JPH07220216A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 製造不良による生産性の低下を抑え、製造さ
れる磁気ヘッドのデプスのばらつきを抑え、これらの電
磁変換特性を安定化する。 【構成】 両側部分を除いて複数のトラック幅規制溝２
７を有し、酸化物磁性材料よりなる第２の磁気コア基板
２９のトラック幅規制溝２７形成面に鏡面加工を行う。
上記第２の磁気コア基板２９のトラック幅規制溝２７の
数に応じたトラック幅規制溝２７を有し、トラック幅方
向の長さが第２の磁気コア基板２９よりも短い第１の磁
気コア基板２８を酸化物磁性材料により形成する。上記
第１の磁気コア基板２８と第２の磁気コア基板２９をト
ラック幅規制溝２７形成面を突き合わせ面としてトラッ
ク幅規制溝２７を相対向させてトラック位置合わせしな
がらギャップ接合し、これらの磁気コア基板２８，２９
の媒体摺動面となる面２８ａ，２９ａを研磨して磁気ギ
ャップｇ₁ のデプスを規制し、これをチップ切断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される高密度記録用磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）等の
磁気記録再生装置に組み込まれる磁気ヘッドとしては、
例えば単結晶フェライトや多結晶フェライト，単結晶フ
ェライトと多結晶フェライトの接合材等の酸化物磁性材
料によって磁気コア半体を構成したものが一般的であ
る。また、上記磁気記録再生装置においては、高密度記
録化等を目的として、磁気ヘッドの挟トラック化，磁気
記録媒体の高保磁力化が進められている。そして、上記
のような磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コア半
体に高飽和磁束密度の金属磁性体を用いた磁気ヘッドが
種々開発されている。このような磁気ヘッドの代表的な
ものとしては、フェライト等の酸化物磁性材料よりなる
磁気コア基板と金属磁性体の複合型の磁気ヘッド、いわ
ゆるメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａｌ ｉｎ ｇａ
ｐ）ヘッド（以下、ＭＩＧヘッドと略する。）が挙げら
れる。

【０００３】上記ＭＩＧヘッドは、フェライト等の酸化
物磁性材料よりなる磁気コア基板の対向面に金属磁性膜
が被着形成された一対の磁気コア半体が、上記金属磁性
膜同士を突き合わせるようにして接合一体化されたもの
であり、当該金属磁性膜の突合わせ面間には磁気ギャッ
プが形成されている。この時、磁気コア基板の対向面の
磁気ギャップに相当する位置には磁気ギャップと平行な
ギャップ形成面が形成されており、上記ギャップ形成面
の両端には、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラ
ック幅規制溝が設けられている。従って、磁気コア基板
の対向面にその形状に沿って被着形成される金属磁性膜
は、ギャップ形成面上において磁気ギャップと平行とな
る。また、上記トラック幅規制溝により一対の磁気コア
半体間に形成される溝部には融着ガラスが充填され、一
対の磁気コア半体は接合一体化されている。

【０００４】そして、上記のようなＭＩＧヘッドは、次
に示されるような方法によって製造される。先ず、平面
略矩形状のフェライト等の酸化物磁性材料よりなる基板
の一側縁側における両端部を切り欠いて、図７に示すよ
うな平面略凸状の基板１０１を用意し、研削盤により面
出しを行う。

【０００５】なお、基板１０１としては、上記のように
フェライト等の酸化物磁性材料が用いられるが、このよ
うな酸化物磁性材料としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライ
ト，Ｚｎ−Ｎｉ系フェライトの単結晶或いはこれらと多
結晶との接合材等が挙げられる。

【０００６】次に、図８に示すように、基板１０１の一
主面１０１ａに、コイルを巻装するための断面略コ字状
をなす巻線溝１０３，１０６、ガラス融着接合を行うた
めのガラス溝１０４，１０５を機械加工によって長手方
向に形成する。すなわち、先ず、図８中に示すように、
平面略凸状の基板１０１の凸部１０２に、この凸部１０
２の突出する方向と直交する方向に第１の巻線溝１０３
を形成すると共に、該凸部１０２とは反対側の基板１０
１の他側縁１０１ｂ近傍部に第１の巻線溝１０３と平行
な第２の巻線溝１０６を形成する。このとき、巻線溝１
０３，１０６の一方の側面１０３ａ，１０６ａは、後工
程において形成される磁気ギャップの深さ（デプス）を
規制することとなるため傾斜面とする。

