JPH103605A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH103605A JPH103605A JP8152535A JP15253596A JPH103605A JP H103605 A JPH103605 A JP H103605A JP 8152535 A JP8152535 A JP 8152535A JP 15253596 A JP15253596 A JP 15253596A JP H103605 A JPH103605 A JP H103605A
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、隣接クロストークの影響を少なく
抑えれることができる磁気ヘッドを加工歩留まり良く製
造する磁気ヘッドの製造方法を提供することを課題とす
る 【解決手段】 トラック幅規制溝形成時に両側面がトラ
ック幅規制溝形成面に対して略垂直面とされた位置合わ
せ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成し、
これら位置合わせ用突起部同士（２５Ａと２５Ｂ，２６
Ａと２６Ｂ）を位置合わせすることで、各磁気コア半体
５，６の磁気ギャップ形成用突部２４Ａを互いに位置合
わせする。
抑えれることができる磁気ヘッドを加工歩留まり良く製
造する磁気ヘッドの製造方法を提供することを課題とす
る 【解決手段】 トラック幅規制溝形成時に両側面がトラ
ック幅規制溝形成面に対して略垂直面とされた位置合わ
せ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成し、
これら位置合わせ用突起部同士（２５Ａと２５Ｂ，２６
Ａと２６Ｂ）を位置合わせすることで、各磁気コア半体
５，６の磁気ギャップ形成用突部２４Ａを互いに位置合
わせする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレ
コーダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録
再生装置に搭載して好適な磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
プレコーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレ
コーダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録
再生装置に搭載して好適な磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、高密度記録化を行うためには、
磁気記録媒体に記録されているトラックパターンをなる
べく狭くすることが必要となる。その一つの手法とし
て、トラック間にガードバンドを設けずに記録を行う、
いわゆるガードバンドレス記録方式がある。かかる記録
方式では、ガードバンドがないことから記録密度の向上
を図ることができる。
磁気記録媒体に記録されているトラックパターンをなる
べく狭くすることが必要となる。その一つの手法とし
て、トラック間にガードバンドを設けずに記録を行う、
いわゆるガードバンドレス記録方式がある。かかる記録
方式では、ガードバンドがないことから記録密度の向上
を図ることができる。
【０００３】しかし、このガードバンドレス記録方式に
おいては、各トラック間にガードバンドがないことか
ら、磁気ヘッドが隣接する記録トラックの信号をトレー
ス（再生）する際に生じる、いわゆる隣接クロストーク
が問題となる。
おいては、各トラック間にガードバンドがないことか
ら、磁気ヘッドが隣接する記録トラックの信号をトレー
ス（再生）する際に生じる、いわゆる隣接クロストーク
が問題となる。
【０００４】これを、家庭用ＶＴＲに搭載される磁気ヘ
ッドにより説明すると、図１に示すように、この磁気ヘ
ッドでは、通常、記録と再生は兼用になっており、この
ため再生の互換性を確保するために、記録トラックピッ
チよりも再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの幅）ＨＷの
方が広く形成されている。
ッドにより説明すると、図１に示すように、この磁気ヘ
ッドでは、通常、記録と再生は兼用になっており、この
ため再生の互換性を確保するために、記録トラックピッ
チよりも再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの幅）ＨＷの
方が広く形成されている。
【０００５】したがって、この家庭用ＶＴＲに搭載され
る磁気ヘッドによりガードバンドがない記録パターンを
再生する場合、上記磁気ギャップのズレが生じている部
分Ｇ１が求めるトラックＴＡに隣接する記録トラックＴ
Ｂの信号を拾うこととなり、上記隣接クロストークが生
じる。
る磁気ヘッドによりガードバンドがない記録パターンを
再生する場合、上記磁気ギャップのズレが生じている部
分Ｇ１が求めるトラックＴＡに隣接する記録トラックＴ
Ｂの信号を拾うこととなり、上記隣接クロストークが生
じる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の磁気
ヘッドでは、例えば家庭用デジタルＶＴＲの場合、アジ
マス記録された信号を再生してみると、再生Ｃ／Ｎを一
定にしても、得られるエラーレートに±１桁程度のバラ
ツキがあり、このバラツキの下限で磁気ヘッドが搭載さ
れる家庭用デジタルＶＴＲ等の磁気記録再生装置を設計
しなければならなかった。
ヘッドでは、例えば家庭用デジタルＶＴＲの場合、アジ
マス記録された信号を再生してみると、再生Ｃ／Ｎを一
定にしても、得られるエラーレートに±１桁程度のバラ
ツキがあり、このバラツキの下限で磁気ヘッドが搭載さ
れる家庭用デジタルＶＴＲ等の磁気記録再生装置を設計
しなければならなかった。
【０００７】また、従来の磁気ヘッドでは、例えば家庭
用ＶＴＲの標準テープ送り速度を２／３にして、録画再
生時間を１．５倍にしようとする長時間録画において、
Ｃ／Ｎ不足で再生に充分なエラーレートが得られないと
いう問題を有してした。
用ＶＴＲの標準テープ送り速度を２／３にして、録画再
生時間を１．５倍にしようとする長時間録画において、
Ｃ／Ｎ不足で再生に充分なエラーレートが得られないと
いう問題を有してした。
【０００８】他方、高密密度記録化に伴い、磁気テープ
上に記録されるパターンのピッチであるトラックピッチ
が狭くなると、上記隣接クロストークの影響が大きくな
り、Ｓ／Ｎやエラーレートの劣化の原因となることが知
られている。
上に記録されるパターンのピッチであるトラックピッチ
が狭くなると、上記隣接クロストークの影響が大きくな
り、Ｓ／Ｎやエラーレートの劣化の原因となることが知
られている。
【０００９】このため、従来の磁気ヘッドにおいて、再
生時の隣接クロストークの影響をできるだけ抑えるため
には、トラック幅規制溝の角度を磁気ギャップ対向面に
対してほぼ垂直になるように形成することが考えられ
る。
生時の隣接クロストークの影響をできるだけ抑えるため
には、トラック幅規制溝の角度を磁気ギャップ対向面に
対してほぼ垂直になるように形成することが考えられ
る。
【００１０】しかしながら、このような形状の磁気ヘッ
ドは、磁気ギャップ近傍の磁気コアの断面積が小さくな
り、記録再生の点で好ましくない。
ドは、磁気ギャップ近傍の磁気コアの断面積が小さくな
り、記録再生の点で好ましくない。
【００１１】さらに、従来の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部が両端部
まで完全に一致して突き合わされるわけでなく、一対の
磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の端部のズレが
生じる。このズレにより、隣接クロストークが生じるこ
とが知られているが、このズレと隣接クロストークとの
関係については具体的に明らかにされていない。
一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部が両端部
まで完全に一致して突き合わされるわけでなく、一対の
磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の端部のズレが
生じる。このズレにより、隣接クロストークが生じるこ
とが知られているが、このズレと隣接クロストークとの
関係については具体的に明らかにされていない。
【００１２】このため、例えば、トラック幅規制溝の角
度を大きく、すなわち大きな角度のＶ字状溝に形成する
ことにより、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用
突部の両端縁まで可能な限り一致させることが考えられ
る。
度を大きく、すなわち大きな角度のＶ字状溝に形成する
ことにより、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用
突部の両端縁まで可能な限り一致させることが考えられ
る。
【００１３】しかしながら、トラック幅規制溝の角度を
大きくすると、従来の磁気ヘッドの製造方法は、このト
ラック幅規制溝のエッジでのみ磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うために、加工歩留まりが著しく劣化する問
