材５０６，５０７
を図の如く設けてやる事により性能の向上を計れ
る。
コア材は片側だけでもよく、特に、浮上型ヘツ
ドスライダーを構成する場合には、片側だけ磁気
コアを付加する事が有効である。第５図において
磁性膜に、記録用コイルを巻きつけた場合、磁性
膜先端の、媒体対向部付近での記録磁界を強化す
る為に、磁性膜厚を、図の如く、媒体対向部付近
で薄くする事が有効である。
ドスライダーを構成する場合には、片側だけ磁気
コアを付加する事が有効である。第５図において
磁性膜に、記録用コイルを巻きつけた場合、磁性
膜先端の、媒体対向部付近での記録磁界を強化す
る為に、磁性膜厚を、図の如く、媒体対向部付近
で薄くする事が有効である。
以上本発明になるヘツドについて実施例を説明
したが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
したが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
以上説明したように本発明によれば、
第１と第２の高透磁率磁性膜が磁気記録媒体に
対向する面付近で非磁性膜を介して隣接し、反対
側で結合する構造とすることにより、 単純に磁性膜のみをどこまでも薄くすること
は、加工性、出力、検出力などの関係もあつて自
ら限界があり、特に高密度記録の再生には極めて
不適であつたが、高透磁率磁性膜を非磁性膜を介
してリング形状として極めて小さいギヤツプ部を
形成することができるので、このような簡単な構
造で高密度記録に対応した再生ヘツドとして用い
ることができる。併せて、高密度の垂直記録ヘツ
ドとしても、何等性能を低下させることなく共用
できる。
対向する面付近で非磁性膜を介して隣接し、反対
側で結合する構造とすることにより、 単純に磁性膜のみをどこまでも薄くすること
は、加工性、出力、検出力などの関係もあつて自
ら限界があり、特に高密度記録の再生には極めて
不適であつたが、高透磁率磁性膜を非磁性膜を介
してリング形状として極めて小さいギヤツプ部を
形成することができるので、このような簡単な構
造で高密度記録に対応した再生ヘツドとして用い
ることができる。併せて、高密度の垂直記録ヘツ
ドとしても、何等性能を低下させることなく共用
できる。
さらに、リング形状にしたことから、記録媒体
からの漏れ磁界の検出に際して、磁気ループの磁
気抵抗が最も少なくなり、すなわち第１と第２の
高透磁率磁性膜がループを閉じているので、再生
磁界を極めて検出しやすく、外部の雑音磁界を拾
うことが極めて少なく、したがつてＳ／Ｎ比がよ
いという効果も有する。
からの漏れ磁界の検出に際して、磁気ループの磁
気抵抗が最も少なくなり、すなわち第１と第２の
高透磁率磁性膜がループを閉じているので、再生
磁界を極めて検出しやすく、外部の雑音磁界を拾
うことが極めて少なく、したがつてＳ／Ｎ比がよ
いという効果も有する。
第１図Ａは垂直型の磁気記録ヘツド、Ｂはリン
グ型ヘツドの例である。第２図、第３図、第４
図、第５図は本発明になるヘツドの構造例を示し
ている。 １０３，２０１，２０２，３０２，３０３，５
０１，５０２……高透磁率磁性薄膜、１０４，１
１０，１１１……磁気コア、１０５，１０８……
コイル、２０３，３０６，５０４……再生用コイ
ル、３０５，５０８……ギヤツプ部。
グ型ヘツドの例である。第２図、第３図、第４
図、第５図は本発明になるヘツドの構造例を示し
ている。 １０３，２０１，２０２，３０２，３０３，５
０１，５０２……高透磁率磁性薄膜、１０４，１
１０，１１１……磁気コア、１０５，１０８……
コイル、２０３，３０６，５０４……再生用コイ
ル、３０５，５０８……ギヤツプ部。
Claims (1)
- １ 第１と第２の高透磁率磁性膜が磁気記録媒体
に対向する面付近で非磁性薄膜層を介して隣接
し、反対側で結合するとともに、前記第１と第２
の高透磁率磁性膜の間に該両磁性膜を磁芯とする
コイル状の導体を備え、且つ前記第１と第２の高
透磁率磁性膜に対し同一極性の磁界を発生するコ
イルとを有してなり、記録時には前記コイルによ
り発生される同一極性の記録磁界によつて前記第
１と第２の高透磁率磁性膜が同時に励磁されて媒
体を記録磁化し、再生時には前記第１と第２の高
透磁率磁性膜の前記記録媒体と対向する隣接部よ
り漏れ込む磁束にもとづいて前記コイル状導体に
誘起される電流を検出する事を特徴とする磁気ヘ
ツド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21042581A JPS58111113A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 磁気ヘッド |
| US06/446,119 US4575777A (en) | 1981-12-08 | 1982-12-02 | Magnetic recording and reproducing head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21042581A JPS58111113A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58111113A JPS58111113A (ja) | 1983-07-02 |
| JPH0234082B2 true JPH0234082B2 (ja) | 1990-08-01 |
Family
ID=16589095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21042581A Granted JPS58111113A (ja) | 1981-12-08 | 1981-12-25 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58111113A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3330023A1 (de) * | 1983-08-19 | 1985-02-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Kombinierter schreib- und lese-magnetkopf fuer ein senkrecht zu magnetisierendes aufzeichnungsmedium |
| DE3346777A1 (de) * | 1983-12-23 | 1985-07-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Duennschicht-magnetkopf zur senkrechten (vertikalen) aufzeichnung |
| DE3346885A1 (de) * | 1983-12-23 | 1985-07-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Duennschicht-magnetkopf fuer ein senkrecht zu magnetisierendes aufzeichnungsmedium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613514A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Olympus Optical Co Ltd | Magnetic head |
-
1981
- 1981-12-25 JP JP21042581A patent/JPS58111113A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613514A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Olympus Optical Co Ltd | Magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58111113A (ja) | 1983-07-02 |
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