【０００７】次に、図８中に示すように、基板１０１の
一主面１０１ａの第１の巻線溝１０３と第２の巻線溝１
０６の間に上記凸部１０２にかからないようにして、上
記巻線溝１０３，１０６と平行に、且つ第１の巻線溝１
０３と第１のガラス溝１０４が隣合い、第２の巻線溝１
０６と第２のガラス溝１０５が隣合うように第１のガラ
ス溝１０４と第２のガラス溝１０５を所定間隔で形成す
る。

【０００８】次に、図９に示すように、磁気コア基板の
突き合わせ面の幅、すなわち後工程において形成される
磁気ギャップのトラック幅を規制するためのトラック幅
規制溝１０７を機械加工により巻線溝１０３，１０６及
びガラス溝１０４，１０５と直交する方向に基板１０１
の一主面１０１ａ全面にわたって所定の間隔で複数形成
する。そして、基板１０１の一主面１０１ａにポリッシ
ング等により鏡面加工を行う。

【０００９】次いで、図１０に示すように上記基板１０
１を第１のガラス溝１０４と第２のガラス溝１０５間で
これらガラス溝１０４，１０５に平行な図中一点鎖線で
示す切断線ｘ−ｙで切断し、基板１０１を、凸部１０２
を有し、第１の巻線溝１０３，第１のガラス溝１０４を
有する第１の磁気コア基板１０８と第２の巻線溝１０
６，第２のガラス溝１０５を有する第２の磁気コア基板
１０９に分割する。

【００１０】そして、第１の磁気コア基板１０８の各溝
が形成された面、第２の磁気コア基板１０９の各溝が形
成された面に、金属磁性膜をスパッタリング法，蒸着法
等の真空薄膜形成法により形成する。この際、金属磁性
膜と磁気コア基板１０８，１０９の付着力を向上させる
ために、これらの間に下地膜を介在させても良く、また
金属磁性膜と後工程で充填される融着ガラスとの反応を
防ぐために金属磁性膜上に反応防止膜を形成してもよ
い。

【００１１】上記金属磁性膜としては、センダスト（Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＯ，Ｔｉを添加した結晶質
磁性金属膜、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ及びこれにＯ，Ｎ
を添加した結晶質磁性金属膜、或いはＦｅ系，Ｃｏ系の
微結晶磁性金属膜が挙げられ、これらの合金膜，積層膜
を用いても良い。また、上記下地膜としては、ＳｉＯ
₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物
膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これらの
積層膜を用いても良い。さらに上記反応防止膜として
は、ＳｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等
の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、
これらの積層膜を用いても良い。

【００１２】続いて、第１の磁気コア基板１０８のトラ
ック幅規制溝１０７の形成されない部分を除去する。

【００１３】次に、図１１に示すように、上記のように
して得られた磁気コア基板１０８，１０９同士をギャッ
プ接合する。なおこの際、各磁気コア基板１０８，１０
９の突き合わせ面には、所定のギャップ長を形成できる
ような図示しないギャップ膜がそれぞれ形成されてい
る。

【００１４】このように、磁気コア基板１０８，１０９
のギャップ接合を行うにあたっては、図１１中に示すよ
うに、それぞれに形成される金属磁性膜１１１，１１２
を対向させて突き合わせ面とし、トラック幅規制溝１０
７同士、巻線溝１０３，１０６、ガラス溝１０４，１０
５の位置合わせを行った上で、巻線溝１０３，１０６、
ガラス溝１０４，１０５間に融着ガラスを配し、溶融充
填する。その結果、図中に示すようにトラック幅規制溝
１０７間にも融着ガラス１１３が充填され、磁気コア基
板１０８，１０９のギャップ接合がなされ、各金属磁性
膜１１１，１１２の突き合わせ面間に気ギャップＧ₁ が
形成される。

【００１５】なお、このとき、第１の磁気コア基板１０
８は前述のように凸部１０２を有するものであることか
ら、そのトラック幅方向の長さが第２の磁気コア基板１
０９よりも短く、第２の磁気コア基板１０９の両側には
第１の磁気コア基板１０８が接合されない部分が生じ
る。

【００１６】そして、磁気コア基板１０８，１０９の巻
線溝１０３，１０６に相対向する位置に図示しない巻線
補助溝を形成する。その後、接合一体化された磁気コア
基板１０８，１０９の媒体摺動面となる面１０８ａ，１
０９ａに円筒研磨を行い、磁気ギャップＧ₁ のデプスを
所定の長さとする。