題を有していた。
大きくすると、従来の磁気ヘッドの製造方法は、このト
ラック幅規制溝のエッジでのみ磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うために、加工歩留まりが著しく劣化する問
題を有していた。
【００１４】そこで、本発明は、かかる従来の技術的な
課題に鑑みて提案されたものであって、隣接クロストー
クの影響を少なく抑えることができる磁気ヘッドを加工
歩留まり良く製造する磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを課題とする。
課題に鑑みて提案されたものであって、隣接クロストー
クの影響を少なく抑えることができる磁気ヘッドを加工
歩留まり良く製造する磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを課題とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するために鋭意研究した結果、磁気ギャップの
トラック幅のズレ量、方向を規制することにより、隣接
クロストークの影響を少なく抑えることができることを
見い出すとともに、この磁気ギャップのトラック幅のズ
レ量、方向を一定にする磁気ヘッドの製造方法を見い出
した。
題を解決するために鋭意研究した結果、磁気ギャップの
トラック幅のズレ量、方向を規制することにより、隣接
クロストークの影響を少なく抑えることができることを
見い出すとともに、この磁気ギャップのトラック幅のズ
レ量、方向を一定にする磁気ヘッドの製造方法を見い出
した。
【００１６】すなわち、本発明者等は、図４及び図５に
示す実験結果を得たが、かかる実験結果を詳細に検討し
て、後述する作用・効果を実現し得る発明を完成した。
示す実験結果を得たが、かかる実験結果を詳細に検討し
て、後述する作用・効果を実現し得る発明を完成した。
【００１７】まず、磁気ギャップのズレが生じている場
合としては、図３に示すように、一対の磁気コア半体の
磁気ギャップ形成用突部の端部のズレにより生じる中心
線Ｆの方向が求める記録トラックＴＡと隣接する記録ト
ラックＴＢのアジマス角に近くなる方向となる場合と、
図２に示すように、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の端部のズレにより生じる中心線Ｆの方向が
求める記録トラックＴＡと隣接する記録トラックＴＢの
アジマス角と遠くなる方向となる場合に分けられる。
合としては、図３に示すように、一対の磁気コア半体の
磁気ギャップ形成用突部の端部のズレにより生じる中心
線Ｆの方向が求める記録トラックＴＡと隣接する記録ト
ラックＴＢのアジマス角に近くなる方向となる場合と、
図２に示すように、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の端部のズレにより生じる中心線Ｆの方向が
求める記録トラックＴＡと隣接する記録トラックＴＢの
アジマス角と遠くなる方向となる場合に分けられる。
【００１８】すなわち、ここで、磁気ギャップｇのズレ
Ｇ１による開き角θの二等分線の方向Ｆと隣接する記録
トラックのアジマス記録の角度との関係を問題として、
図２の場合を「＋方向の磁気ギャップのズレ」とし、図
３の場合、「−方向の磁気ギャップのズレ」と言うこと
とする。
Ｇ１による開き角θの二等分線の方向Ｆと隣接する記録
トラックのアジマス記録の角度との関係を問題として、
図２の場合を「＋方向の磁気ギャップのズレ」とし、図
３の場合、「−方向の磁気ギャップのズレ」と言うこと
とする。
【００１９】なお、再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの
幅）ＨＷが隣接する記録トラックＴＢに及ぶ部分Ｇ２で
は、正規の磁気ギャップによって求められるトラックＴ
Ａの信号が拾われ、いわゆる逆アジマスをスキャンする
ために、隣接する記録トラックＴＢの信号を拾うような
ことはない。
幅）ＨＷが隣接する記録トラックＴＢに及ぶ部分Ｇ２で
は、正規の磁気ギャップによって求められるトラックＴ
Ａの信号が拾われ、いわゆる逆アジマスをスキャンする
ために、隣接する記録トラックＴＢの信号を拾うような
ことはない。
【００２０】そこで、これら両者の場合の隣接クロスト
ークの影響を検討すると、上記＋方向の磁気ギャップの
ズレの場合は、図４に示すように、隣接クロストークの
影響が小さいことが分かる。他方、−方向の磁気ギャッ
プのズレの場合には、図５に示すように、隣接クロスト
ークの影響が大きいことが分かる。
ークの影響を検討すると、上記＋方向の磁気ギャップの
ズレの場合は、図４に示すように、隣接クロストークの
影響が小さいことが分かる。他方、−方向の磁気ギャッ
プのズレの場合には、図５に示すように、隣接クロスト
ークの影響が大きいことが分かる。
【００２１】ここで、図４及び図５は、上記磁気ギャッ
プのズレが生じている場合の隣接クロストークによりエ
ラーレートがどのように変化するかを示す特性図であ
る。また、図４及び図５は、磁気ヘッドのアジマス角が
±２０°の場合である。また、図４及び図５に示すプロ
ット（縦線）は、隣接クロストークの影響を、「有
り」、「無し」で測定した結果であり、縦線の下はクロ
ストークの影響のない分のプロットであり、縦線の上は
クロストークの影響のある分のプロットである。一つの
線が１つの磁気ヘッドのデータを示す。
プのズレが生じている場合の隣接クロストークによりエ
ラーレートがどのように変化するかを示す特性図であ
る。また、図４及び図５は、磁気ヘッドのアジマス角が
±２０°の場合である。また、図４及び図５に示すプロ
ット（縦線）は、隣接クロストークの影響を、「有
り」、「無し」で測定した結果であり、縦線の下はクロ
ストークの影響のない分のプロットであり、縦線の上は
クロストークの影響のある分のプロットである。一つの
線が１つの磁気ヘッドのデータを示す。
【００２２】ところで、正規の磁気ギャップｇで拾う隣
接のパターン成分は、アジマス損失によって周波数の高
い部分は抑えられるが、磁気ギャップのズレによる隣接
パターンは、−方向の磁気ギャップのズレの場合、アジ
マス損失はほとんど期待することができない。実際に、
周波数の高い部分では、正規の磁気ギャップから拾う量
よりも５ｄＢ程度高い場合がある。したがって、例え
ば、パーシャルレスポンスクラス４の信号のように、低
域の成分を信号検出に使わないシステムでは、このよう
な比較的高周波の隣接トラックからの漏れ込みが信号検
出にかなり影響を与えていることになる。
接のパターン成分は、アジマス損失によって周波数の高
い部分は抑えられるが、磁気ギャップのズレによる隣接
パターンは、−方向の磁気ギャップのズレの場合、アジ
マス損失はほとんど期待することができない。実際に、
周波数の高い部分では、正規の磁気ギャップから拾う量
よりも５ｄＢ程度高い場合がある。したがって、例え
ば、パーシャルレスポンスクラス４の信号のように、低
域の成分を信号検出に使わないシステムでは、このよう
な比較的高周波の隣接トラックからの漏れ込みが信号検
出にかなり影響を与えていることになる。
【００２３】以上の結果から、上記＋方向の磁気ギャッ
プのズレとなるように製造するか、或いは、磁気ギャッ
プのズレが生じないように製造すれば良いことになる
が、従来の磁気ヘッドの製造方法により、磁気ギャップ
のズレの方向を一定にしながら磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うと、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ
量の制御が困難であり、トラック精度を高精度に保つこ
とができない。
プのズレとなるように製造するか、或いは、磁気ギャッ
プのズレが生じないように製造すれば良いことになる
が、従来の磁気ヘッドの製造方法により、磁気ギャップ
のズレの方向を一定にしながら磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うと、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ
量の制御が困難であり、トラック精度を高精度に保つこ
とができない。
【００２４】そこで、本発明の磁気ヘッドの製造方法
は、上述の課題を解決するために、トラック幅規制溝が
形成され磁気ギャップ形成用突部が形成された一対の磁
気コア半体を、トラック幅規制溝形成面が互いに対向す
るように突き合わせて接合一体化し、上記磁気ギャップ
形成用突部の突き合わせ面間に磁気ギャップを形成する
磁気ヘッドの製造方法において、上記トラック幅規制溝
形成時に両側面がトラック幅規制溝形成面に対して略垂
直面とされた位置合わせ用突起部を形成し、これら位置
合わせ用突起部同士を位置合わせすることで、各磁気コ
ア半体の磁気ギャップ形成用突部を互いに位置合わせす
ることを特徴とする。
は、上述の課題を解決するために、トラック幅規制溝が
形成され磁気ギャップ形成用突部が形成された一対の磁
気コア半体を、トラック幅規制溝形成面が互いに対向す
るように突き合わせて接合一体化し、上記磁気ギャップ
形成用突部の突き合わせ面間に磁気ギャップを形成する
磁気ヘッドの製造方法において、上記トラック幅規制溝
形成時に両側面がトラック幅規制溝形成面に対して略垂