【００１７】このように媒体摺動面となる面１０８ａ，
１０９ａに円筒研磨を行う場合には、図１１中矢印ａで
示す第２の磁気コア基板１０９のトラック幅規制溝１０
７形成方向と直交する方向の両端縁部分より、第２の磁
気コア基板１０９の第１の磁気コア基板１０８の接合さ
れない部分の巻線溝１０６の媒体摺動面側のデプス零位
置となるエッジｅ₁ ，ｅ₂ から媒体摺動面となる面１０
９ａまでの距離ｄ₁ ，ｄ₂ （デプス）を測定する。そし
て、距離ｄ₁ ，ｄ₂ が所定の長さとなるまで円筒研磨を
行い、各磁気ギャップＧ₁ のデプスを所定の長さとする
とともに複数の磁気ギャップＧ₁ のデプスを均一にして
いる。

【００１８】さらに、接合一体化した磁気コア基板１０
８，１０９を所定のアジマス角に傾斜させ、当たり幅加
工を行い、所定のチップ厚に切断して磁気ヘッドチップ
に切り出し、ＭＩＧヘッドを完成する。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
なＭＩＧヘッドにおいては、前述のように高密度記録化
を達成するために挟トラック化を行っているが、これに
よって以下のような不都合が生じている。

【００２０】すなわち、挟トラック化を行ったＭＩＧヘ
ッドを上記のような製造方法で製造した場合、基板のト
ラック幅規制溝、巻線溝、ガラス溝の形成面に鏡面加工
を施す際の実際の被加工面の幅が非常に小さいことか
ら、図１２に示すように基板１０１の両側部分、特に第
２の磁気コア基板１０９に相当する部分の両側の部分１
０１ｃ，１０１ｄに基板１０１の欠け、いわゆるトラッ
ク折れが生じ易い。このように基板１０１のトラック折
れが生じた状態のままギャップ接合し、磁気ギャップを
所定のデプスとするために媒体摺動面となる面を円筒研
磨した場合、第２の磁気コア基板のトラック幅規制溝形
成方向と直交する方向の両端縁部分から磁気ギャップの
デプスを測定することが不可能となり、製造不良となっ
て生産性が低下する。特に、トラック幅を１５μｍ以下
とした場合の製造不良発生率は１５〜３０％となる。

【００２１】また、基板のトラック幅規制溝、巻線溝、
ガラス溝の形成面に鏡面加工を施す際に、上記のような
トラック折れが生じないまでも、図１３に示すように、
基板１０１の両側部分の第２の巻線溝１０６の媒体摺動
面側のエッジｅ₁ ，ｅ₂ （図中にはエッジｅ₁ のみを示
す。）に、図中Ｌで示すデプス方向の長さが数μｍ程度
である欠けが生じた場合、欠けの有無の認知が困難であ
り、そのまま製造が行われることが多い。上記のように
数μｍ程度の欠けが存在すると、それだけデプス零位置
がずれ、磁気ギャップのデプスの測定の際のデプスの精
度を低下させてしまう。さらには、巻線溝１０６は±１
μｍ以下の高精度で形成されており、上記のような欠け
が及ぼす影響は大きい。従って、製造されるＭＩＧヘッ
ドのデプスにばらつきが生じ、且つこのことによりこれ
らＭＩＧヘッドの電磁変換特性にもばらつきが生じてし
まう。

【００２２】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、製造不良による生産性の低下が抑え
られ、製造される磁気ヘッドのデプスにばらつきが生じ
難く、これらの電磁変換特性が安定する磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、先ず、
両側部分を除いた中央部分のみに複数のトラック幅規制
溝を有する第１の磁気コア基板を酸化物磁性材料により
形成し、この第１の磁気コア基板のトラック幅規制溝形
成面に鏡面加工を行い、上記第１の磁気コア基板のトラ
ック幅規制溝の数に応じたトラック幅規制溝を有し、ト
ラック幅方向の長さが第１の磁気コア基板よりも短い第
２の磁気コア基板を酸化物磁性材料により形成する。

【００２４】そして、上記第１の磁気コア基板と第２の
磁気コア基板をトラック幅規制溝形成面を突き合わせ面
としてそれぞれに形成されるトラック幅規制溝を相対向
させてトラック位置合わせしながらギャップ接合し、第
１の磁気コア基板の両側に第２の磁気コア基板が接合さ
れず、トラック幅規制溝も形成されない部分を露呈させ
る。