直面とされた位置合わせ用突起部を形成し、これら位置
合わせ用突起部同士を位置合わせすることで、各磁気コ
ア半体の磁気ギャップ形成用突部を互いに位置合わせす
ることを特徴とする。
【００２５】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
トラック幅規制溝形成時に両側面がトラック幅規制溝形
成面に対して略垂直面とされた位置合わせ用突起部を形
成し、これら位置合わせ用突起部同士を位置合わせする
ことで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部を互
いに位置合わせすることから、精度が高い磁気ヘッドが
製造される。
トラック幅規制溝形成時に両側面がトラック幅規制溝形
成面に対して略垂直面とされた位置合わせ用突起部を形
成し、これら位置合わせ用突起部同士を位置合わせする
ことで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部を互
いに位置合わせすることから、精度が高い磁気ヘッドが
製造される。
【００２６】また、突き合わせ幅の異なる複数の位置合
わせ用突起部を一定のピッチで形成し、これら突き合わ
せ幅の異なる位置合わせ用突起部を位置合わせすること
で、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ位置に位置合わせ用突起部の幅の相違に応じたズレ
を付与することにより、磁気ギャップのズレが一定の磁
気ヘッドが良好な突き合わせ精度をもって製造される。
わせ用突起部を一定のピッチで形成し、これら突き合わ
せ幅の異なる位置合わせ用突起部を位置合わせすること
で、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ位置に位置合わせ用突起部の幅の相違に応じたズレ
を付与することにより、磁気ギャップのズレが一定の磁
気ヘッドが良好な突き合わせ精度をもって製造される。
【００２７】そして、磁気ギャップにアジマス角を付与
するに際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面と
これと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、
隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、
磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方
向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを付与する
ことより、再生する際に隣接チャンネルからのクロスト
ークを抑制することができる磁気ヘッドが製造される。
するに際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面と
これと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、
隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、
磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方
向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを付与する
ことより、再生する際に隣接チャンネルからのクロスト
ークを抑制することができる磁気ヘッドが製造される。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明す
る。
実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明す
る。
【００２９】実施の形態１ 本実施の形態は、磁気ギャップ部を金属磁性膜により形
成するようにしたメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａｌ
ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッド（以下、「ＭＩＧヘッ
ド」と称する。）に適用したものである。
成するようにしたメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａｌ
ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッド（以下、「ＭＩＧヘッ
ド」と称する。）に適用したものである。
【００３０】本例の磁気ヘッドは、図６に示すように、
フェライトよりなる磁気コア基板１，２とこの磁気コア
基板１，２の突き合わせ面にそれぞれ被着形成される金
属磁性膜３，４とからなる一対の磁気コア半体５，６と
によって閉磁路が構成され、その金属磁性膜３，４の突
き合わせ面間に記録再生ギャップとして動作するアジマ
ス角が付与された磁気ギャップｇが形成されている。
フェライトよりなる磁気コア基板１，２とこの磁気コア
基板１，２の突き合わせ面にそれぞれ被着形成される金
属磁性膜３，４とからなる一対の磁気コア半体５，６と
によって閉磁路が構成され、その金属磁性膜３，４の突
き合わせ面間に記録再生ギャップとして動作するアジマ
ス角が付与された磁気ギャップｇが形成されている。
【００３１】上記磁気コア基板１，２は、例えばフェラ
イト等の酸化物磁性材料からなり、主コアとして機能す
るコア断面積が小さい金属磁性膜３，４をバックアップ
する補助コアとして機能するようになっている。つま
り、金属磁性膜３，４のコア断面積が小さい分、この磁
気コア基板１，２のコアボリュームによって再生出力の
劣化を防止するようになっている。
イト等の酸化物磁性材料からなり、主コアとして機能す
るコア断面積が小さい金属磁性膜３，４をバックアップ
する補助コアとして機能するようになっている。つま
り、金属磁性膜３，４のコア断面積が小さい分、この磁
気コア基板１，２のコアボリュームによって再生出力の
劣化を防止するようになっている。
【００３２】また、この磁気コア基板１，２において
は、その突き合わせ面側の形状が断面略々台形状として
形成されている。すなわち、この磁気コア基板１，２の
突き合わせ面側は、上記磁気ギャップｇと平行なギャッ
プ形成面７，８と、このギャップ形成面７，８の両端部
に上記磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制するため
のトラック幅規制溝９，１０，１１，１２が形成されて
いる。
は、その突き合わせ面側の形状が断面略々台形状として
形成されている。すなわち、この磁気コア基板１，２の
突き合わせ面側は、上記磁気ギャップｇと平行なギャッ
プ形成面７，８と、このギャップ形成面７，８の両端部
に上記磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制するため
のトラック幅規制溝９，１０，１１，１２が形成されて
いる。
【００３３】なお、上記トラック幅規制溝７，８，９，
１０内には、それぞれ磁気記録媒体との当たり特性を確
保すると共に摺接による偏摩耗を防止する目的で、ガラ
ス等の非磁性材１４が充填されている。
１０内には、それぞれ磁気記録媒体との当たり特性を確
保すると共に摺接による偏摩耗を防止する目的で、ガラ
ス等の非磁性材１４が充填されている。
【００３４】また、一方の磁気コア基板１の突き合わせ
面には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに、
図示しないコイルを巻装するための断面略コ字状の巻線
溝１３がコア厚方向に形成されている。
面には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに、
図示しないコイルを巻装するための断面略コ字状の巻線
溝１３がコア厚方向に形成されている。
【００３５】一方、金属磁性膜３，４は、磁気コア基板
１，２の突き合わせ面に、フロント側よりバック側にわ
たって成膜されている。すなわち、上記金属磁性膜３，
４は、磁気コア基板１，２のギャップ形成面７，８及び
この両端縁側に設けられるトラック幅規制溝９，１０，
１１，１２上にそのフロント側よりバック側にわたって
形成されている。
１，２の突き合わせ面に、フロント側よりバック側にわ
たって成膜されている。すなわち、上記金属磁性膜３，
４は、磁気コア基板１，２のギャップ形成面７，８及び
この両端縁側に設けられるトラック幅規制溝９，１０，
１１，１２上にそのフロント側よりバック側にわたって
形成されている。
【００３６】上記金属磁性膜３、４には、高い飽和磁束
密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、この強磁性材料としては、従来より公知の結
晶質、非結晶質、あるいは微結晶質のものが使用でき
る。
密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、この強磁性材料としては、従来より公知の結
晶質、非結晶質、あるいは微結晶質のものが使用でき
る。
【００３７】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。