【００２５】次に、第１の磁気コア基板の両側部分を該
第１の磁気コア基板のトラック幅規制溝形成方向と直交
する方向の両端縁部分より観察して磁気ギャップのデプ
ス量を確認しながら、接合一体化された磁気コア基板の
媒体摺動面となる面を研磨して磁気ギャップのデプスを
規制する。そして、接合一体化された磁気コア基板をチ
ップ切断する。

【００２６】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、先ず、平面略矩形状の酸化物磁性材料からなる
基板の一側縁側における両端部を切り欠いて、当該基板
を平面略凸状とする。

【００２７】次に、上記基板の凸部にこの凸部の突出す
る方向と直交する方向に第１の巻線溝を形成すると共
に、該凸部とは反対側の基板他側縁近傍部に第１の巻線
溝と平行な第２の巻線溝を形成する。

【００２８】続いて、上記第１の巻線溝と第２の巻線溝
の間に上記凸部にかからないようにして、これら巻線溝
と平行に、且つ第１の巻線溝と第１のガラス溝が隣合
い、第２の巻線溝と第２のガラス溝が隣合うように第１
のガラス溝と第２のガラス溝を所定間隔で基板に形成す
る。

【００２９】次に、上記凸部の突出方向と直交する方向
の突出幅全域にわたって、巻線溝及びガラス溝と直交す
るトラック幅規制溝を基板全体に所定間隔で複数形成す
る。すなわち、基板の凸部を除く部分の両側部分にトラ
ック幅規制溝の形成されない部分が形成される。

【００３０】次いで、これら各溝が形成された基板の主
面に鏡面加工を行い、上記第１のガラス溝と第２のガラ
ス溝間でこれらガラス溝と平行に切断することにより、
第１の巻線溝と第１のガラス溝を有した第１の磁気コア
基板と、第２の巻線溝と第２のガラス溝を有した第２の
磁気コア基板とを作成する。

【００３１】続いて、これら第１の磁気コア基板と第２
の磁気コア基板の各溝が形成された面に金属磁性膜を成
膜する。

【００３２】次に、上記第１の磁気コア基板と第２の磁
気コア基板にそれぞれ形成されたトラック幅規制溝を相
対向させてトラック位置合わせしながら、これら第１の
磁気コア基板と第２の磁気コア基板を突き合わせ融着ガ
ラスによりギャップ接合する。すなわち、第２の磁気コ
ア基板の両側部分に、第１の磁気コア基板が接合され
ず、かつトラック幅規制溝の形成されない部分を露呈さ
せる。

【００３３】そして、上記第２の磁気コア基板のトラッ
ク幅規制溝形成方向と直交する方向の両端縁部分より磁
気ギャップのデプス量を確認しながら、接合一体化され
た磁気コア基板の媒体摺動面となる面を円筒研磨する。

【００３４】次に、接合一体化された磁気コア基板より
チップ切断して各磁気ヘッドチップに切り出す。

【００３５】さらに本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、トラック幅規制溝により規制されるトラック幅
が１５μｍ以下であっても良い。

【００３６】

【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、第
１の磁気コア基板を両側部分を除いた中央部分のみに複
数のトラック幅規制溝を有するものとしており、トラッ
ク幅規制溝形成面に鏡面加工を行っても、該第１の磁気
コア基板の両側部分において基板の欠け等が生じない。

【００３７】また、第２の磁気コア基板を上記第１の磁
気コア基板のトラック幅規制溝の数に応じたトラック幅
規制溝を有し、トラック幅方向の長さが第１の磁気コア
基板よりも短いものとしている。従って、上記第１の磁
気コア基板と第２の磁気コア基板をトラック幅規制溝形
成面を突き合わせ面としてそれぞれに形成されるトラッ
ク幅規制溝を相対向させてトラック位置合わせしながら
ギャップ接合すると、第１の磁気コア基板の両側部分に
第２の磁気コア部分が接合されず、トラック幅規制溝の
形成されない部分が露呈されることとなる。

【００３８】この後、第１の磁気コア基板の両側部分を
該第１の磁気コア基板のトラック幅規制溝形成方向と直
交する方向の両端縁部分より観察して磁気ギャップのデ
プス量を確認しながら、接合一体化された磁気コア基板
の媒体摺動面となる面を研磨して磁気ギャップのデプス
を規制するが、第１の磁気コア基板の両側に基板の欠け
等が生じていないことから、デプス量の確認が精度良好
に行われ、デプスは精度良好に規制される。