【００３８】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術がいずれも採用される。
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術がいずれも採用される。
【００３９】また、金属磁性膜３，４は、前記強磁性合
金材料の単層膜であっても良いが、例えばＳｉＯ2 ，Ｔ
ａ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 ＮＯ4 等の中間層を介して
何層にも積層した積層膜とするようにしても良い。
金材料の単層膜であっても良いが、例えばＳｉＯ2 ，Ｔ
ａ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，Ｓｉ3 ＮＯ4 等の中間層を介して
何層にも積層した積層膜とするようにしても良い。
【００４０】また、上記基板３，４には、フェライト材
の他、非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラミッ
ク、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、ＢａＴ
ｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 等のチタン酸系セラミック等が用
いられる。
の他、非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラミッ
ク、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、ＢａＴ
ｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 等のチタン酸系セラミック等が用
いられる。
【００４１】そして、本例の磁気ヘッドにおいては特
に、図２に示すように、各磁気コア半体５，６の磁気ギ
ャップ形成用突部２４Ａの突き合わせ位置にトラック幅
方向のズレＧ１が付与されている。
に、図２に示すように、各磁気コア半体５，６の磁気ギ
ャップ形成用突部２４Ａの突き合わせ位置にトラック幅
方向のズレＧ１が付与されている。
【００４２】前記ズレＧ１は、磁気ギャップ形成用突部
２４Ａの突き合わせ面８とこれと対向するトラック幅規
制溝の壁面１０との中心線Ｆと、隣接する記録トラック
ＴＢのアジマス方向とがなす角度θ１が、磁気ギャップ
ｇと前記隣接する記録トラックＴＢのアジマス方向とが
なす角度θよりも大きくなる方向にズレである（前記
「＋方向の磁気ギャップのズレ」）。
２４Ａの突き合わせ面８とこれと対向するトラック幅規
制溝の壁面１０との中心線Ｆと、隣接する記録トラック
ＴＢのアジマス方向とがなす角度θ１が、磁気ギャップ
ｇと前記隣接する記録トラックＴＢのアジマス方向とが
なす角度θよりも大きくなる方向にズレである（前記
「＋方向の磁気ギャップのズレ」）。
【００４３】これは、図４に示すように、磁気ギャップ
のズレＧ１の部分が拾う隣接パターン信号の量は磁気ギ
ャップのズレＧ１の方向に強く依存するためである。す
なわち、トラック幅Ｔｗを規制するトラック幅規制溝１
０，１１の磁気ギャップｇのズレＧ１による開き角θの
二等分線の方向Ｆが隣接する記録トラックのアジマス記
録の角度から遠くなる方向に形成することにより、隣接
する記録トラックのアジマス記録に影響を与えるような
ことがなくなり、隣接チャンネルからのクロストークを
減少させることができるからである。
のズレＧ１の部分が拾う隣接パターン信号の量は磁気ギ
ャップのズレＧ１の方向に強く依存するためである。す
なわち、トラック幅Ｔｗを規制するトラック幅規制溝１
０，１１の磁気ギャップｇのズレＧ１による開き角θの
二等分線の方向Ｆが隣接する記録トラックのアジマス記
録の角度から遠くなる方向に形成することにより、隣接
する記録トラックのアジマス記録に影響を与えるような
ことがなくなり、隣接チャンネルからのクロストークを
減少させることができるからである。
【００４４】そこで、本実施の形態では、トラック幅Ｔ
ｗを規制するトラック幅規制溝１０，１１の磁気ギャッ
プｇのズレＧ１による開き角θの二等分線の方向Ｆが隣
接する記録トラックのアジマス記録の角度から遠くなる
方向に形成されている。
ｗを規制するトラック幅規制溝１０，１１の磁気ギャッ
プｇのズレＧ１による開き角θの二等分線の方向Ｆが隣
接する記録トラックのアジマス記録の角度から遠くなる
方向に形成されている。
【００４５】次に、本実施の形態の磁気ヘッドの製造方
法について説明する。
法について説明する。
【００４６】先ず、図７に示すように、フェライト材よ
りなる基板２１を用意する。そして、平面研削盤を用い
て基板２１の平面出しを行う。
りなる基板２１を用意する。そして、平面研削盤を用い
て基板２１の平面出しを行う。
【００４７】本例では、上記基板２１として、磁性フェ
ライト材の単結晶あるいは多結晶、これらの接合材、又
は、非磁性フェライト，ＢａＴｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 ，
結晶化ガラス等の非磁性のものが挙げられる。
ライト材の単結晶あるいは多結晶、これらの接合材、又
は、非磁性フェライト，ＢａＴｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 ，
結晶化ガラス等の非磁性のものが挙げられる。
【００４８】また、本実施の形態に用いた単結晶フェラ
イトの面方位は図７に示す通りであるが、他の面方位の
単結晶基板、多結晶基板や、単結晶フェライトと多結晶
フェライトとの接合基板等を用いてもよい。
イトの面方位は図７に示す通りであるが、他の面方位の
単結晶基板、多結晶基板や、単結晶フェライトと多結晶
フェライトとの接合基板等を用いてもよい。
【００４９】次に、スライサーを用いて、図８に示すよ
うに、基板２１の長手方向に巻線溝２２と、ガラス溝２
３を２つずつ形成する。すなわち、基板２１の中央から
これら巻線溝２２と、ガラス溝２３が各々対称となるよ
うにして形成する。このように形成することにより、上
記一つの基板２１から一対の磁気コア半体５，６となる
一対の磁気コアブロック２１ａ，２１ｂが形成されるこ
とになる（図１３参照）。
うに、基板２１の長手方向に巻線溝２２と、ガラス溝２
３を２つずつ形成する。すなわち、基板２１の中央から
これら巻線溝２２と、ガラス溝２３が各々対称となるよ
うにして形成する。このように形成することにより、上
記一つの基板２１から一対の磁気コア半体５，６となる
一対の磁気コアブロック２１ａ，２１ｂが形成されるこ
とになる（図１３参照）。
【００５０】次いで、スライサーを用いて、図９に示す
ように、巻線溝２２、ガラス溝２３と直角の方向、すな
わち基板２１の幅方向にトラック幅規制溝２４を形成す
る。そして、このトラック幅規制溝２４の形成の際に、
位置合わせ溝２５，２６を形成して、位置合わせ用突起
部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成する。
ように、巻線溝２２、ガラス溝２３と直角の方向、すな
わち基板２１の幅方向にトラック幅規制溝２４を形成す
る。そして、このトラック幅規制溝２４の形成の際に、
位置合わせ溝２５，２６を形成して、位置合わせ用突起
部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成する。
【００５１】ここで、これらの位置合わせ用突起部２５
Ａ，２５Ｂの幅Ｈ２と、位置合わせ用突起部２６Ａ，２
６Ｂの幅Ｈ３は、その突き合わせ幅の間隔が異なるもの
である。なお、これらトラック幅規制溝２４と位置合わ
せ溝２５，２６を形成した後は、ポリッシング等により
基板２１の表面の鏡面加工を行う。
Ａ，２５Ｂの幅Ｈ２と、位置合わせ用突起部２６Ａ，２
６Ｂの幅Ｈ３は、その突き合わせ幅の間隔が異なるもの
である。なお、これらトラック幅規制溝２４と位置合わ
せ溝２５，２６を形成した後は、ポリッシング等により
基板２１の表面の鏡面加工を行う。
【００５２】この点、従来のトラック幅規制溝は、トラ
ック幅規制溝をすべての基板の垂直方向に対して３０°
とし、トラック幅規制溝がすべて均一になるように形成
されていた。
ック幅規制溝をすべての基板の垂直方向に対して３０°
とし、トラック幅規制溝がすべて均一になるように形成
されていた。
【００５３】しかし、本実施の形態では、基板２１の幅
方向Ｌの両端部（図９中，符号「ａ」「ｃ」に示す。）
に、位置合わせ溝２５，２６をトラック幅規制溝２４と
隣り合わせとなるように形成して、上記突き合わせ幅の
異なる位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２
６Ｂを形成した後に、残りの部分に３０°のトラック幅
規制幅２４を形成した。
方向Ｌの両端部（図９中，符号「ａ」「ｃ」に示す。）
に、位置合わせ溝２５，２６をトラック幅規制溝２４と
隣り合わせとなるように形成して、上記突き合わせ幅の
異なる位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２
６Ｂを形成した後に、残りの部分に３０°のトラック幅
規制幅２４を形成した。
【００５４】そして、上記位置合わせ溝２５，２６を基
板２１の幅方向Ｌに対して垂直となるように形成した。
すなわち、位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６
Ａ，２６Ｂは、その両側面がトラック幅規制溝形成面に
対して略垂直面とされている。このように位置合わせ用
突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成すること
により、トラック幅規制溝２４の形成角度に影響される
ことなく、一対の磁気コア半体となる基板２１ａ，２１
ｂの突き合わせが行われる。
板２１の幅方向Ｌに対して垂直となるように形成した。
すなわち、位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６
Ａ，２６Ｂは、その両側面がトラック幅規制溝形成面に
対して略垂直面とされている。このように位置合わせ用
突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成すること
により、トラック幅規制溝２４の形成角度に影響される
ことなく、一対の磁気コア半体となる基板２１ａ，２１
ｂの突き合わせが行われる。
【００５５】ここで、この位置合わせ用突起部２５Ａ，
２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂは、図１０乃至図１２に示すよ
うに、基板２１の最端部の突起部２５Ａ，２５Ｂの幅Ｈ
２が１４．５μｍであり、トラック幅規制溝２４と隣接
する側の突起部２６Ａ，２６Ｂの幅Ｈ３が１３μｍ残る
ように形成した。このように設定することにより、磁気
ギャップのトラック幅方向のズレ量δが１．５μｍで、
トラック幅Ｔｗが１１．５μｍの磁気ヘッドを作製する
ことができる。
２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂは、図１０乃至図１２に示すよ
うに、基板２１の最端部の突起部２５Ａ，２５Ｂの幅Ｈ
２が１４．５μｍであり、トラック幅規制溝２４と隣接
する側の突起部２６Ａ，２６Ｂの幅Ｈ３が１３μｍ残る
ように形成した。このように設定することにより、磁気
ギャップのトラック幅方向のズレ量δが１．５μｍで、
トラック幅Ｔｗが１１．５μｍの磁気ヘッドを作製する
ことができる。
【００５６】また、トラック幅規制溝２４間に形成され
る磁気ギャップ形成用突部２４Ａの幅Ｈ１は、上記突起
部２６Ａ，２６Ｂの幅Ｈ３と同じく１３μｍ残るように
形成されている。さらに、トラック幅規制溝２４の傾斜
角度は、基板２１の垂直方向に対して３０°となるよう
に形成した。ただし、本発明は、これらに限定されるも
のではないことは言うまでもない。
る磁気ギャップ形成用突部２４Ａの幅Ｈ１は、上記突起
部２６Ａ，２６Ｂの幅Ｈ３と同じく１３μｍ残るように
形成されている。さらに、トラック幅規制溝２４の傾斜
角度は、基板２１の垂直方向に対して３０°となるよう
に形成した。ただし、本発明は、これらに限定されるも
のではないことは言うまでもない。
【００５７】なお、本実施の形態では、位置合わせ溝２
５，２６は、基板２１の幅方向Ｌに対して垂直となる形
状で基板２１の両端部ａ，ｂに形成したが、該位置合わ
せ溝２５，２６の形状は、例えばＶ字状等の他の形状と
することも可能であり、その位置も基板２１の他の部分
に設けるようにしても良い。
５，２６は、基板２１の幅方向Ｌに対して垂直となる形
状で基板２１の両端部ａ，ｂに形成したが、該位置合わ
せ溝２５，２６の形状は、例えばＶ字状等の他の形状と
することも可能であり、その位置も基板２１の他の部分
に設けるようにしても良い。
【００５８】次いで、図１３に示すように、上記基板２
１をその中央から切断して、切断された基板２１ａ，２
１ｂを作製する。
１をその中央から切断して、切断された基板２１ａ，２
１ｂを作製する。
【００５９】ここで、本実施の形態では、１つの基板２
１に、巻線溝２２、ガラス溝２３の他、上記構成の位置
合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成
するものであることから、上記切断により、各々対称な
位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂが
形成されることとなる。
１に、巻線溝２２、ガラス溝２３の他、上記構成の位置
合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂを形成
するものであることから、上記切断により、各々対称な
位置合わせ用突起部２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂが
形成されることとなる。
【００６０】次いで、上記切断された基板２１ａ，２１
ｂに、図１４及び図１５に示すように、スパッタリング
を用いて金属磁性膜２７を形成し、その上にギャップ膜
２８を形成する。この金属磁性膜２７の成膜に際して
は、図１５に示すように、先のトラック幅規制溝内も含
めて成膜する。この金属磁性膜２７としては、本実施の
形態では、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金を用いた。
ｂに、図１４及び図１５に示すように、スパッタリング
を用いて金属磁性膜２７を形成し、その上にギャップ膜
２８を形成する。この金属磁性膜２７の成膜に際して
は、図１５に示すように、先のトラック幅規制溝内も含
めて成膜する。この金属磁性膜２７としては、本実施の
形態では、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金を用いた。
【００６１】ここで、基板２１ａ，２１ｂと金属磁性膜
２７との付着力の向上のために、ＳｉＯ2,Ｔａ2 Ｏ5 等
の酸化物膜、Ｓｉ3 Ｏ4 等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，
Ａｌ、Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びこれらの合金膜、さら
に、これらを組み合わせた積層膜を金属磁性膜２７の下
地膜として用いても良い。本実施の形態では、この付着
力の向上のために、厚さ５ｎｍのＳｉＯ2 膜を用いた。
２７との付着力の向上のために、ＳｉＯ2,Ｔａ2 Ｏ5 等
の酸化物膜、Ｓｉ3 Ｏ4 等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，
Ａｌ、Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びこれらの合金膜、さら
に、これらを組み合わせた積層膜を金属磁性膜２７の下
地膜として用いても良い。本実施の形態では、この付着
力の向上のために、厚さ５ｎｍのＳｉＯ2 膜を用いた。
【００６２】また、ギャップ膜には、ＳｉＯ2 単層膜を
用いたが、融着ガラス１１との反応防止膜として、上層
に例えばＣｒ膜等を設けた２層膜、多層膜を用いても良
い。
用いたが、融着ガラス１１との反応防止膜として、上層
に例えばＣｒ膜等を設けた２層膜、多層膜を用いても良
い。
【００６３】次いで、以上のようにして作製された基板
２１ａ，２１ｂを圧着しながら５００〜７００°Ｃに加
熱して、図１６に示すように、低融点ガラス１４にて接
合して接合基板３０を作製する。
２１ａ，２１ｂを圧着しながら５００〜７００°Ｃに加
熱して、図１６に示すように、低融点ガラス１４にて接
合して接合基板３０を作製する。
【００６４】ここで、この接合に際しては、図１７に示
すように、基板２１ａ，２１ｂの両端部に形成された幅
Ｈ２，Ｈ３の異なる突起部２５Ａと２６Ｂを、両位置合
わせ溝２５，２６の一方側の直線部Ｓが一致するように
して突き合わせを行った。このように種類の異なる突起
部２５Ａと２６Ｂを突き合わせることにより、上記位置
合わせ溝２６に隣接する側のトラック幅規制溝２４から
順に、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを一定
に生じさせながら正確に突き合わせ接合されることにな
る。本実施の形態では、磁気ギャップのトラック幅方向
のズレ量δは、上述したように、１．５μｍである。
すように、基板２１ａ，２１ｂの両端部に形成された幅
Ｈ２，Ｈ３の異なる突起部２５Ａと２６Ｂを、両位置合
わせ溝２５，２６の一方側の直線部Ｓが一致するように
して突き合わせを行った。このように種類の異なる突起
部２５Ａと２６Ｂを突き合わせることにより、上記位置
合わせ溝２６に隣接する側のトラック幅規制溝２４から
順に、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを一定
に生じさせながら正確に突き合わせ接合されることにな
る。本実施の形態では、磁気ギャップのトラック幅方向
のズレ量δは、上述したように、１．５μｍである。
【００６５】次いで、上記接合基板３０を平面研削除盤
を用いて所定の厚さにした後に、磁気記録媒体摺動面と
なる部分を円筒研削を行う。
を用いて所定の厚さにした後に、磁気記録媒体摺動面と
なる部分を円筒研削を行う。
【００６６】次いで、磁気記録媒体摺動面に磁気記録媒
体との当たりを確保するために、図１８に示すように、
当たり幅加工、上記巻線溝２２等の加工を行った後に、
図１９に示すように、目的とするアジマス角と同角度で
切り出し、多数のヘッドチップ３１を製作する。
体との当たりを確保するために、図１８に示すように、