【００３９】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。先ず、本実施
例の磁気ヘッドの製造方法によって製造される磁気ヘッ
ドについて説明する。上記磁気ヘッドは図１に示すよう
に、フェライト等の酸化物磁性材料等よりなる磁気コア
基板３，４の対向面に金属磁性膜５，６が被着形成され
た一対の磁気コア半体１，２が、上記金属磁性膜５，６
を突き合わせるようにして接合一体化されたものであ
り、当該金属磁性膜５，６の突合わせ面間には記録又は
再生或いはその両方として動作する磁気ギャップｇ₁ が
形成されている。

【００４０】このとき、磁気コア基板３，４の対向面の
磁気ギャップｇ₁ に相当する位置には磁気ギャップｇ₁
と平行なギャップ形成面３ａ，４ａが形成されており、
その両端には、磁気ギャップｇ₁ のトラック幅を規制す
るためのトラック幅規制溝７，８が設けられている。す
なわち、磁気コア基板３，４の対向面にその形状に沿っ
て被着形成される金属磁性膜５，６は、ギャップ形成面
３ａ，４ａ上において磁気ギャップｇ₁ と平行となる。
また、トラック幅規制溝７，８によって磁気コア基板
３，４のギャップ形成面３ａ，４ａの幅が規制されてい
ることから、金属磁性膜５，６の突き合わせ面の幅も自
ずから規制されることとなる。従って、金属磁性膜５，
６の突き合わせ面間に形成される磁気ギャップｇ₁ のト
ラック幅も規制されることとなる。本実施例において
は、特に、トラック幅を１５μｍ以下とし、高密度記録
化に対応できる磁気ヘッドを製造するものとする。

【００４１】また、上記磁気ヘッドにおいては、磁気コ
ア基板３，４にはコイルを巻回するための巻線溝１１，
１２及びガラス融着接合を行うためのガラス溝１３，１
４が設けられ、巻線溝１１，１２間及びガラス溝１３，
１４間には融着ガラス１５，１６が充填されており、巻
線溝１１，１２に隣接するトラック幅規制溝７，８間に
も融着ガラス１５が充填され、磁気コア半体１，２が接
合一体化されている。

【００４２】さらに上記磁気ヘッドにおいては、磁気コ
ア基板３，４の巻線溝１１，１２と相対向する位置にコ
イルの巻回状態を良好なものとし、断線等を防止するた
めの巻線補助溝１７，１８が設けられている。そして、
この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体に対する当た
りを確保するために磁気記録媒体と摺接する磁気記録媒
体摺動面に段差が設けられている。

【００４３】次いで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。先ず、平面略矩形状のフェライト等
の酸化物磁性材料よりなる基板の一側縁側における両端
部を切り欠いて、図２に示すような平面略凸状の基板２
１を用意し、研削盤により面出しを行う。

【００４４】なお、基板２１としては、上記のようにフ
ェライト等の酸化物磁性材料が用いられるが、このよう
な酸化物磁性材料としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト，
Ｚｎ−Ｎｉ系フェライトの単結晶或いはこれらと多結晶
との接合材等が挙げられる。なお、本実施例において
は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトの単結晶を用いた。

【００４５】次に、図３に示すように、基板２１の一主
面２１ａに、コイルを巻装するための断面略コ字状をな
す巻線溝２３，２６、ガラス融着接合を行うための断面
略コ字状をなすガラス溝２４，２５を機械加工によって
長手方向に平行に形成する。すなわち、図３中に示すよ
うに、平面略凸状の基板２１の凸部２２に、この凸部２
２の突出する方向と直交する方向に第１の巻線溝２３を
形成すると共に、該凸部２２とは反対側の基板２１の他
側縁２１ｂ近傍部に第１の巻線溝２３と平行な第２の巻
線溝２６を形成する。

【００４６】そしてこのとき、巻線溝２３，２６の一方
の側面２３ａ，２６ａは、後工程において形成される磁
気ギャップの深さ（デプス）を規制することとなるため
傾斜面とする。なお、巻線溝２３，２６の他方の側面
は、傾斜面または垂直面のいずれでも良い。

【００４７】次に、図３中に示すように、基板２１の一
主面２１ａの第１の巻線溝２３と第２の巻線溝２６の間
に上記凸部２２にかからないようにして、上記巻線溝２
３，２６と平行に、且つ第１の巻線溝２３と第１のガラ
ス溝２４が隣合い、第２の巻線溝２６と第２のガラス溝
２５が隣合うように第１のガラス溝２４と第２のガラス
溝２５を所定間隔で形成する。

【００４８】次に、図４に示すように、磁気コア基板の
突き合わせ面の幅、すなわち後工程において形成される
磁気ギャップのトラック幅を規制するためのトラック幅
規制溝２７を形成する。このとき、本実施例において
は、トラック幅規制溝２７を上記凸部２２の突出方向と
直交する方向の突出幅全域にわたって、巻線溝２３，２
６及びガラス溝２４，２５と直交するように基板２１全
体に所定間隔で複数形成する。従って、凸部２２を除く
部分の両側にトラック幅規制溝２７の形成されない部分
が形成されることとなり、後工程の媒体摺動面となる面
の円筒研磨の際のデプス測定に使用する部分にはトラッ
ク幅規制溝が形成されないこととなる。言い換えれば、
基板２１の両側部分を除いた中央部分のみに複数のトラ
ック幅規制溝が形成されることとなる。

【００４９】そして、基板２１の一主面２１ａにポリッ
シング等により鏡面加工を行う。本実施例においては、
基板２１の凸部２２を除く部分の両側にトラック幅規制
溝２７が形成されていないことから、基板２１の両側部
分の被加工面積は大きく、上記のように基板２１に鏡面
加工を行っても、両側部分に基板の欠けが生じない。す
なわち、後工程の媒体摺動面となる面の円筒研磨の際の
デプス測定に使用する部分には基板の欠けが生じないこ
ととなる。

【００５０】次いで、図４中に示すように上記基板２１
を第１のガラス溝２４と第２のガラス溝２５間でこれら
ガラス溝２４，２５に平行な図中一点鎖線で示す切断線
Ｘ−Ｙで切断し、基板２１を、凸部２２を有し、第１の
巻線溝２３，第１のガラス溝２４を有する第１の磁気コ
ア基板２８と第２の巻線溝２６，第２のガラス溝２５を
有する第２の磁気コア基板２９に分割する。

【００５１】そして、第１の磁気コア基板２８の各溝が
形成された面、第２の磁気コア基板２９の各溝が形成さ
れた面に、金属磁性膜をスパッタリング法，蒸着法等の
真空薄膜形成法により形成する。この際、金属磁性膜と
磁気コア基板２８，２９の付着力を向上させるために、
これらの間に下地膜を介在させても良く、また金属磁性
膜と後工程で充填される融着ガラスとの反応を防ぐため
に金属磁性膜上に反応防止膜を形成してもよい。

【００５２】上記金属磁性膜としては、センダスト（Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＯ，Ｔｉを添加した結晶質
磁性金属膜、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ及びこれにＯ，Ｎ
を添加した結晶質磁性金属膜、或いはＦｅ系，Ｃｏ系の
微結晶磁性金属膜が挙げられ、これらの合金膜，積層膜
を用いても良い。また、上記下地膜としては、ＳｉＯ
₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物
膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これらの
積層膜を用いても良い。なお、本実施例においては、金
属磁性膜としてセンダスト膜を形成し、下地膜としてＣ
ｒ膜を形成した。さらに上記反応防止膜としては、Ｓｉ
Ｏ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄等の窒化物
膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これらの
積層膜を用いても良い。

【００５３】続いて、第１の磁気コア基板２８のトラッ
ク幅規制溝２７の形成されない部分を除去する。

【００５４】次に、図５に示すように、上記のようにし
て得られた磁気コア基板２８，２９同士をギャップ接合
する。なおこの際、各磁気コア基板２８，２９の突き合
わせ面には、所定のギャップ長を形成できるような図示
しないギャップ膜がそれぞれ形成されている。

【００５５】このように、磁気コア基板２８，２９のギ
ャップ接合を行うにあたっては、図５中に示すように、
それぞれに形成される金属磁性膜３０，３１を対向させ
て突き合わせ面とし、トラック幅規制溝２７同士の位置
合わせを行い、トラック位置合わせをし、巻線溝２３，
２６、ガラス溝２４，２５の位置合わせを行った上で、
巻線溝２３，２６、ガラス溝２４，２５間に融着ガラス
を配し、溶融充填する。その結果、図中に示すようにト
ラック幅規制溝２７間にも融着ガラス３２が充填され、
磁気コア基板２８，２９のギャップ接合がなされ、各金
属磁性膜３０，３１の突き合わせ面間に磁気ギャップｇ
₁ が形成される。