当たり幅加工、上記巻線溝２２等の加工を行った後に、
図１９に示すように、目的とするアジマス角と同角度で
切り出し、多数のヘッドチップ３１を製作する。
【００６７】今回の切り出しに際しては、アジマス角が
±２０°となるように作製したが、その際、前述した＋
方向の磁気ギャップのズレが生じるようにアジマス角を
決定した。このようにして、磁気ヘッドが図６に示すよ
うに完成する。
±２０°となるように作製したが、その際、前述した＋
方向の磁気ギャップのズレが生じるようにアジマス角を
決定した。このようにして、磁気ヘッドが図６に示すよ
うに完成する。
【００６８】以上のようにして作製された磁気ヘッドの
磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを測定した。
磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを測定した。
【００６９】その結果、従来の磁気ヘッドのトラック幅
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは、３σ＝０．
７μｍと大幅な改善が見られた。
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは、３σ＝０．
７μｍと大幅な改善が見られた。
【００７０】実施の形態２ まず、本実施の形態の磁気ヘッドは、第１の実施の形態
の場合と異なり、一対の磁気コア半体５，６の磁気ギャ
ップ形成用突部をその両端縁まで完全に一致させてなる
磁気ヘッドである。
の場合と異なり、一対の磁気コア半体５，６の磁気ギャ
ップ形成用突部をその両端縁まで完全に一致させてなる
磁気ヘッドである。
【００７１】しかし、この磁気ヘッドの製造方法は、本
実施の形態２は、実施の形態１と同様、トラック幅規制
溝２４を形成する際に、位置合わせ用突起部３６を形成
して、これら位置合わせ用突起部同士３６Ａ，３６Ｂを
位置合わせする点で共通する。
実施の形態２は、実施の形態１と同様、トラック幅規制
溝２４を形成する際に、位置合わせ用突起部３６を形成
して、これら位置合わせ用突起部同士３６Ａ，３６Ｂを
位置合わせする点で共通する。
【００７２】この突起部３６は、実施の形態１の場合と
同様、基板２１の長手方向に巻線溝２２とガラス溝２３
を形成した後に、図２０乃至図２４に示すように、トラ
ック幅規制溝２４を形成する際に形成する。
同様、基板２１の長手方向に巻線溝２２とガラス溝２３
を形成した後に、図２０乃至図２４に示すように、トラ
ック幅規制溝２４を形成する際に形成する。
【００７３】すなわち、磁気コアブロックの幅方向Ｌの
両端部（図２０中，符号「ａ」「ｃ」に示す。）に、ト
ラック幅規制溝２４と隣り合わせに位置合わせ溝３５を
形成することにより、磁気ギャップ形成用突部２４Ａに
連続して突起部３６Ａ，３６Ｂを各々形成する。
両端部（図２０中，符号「ａ」「ｃ」に示す。）に、ト
ラック幅規制溝２４と隣り合わせに位置合わせ溝３５を
形成することにより、磁気ギャップ形成用突部２４Ａに
連続して突起部３６Ａ，３６Ｂを各々形成する。
【００７４】この位置合わせ用突起部３６Ａ，３６Ｂ
は、トラック幅規制溝形成面に対して略垂直面とされて
いる。
は、トラック幅規制溝形成面に対して略垂直面とされて
いる。
【００７５】このような位置合わせ用突起部３６Ａ，３
６Ｂは、１つの基板２１上に形成するものであるから、
基板２１を中央から切断すると、互いに対称な突起部３
６Ａ，３６Ｂが各々幅Ｈ４を同じくして形成される。
６Ｂは、１つの基板２１上に形成するものであるから、
基板２１を中央から切断すると、互いに対称な突起部３
６Ａ，３６Ｂが各々幅Ｈ４を同じくして形成される。
【００７６】したがって、一対の磁気コア半体５，６と
なる磁気コアブロック（基板）同士を突き合わせるに際
しては、図２４に示すように、位置合わせ用突起部３６
Ａ，３６Ｂの両側面のうちの片側の直線部Ｓが一致する
ようにして突き合わせを行う。
なる磁気コアブロック（基板）同士を突き合わせるに際
しては、図２４に示すように、位置合わせ用突起部３６
Ａ，３６Ｂの両側面のうちの片側の直線部Ｓが一致する
ようにして突き合わせを行う。
【００７７】このようにして突き合わせると、対称な位
置合わせ用突起部３６同士（３６Ａ，３６Ｂ）が突き合
わされて、磁気ギャップｇにズレを生じさせることなく
接合一体化させることができる。
置合わせ用突起部３６同士（３６Ａ，３６Ｂ）が突き合
わされて、磁気ギャップｇにズレを生じさせることなく
接合一体化させることができる。
【００７８】なお、本実施の形態では、上記構成の突起
部３６Ａ，３６Ｂを基板２１の両端部に形成したが、基
板２１の他の部分に形成しても良く、一対の位置合わせ
用突起部３６Ａ、３６Ｂを少なくとも一つ形成してあれ
ば良い。
部３６Ａ，３６Ｂを基板２１の両端部に形成したが、基
板２１の他の部分に形成しても良く、一対の位置合わせ
用突起部３６Ａ、３６Ｂを少なくとも一つ形成してあれ
ば良い。
【００７９】この点、従来のトラック幅規制溝の形成に
際しては、磁気ギャップ近傍のコア断面積を大きくし記
録再生特性を向上させるために、トラック幅規制溝をす
べての基板の垂直方向に対して３０°とし、トラック幅
規制溝がすべて均一になるように形成していた。したが
って、磁気コアブロック（基板）同士を突き合わせるに
際しては、図２５に示すように、このトラック幅規制溝
１０１のエッジ１０１ａ，１０１ｂでのみ磁気ギャップ
の突き合わせ作業を行っていた。このため、直線部Ｓが
一致するようにして突き合わせを行うことが難しく、突
き合わせ精度が良くなかった。
際しては、磁気ギャップ近傍のコア断面積を大きくし記
録再生特性を向上させるために、トラック幅規制溝をす
べての基板の垂直方向に対して３０°とし、トラック幅
規制溝がすべて均一になるように形成していた。したが
って、磁気コアブロック（基板）同士を突き合わせるに
際しては、図２５に示すように、このトラック幅規制溝
１０１のエッジ１０１ａ，１０１ｂでのみ磁気ギャップ
の突き合わせ作業を行っていた。このため、直線部Ｓが
一致するようにして突き合わせを行うことが難しく、突
き合わせ精度が良くなかった。
【００８０】これに対して、本実施の形態では、幅が同
じになる一対の突き合わせ用突起部３６Ａ，３６Ｂを形
成するとともに、上記突き合わせ用突起部３６Ａ，３６
Ｂに連続する溝３５を上記基板２１に対して垂直Ｓ形成
したものであるから、トラック幅規制溝２４の角度に影
響されることなく、高精度な突き合わせが可能となる。
したがって、隣接クロストークの影響を少なく抑える
ことができる磁気ヘッドが製造される。なお、一対の突
起部３６Ａ，３６Ｂの幅は、一対のものであるから同じ
ものであれば、具体的な数値に限定されるものではな
い。
じになる一対の突き合わせ用突起部３６Ａ，３６Ｂを形
成するとともに、上記突き合わせ用突起部３６Ａ，３６
Ｂに連続する溝３５を上記基板２１に対して垂直Ｓ形成
したものであるから、トラック幅規制溝２４の角度に影
響されることなく、高精度な突き合わせが可能となる。
したがって、隣接クロストークの影響を少なく抑える
ことができる磁気ヘッドが製造される。なお、一対の突
起部３６Ａ，３６Ｂの幅は、一対のものであるから同じ
ものであれば、具体的な数値に限定されるものではな
い。
【００８１】その後は、第１の実施の形態の場合と同
様、円筒研磨等を行った後に、磁気ギャップにアジマス
角を付与する。
様、円筒研磨等を行った後に、磁気ギャップにアジマス
角を付与する。
【００８２】以上のようにして作製された磁気ヘッドの
磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを測定した。
磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを測定した。
【００８３】その結果、従来の磁気ヘッドのトラック幅
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは、３σ＝０．
７μｍと大幅な改善が見られた。
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは、３σ＝０．
７μｍと大幅な改善が見られた。
【００８４】以上、このように製造された磁気ヘッド
は、再生信号のエラーレートの向上が図られる高精度の
磁気ヘッドである。したがって、家庭用デジタルＶＴＲ
によれば、長時間録画においても充分なエラーレートが
得られ、過去の判定状況を記憶しておくことによりエラ
ーレートを向上させる回路である、ビタビ複合器を不要
とすることが期待される。
は、再生信号のエラーレートの向上が図られる高精度の
磁気ヘッドである。したがって、家庭用デジタルＶＴＲ
によれば、長時間録画においても充分なエラーレートが
得られ、過去の判定状況を記憶しておくことによりエラ
ーレートを向上させる回路である、ビタビ複合器を不要
とすることが期待される。
【００８５】なお、本発明を適用した具体的な実施の形
態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限
定されることなく種々の変更が可能である。例えば先の
例では、金属磁性膜を主コアとしたが、かかる膜を磁気
コア基板に成膜せずに、フェライトコアのみによって閉
磁路を構成した磁気ヘッドとしても良い。もちろん、こ