【００５６】なお、このとき、第１の磁気コア基板２８
は前述のように凸部２２を有するものであることから、
そのトラック幅方向の長さが第２の磁気コア基板２９よ
りも短く、第２の磁気コア基板２９の両側にはトラック
幅規制溝２７が形成されず、且つ第１の磁気コア基板２
８が接合されない部分が露呈されることとなる。

【００５７】そして、図６に示すように、磁気コア基板
２８，２９の巻線溝２３，２６に相対向する位置に巻線
補助溝３３（図中には巻線溝２３に対向する巻線補助溝
３３のみ示す。）を形成する。その後、磁気コア基板２
８，２９の媒体摺動面となる面２８ａ，２９ａに円筒研
磨を行い、各磁気ギャップｇ₁ のデプスを所定の長さと
する。

【００５８】このような媒体摺動面となる面２８ａ，２
９ａの円筒研磨は、図５中矢印Ａで示す第２の磁気コア
基板２９のトラック幅規制溝２７形成方向と直交する方
向の両端縁部分より、第２の磁気コア基板２９の第１の
磁気コア基板２８の接合されない部分の巻線溝２６の媒
体摺動面側のデプス零位置となるエッジＥ₁ ，Ｅ₂ から
媒体摺動面となる面１０９ａまでの距離Ｄ₁ ，Ｄ₂ （デ
プス）を測定しながら行う。そして、距離Ｄ₁ ，Ｄ₂ が
所定の長さとなるまで円筒研磨を行い、磁気ギャップｇ
₁ のデプスを所定の長さとするとともに複数の磁気ギャ
ップｇ₁ のデプスを均一にしている。

【００５９】本実施例の磁気ヘッドの製造方法において
は、前述のように第２の磁気コア基板２９の両側の第１
の磁気コア基板２８が接合されない部分にはトラック幅
規制溝が形成されておらず、すなわちデプスの測定に使
用する部分には鏡面加工による基板の欠けが生じていな
い。従って、上記のような円筒研磨の際のデプスの測定
を精度良好に行うことができ、デプスを精度良好に規制
することができ、製造不良による生産性の低下を抑え、
製造される磁気ヘッドのデプスのばらつきを抑え、電磁
変換特性の安定した磁気ヘッドを歩留り良く製造するこ
とができる。

【００６０】さらにこの後、図６に示すように接合した
磁気コア基板２８，２９を所定のアジマス角に傾斜さ
せ、当たり幅加工を行い、所定のチップ厚に切断して磁
気ヘッドチップ３４を切り出し、図１に示すような磁気
ヘッドを完成する。

【００６１】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法においては、第１の磁気コア
基板を両側部分を除いた中央部分のみに複数のトラック
幅規制溝を有するものとしており、トラック幅規制溝形
成面に鏡面加工を行っても、該第１の磁気コア基板の両
側部分において基板の欠け等が生じない。

【００６２】また、第２の磁気コア基板を上記第１の磁
気コア基板のトラック幅規制溝の数に応じたトラック幅
規制溝を有し、トラック幅方向の長さが第１の磁気コア
基板よりも短いものとしている。従って、上記第１の磁
気コア基板と第２の磁気コア基板をトラック幅規制溝形
成面を突き合わせ面としてそれぞれに形成されるトラッ
ク幅規制溝を相対向させてトラック位置合わせしながら
ギャップ接合すると、第１の磁気コア基板の両側部分に
第２の磁気コア部分が接合されず、トラック幅規制溝の
形成されない部分が露呈されることとなる。

【００６３】この後、第１の磁気コア基板の両側部分を
該第１の磁気コア基板のトラック幅規制溝形成方向と直
交する方向の両端縁部分より観察して磁気ギャップのデ
プス量を確認しながら、接合一体化された磁気コア基板
の媒体摺動面となる面を研磨して磁気ギャップのデプス
を規制するが、第１の磁気コア基板の両側に基板の欠け
等が生じていないことから、デプス量の確認が精度良好
に行われ、デプスは精度良好に規制される。従って、本
発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、製造不良による
生産性の低下が抑えられ、かつ製造される磁気ヘッドの
デプスのばらつきが抑えられ、電磁変換特性の安定した
磁気ヘッドを歩留り良く製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法により
製造される磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、基板の面出しを行う工程を示す斜
視図である。

【図３】基板に巻線溝，ガラス溝を形成する工程を示す
斜視図である。

【図４】基板にトラック幅規制溝を形成し、分割する工
程を示す斜視図である。

【図５】磁気コア基板同士をギャップ接合する工程を示
す斜視図である。

【図６】磁気コア基板に巻線補助溝を形成し、チップ切
断する工程を示す斜視図である。

【図７】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示すも
のであり、基板の面出しを行う工程を示す斜視図であ
る。

【図８】基板に巻線溝，ガラス溝を形成する工程を示す
斜視図である。

【図９】基板にトラック幅規制溝を形成する工程を示す
斜視図である。

【図１０】基板を切断して磁気コア基板に分割する工程
を示す斜視図である。

【図１１】磁気コア基板同士をギャップ接合する工程を
示す斜視図である。

【図１２】基板の欠けによるトラック欠けが生じた状態
を示す斜視図である。

【図１３】基板の欠けが生じた状態を示す斜視図であ
る。

【符号の説明】

２１ 基板 ２２ 凸部 ２３，２６ 巻線溝 ２４，２５ ガラス溝 ２７ トラック幅規制溝 ２８，２９ 磁気コア基板 ２８ａ，２９ａ 媒体摺動面となる面 ３０，３１ 金属磁性膜 ３２ 融着ガラス Ｅ₁ ，Ｅ₂ エッジ Ｄ₁ ，Ｄ₂ デプス ｇ₁ 磁気ギャップ Ｘ−Ｙ 切断線

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 両側部分を除いた中央部分のみに複数の
   トラック幅規制溝を有する第１の磁気コア基板を酸化物
   磁性材料により形成し、この第１の磁気コア基板のトラ
   ック幅規制溝形成面に鏡面加工を行い、 上記第１の磁気コア基板のトラック幅規制溝の数に応じ
   たトラック幅規制溝を有し、トラック幅方向の長さが第
   １の磁気コア基板よりも短い第２の磁気コア基板を酸化
   物磁性材料により形成し、 上記第１の磁気コア基板と第２の磁気コア基板をトラッ
   ク幅規制溝形成面を突き合わせ面としてそれぞれに形成
   されるトラック幅規制溝を相対向させてトラック位置合
   わせしながらギャップ接合し、接合一体化された磁気コ
   ア基板の媒体摺動面となる面を研磨して磁気ギャップの
   デプスを規制し、これをチップ切断することを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 平面略矩形状の酸化物磁性材料からなる
   基板の一側縁側における両端部を切り欠いて、当該基板
   を平面略凸状とする工程と、 上記基板の凸部にこの凸部の突出する方向と直交する方
   向に第１の巻線溝を形成すると共に、該凸部とは反対側
   の基板他側縁近傍部に第１の巻線溝と平行な第２の巻線
   溝を形成する工程と、 上記第１の巻線溝と第２の巻線溝の間に上記凸部にかか
   らないようにして、これら巻線溝と平行に、且つ第１の
   巻線溝と第１のガラス溝が隣合い、第２の巻線溝と第２
   のガラス溝が隣合うように第１のガラス溝と第２のガラ
   ス溝を所定間隔で基板に形成する工程と、 上記凸部の突出方向と直交する方向の突出幅全域にわた
   って、巻線溝及びガラス溝と直交するトラック幅規制溝
   を基板全体に所定間隔で複数形成する工程と、 これら各溝が形成された基板の主面を鏡面加工する工程
   と、 上記第１のガラス溝と第２のガラス溝間でこれらガラス
   溝と平行に切断することにより、第１の巻線溝と第１の
   ガラス溝を有した第１の磁気コア基板と、第２の巻線溝
   と第２のガラス溝を有した第２の磁気コア基板とを作成
   する工程と、 これら第１の磁気コア基板と第２の磁気コア基板の各溝
   が形成された面に金属磁性膜を成膜する工程と、 上記第１の磁気コア基板と第２の磁気コア基板にそれぞ
   れ形成されたトラック幅規制溝を相対向させてトラック
   位置合わせしながら、これら第１の磁気コア基板と第２
   の磁気コア基板を突き合わせ融着ガラスによりギャップ
   接合する工程と、 上記第２の磁気コア基板のトラック幅規制溝形成方向と
   直交する方向の両端縁部分より磁気ギャップのデプス量
   を確認しながら、接合一体化された磁気コア基板の媒体
   摺動面となる面を円筒研磨する工程と、 接合一体化された磁気コア基板よりチップ切断して各磁
   気ヘッドチップに切り出す工程を有することを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 トラック幅規制溝により規制されるトラ
   ック幅が１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１
   又は請求項２に記載の磁気ヘッドの製造方法。