の場合のヘッドでも先の磁気ヘッドと同様な作用効果が
得られる。また、このような磁気ヘッドを用いた磁気記
録再生装置は、家庭用デジタルＶＴＲのほかにもデータ
ストリーマなどのデジタル信号蓄積装置にも応用可能で
ある。
態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限
定されることなく種々の変更が可能である。例えば先の
例では、金属磁性膜を主コアとしたが、かかる膜を磁気
コア基板に成膜せずに、フェライトコアのみによって閉
磁路を構成した磁気ヘッドとしても良い。もちろん、こ
の場合のヘッドでも先の磁気ヘッドと同様な作用効果が
得られる。また、このような磁気ヘッドを用いた磁気記
録再生装置は、家庭用デジタルＶＴＲのほかにもデータ
ストリーマなどのデジタル信号蓄積装置にも応用可能で
ある。
【００８６】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、トラ
ック幅規制溝形成時に両側面がトラック幅規制溝形成面
に対して略垂直面とされた位置合わせ用突起部を形成
し、これら位置合わせ用突起部同士を位置合わせするこ
とで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部を互い
に位置合わせすることから、トラック幅規制溝の形成角
度に影響されることなく、一対の磁気コア半体の突き合
わせ精度が高く、隣接クロストークの影響を少なく抑え
ることができる磁気ヘッドが製造される。
ック幅規制溝形成時に両側面がトラック幅規制溝形成面
に対して略垂直面とされた位置合わせ用突起部を形成
し、これら位置合わせ用突起部同士を位置合わせするこ
とで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部を互い
に位置合わせすることから、トラック幅規制溝の形成角
度に影響されることなく、一対の磁気コア半体の突き合
わせ精度が高く、隣接クロストークの影響を少なく抑え
ることができる磁気ヘッドが製造される。
【００８７】このように製造された磁気ヘッドは、再生
信号のエラーレートの向上が図られ、高い信頼性が得ら
れる。
信号のエラーレートの向上が図られ、高い信頼性が得ら
れる。
【図１】磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生
する状態を示す模式図である。
する状態を示す模式図である。
【図２】＋方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。
【図３】−方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。
【図４】＋方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。
【図５】−方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。
【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。
図である。
【図７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
の平面出しを行う工程を示す斜視図である。
の平面出しを行う工程を示す斜視図である。
【図８】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
に巻線溝とガラス溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。
に巻線溝とガラス溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。
【図９】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
にトラック幅規制溝と位置合わせ用突起部を形成する工
程を示す斜視図である。
にトラック幅規制溝と位置合わせ用突起部を形成する工
程を示す斜視図である。
【図１０】図９のａ部の拡大斜視図であり、位置合わせ
溝を示す。
溝を示す。
【図１１】図９のｂ部の拡大斜視図であり、トラック幅
規制溝を示す。
規制溝を示す。
【図１２】図９のｃ部の拡大斜視図であり、位置合わせ
溝を示す。
溝を示す。
【図１３】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基
板を切断する工程を示す斜視図である。
板を切断する工程を示す斜視図である。
【図１４】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、金
属磁性膜を成膜する工程を示す斜視図である。
属磁性膜を成膜する工程を示す斜視図である。
【図１５】図１５のｄ部の拡大斜視図であり、トラック
幅規制溝とギャップ部に金属磁性膜が成膜された状態を
示す斜視図である。
幅規制溝とギャップ部に金属磁性膜が成膜された状態を
示す斜視図である。
【図１６】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、切
断された基板を突き合わせて接合する状態を示す斜視図
である。
断された基板を突き合わせて接合する状態を示す斜視図
である。
【図１７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気ギャップにズレを生じさせる方向を調整して突き合わ
せる工程を示す模式図である。
気ギャップにズレを生じさせる方向を調整して突き合わ
せる工程を示す模式図である。
【図１８】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気記録媒体摺動面を円筒研磨する工程を示す斜視図であ
る。
気記録媒体摺動面を円筒研磨する工程を示す斜視図であ
る。
【図１９】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、所
定の大きさのヘッドチップに切断する工程を示す斜視図
である。
定の大きさのヘッドチップに切断する工程を示す斜視図
である。
【図２０】第２の実施の形態の磁気ヘッドの製造工程を
示すもので、トラック幅規制溝と位置合わせ用突起部を
形成する工程を示す斜視図である。
示すもので、トラック幅規制溝と位置合わせ用突起部を
形成する工程を示す斜視図である。
【図２１】図２０のａ部の拡大斜視図であり、位置合わ
せ溝を示す。
せ溝を示す。
【図２２】図２０のｂ部の拡大斜視図であり、トラック
幅規制溝を示す。
幅規制溝を示す。
【図２３】図２０のｃ部の拡大斜視図であり、位置合わ
せ溝を示す。
せ溝を示す。
【図２４】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、位
置合わせ用突起部により磁気ギャップにズレを生じさせ
ることなく突き合わせる工程を示す模式図である。
置合わせ用突起部により磁気ギャップにズレを生じさせ
ることなく突き合わせる工程を示す模式図である。
【図２５】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
一対の磁気コアブロックを突き合わせる工程を示す模式
図である。
一対の磁気コアブロックを突き合わせる工程を示す模式
図である。
【符号の説明】 １，２ 磁気コア基板、３，４，２７ 金属磁性膜、
５，６ 磁気コア半体、７，８ ギャップ形成面、９，
１０，１１，１２，２４ トラック幅規制溝（トラック
幅規制溝の側壁）、２１ 基板、２１ａ，２１ｂ 磁気
コアブロック（基板）、２４Ａ 磁気ギャップ形成用突
部、２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂ，３６，３６Ａ，
３６Ｂ 位置合わせ用突起部、Ｔｗ トラック幅、Ｆ
磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと対向す
るトラック幅規制溝の壁面との中心線、θ 磁気ギャッ
プと隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角
度、θ１ 磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこ
れと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と隣接
する記録トラックのアジマス方向とがなす角度、δ 磁
気ギャップのトラック幅方向のズレ量、Ｈ１ 磁気ギャ
ップ形成用突部の幅、Ｈ２，Ｈ３ 位置合わせ用突起部
の幅
５，６ 磁気コア半体、７，８ ギャップ形成面、９，
１０，１１，１２，２４ トラック幅規制溝（トラック
幅規制溝の側壁）、２１ 基板、２１ａ，２１ｂ 磁気
コアブロック（基板）、２４Ａ 磁気ギャップ形成用突
部、２５Ａ，２５Ｂ，２６Ａ，２６Ｂ，３６，３６Ａ，
３６Ｂ 位置合わせ用突起部、Ｔｗ トラック幅、Ｆ
磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと対向す
るトラック幅規制溝の壁面との中心線、θ 磁気ギャッ
プと隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角
度、θ１ 磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこ
れと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と隣接
する記録トラックのアジマス方向とがなす角度、δ 磁
気ギャップのトラック幅方向のズレ量、Ｈ１ 磁気ギャ
ップ形成用突部の幅、Ｈ２，Ｈ３ 位置合わせ用突起部
の幅
Claims (3)
- 【請求項１】 トラック幅規制溝が形成され磁気ギャッ
プ形成用突部が形成された一対の磁気コア半体を、トラ
ック幅規制溝形成面が互いに対向するように突き合わせ
て接合一体化し、上記磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ面間に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドの製造方
法において、 上記トラック幅規制溝形成時に両側面がトラック幅規制
溝形成面に対して略垂直面とされた位置合わせ用突起部
を形成し、 これら位置合わせ用突起部同士を位置合わせすること
で、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部を互いに
位置合わせすることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】 突き合わせ幅の異なる複数の位置合わせ
用突起部を一定のピッチで形成し、これら突き合わせ幅
の異なる位置合わせ用突起部を位置合わせすることで、
各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ
位置に位置合わせ用突起部の幅の相違に応じたズレを付
与することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項３】 磁気ギャップにアジマス角を付与するに
際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと
対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、隣接す
る記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、磁気ギ
ャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方向とが
なす角度よりも大きくなるようにズレを付与することを
特徴とする請求項２記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8152535A JPH103605A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| US08/873,103 US6170150B1 (en) | 1996-06-13 | 1997-06-11 | Method for producing magnetic head |
| KR1019970024641A KR980004628A (ko) | 1996-06-13 | 1997-06-13 | 자기 헤드를 제조하는 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8152535A JPH103605A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH103605A true JPH103605A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15542574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8152535A Withdrawn JPH103605A (ja) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6170150B1 (ja) |
| JP (1) | JPH103605A (ja) |
| KR (1) | KR980004628A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4678336A (en) * | 1984-09-28 | 1987-07-07 | Komori Printing Machinery Co., Ltd. | Apparatus for detecting image area of thin plate |
| WO1999059146A1 (fr) * | 1998-05-14 | 1999-11-18 | Sony Corporation | Tete magnetique et procede de fabrication |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7133253B1 (en) | 2002-06-03 | 2006-11-07 | Western Digital (Fremont), Inc. | Pole tip with sides flared at media-facing surface |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1409890A (en) * | 1972-12-29 | 1975-10-15 | Data Recording Instr Co | Manfuacture of magnetic elements for use in multi-track magnetic heads |
| JPS6214313A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-22 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS63100602A (ja) * | 1986-10-16 | 1988-05-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPH0191311A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Sharp Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
| JP2633097B2 (ja) * | 1991-04-16 | 1997-07-23 | シャープ株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH05234014A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-10 | Ngk Insulators Ltd | 磁気ヘッド用コアの製造法 |
| US5519556A (en) * | 1992-12-14 | 1996-05-21 | Sony Corporation | Magnetic head having separate fusion glass and laminating glass with a track adjustment groove in a magnetic core block |
| JPH08235517A (ja) * | 1994-05-10 | 1996-09-13 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| KR100385126B1 (ko) * | 1994-10-31 | 2003-08-09 | 소니 가부시끼 가이샤 | 자기헤드 |
-
1996
- 1996-06-13 JP JP8152535A patent/JPH103605A/ja not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-06-11 US US08/873,103 patent/US6170150B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-13 KR KR1019970024641A patent/KR980004628A/ko not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4678336A (en) * | 1984-09-28 | 1987-07-07 | Komori Printing Machinery Co., Ltd. | Apparatus for detecting image area of thin plate |
| WO1999059146A1 (fr) * | 1998-05-14 | 1999-11-18 | Sony Corporation | Tete magnetique et procede de fabrication |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR980004628A (ko) | 1998-03-30 |
| US6170150B1 (en) | 2001-01-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030902 |