JPH103606A

JPH103606A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH103606A
Application number: JP15253796A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Saito; 正斎藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-06-13
Filing date: 1996-06-13
Publication date: 1998-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、隣接クロストークの影響を少なく
抑えることができる磁気ヘッドを加工歩留まり良く製造
する磁気ヘッドの製造方法を提供することを課題とする【解決手段】一対の磁気コア半体５，６となる基板２
１に溝幅Ｘ１，Ｘ２の異なるトラック幅規制溝２４Ｃ，
２４Ｄを交互に形成し、基板２１同士を突き合わせるに
際し、上記溝幅Ｘ１，Ｘ２の異なるトラック幅規制溝２
４Ｃ，２４Ｄを位置合わせすることで、各磁気コア半体
５，６の磁気ギャップ形成用突部２４Ａの突き合わせ位
置にトラック幅規制溝２４Ｃ，２４Ｄの溝幅Ｘ１，Ｘ２
に応じたズレを付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレ
コーダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録
再生装置に搭載して好適な磁気ヘッドの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、高密度記録化を行うためには、
磁気記録媒体に記録されているトラックパターンをなる
べく狭くすることが必要となる。その一つの手法とし
て、トラック間にガードバンドを設けずに記録を行う、
いわゆるガードバンドレス記録方式がある。かかる記録
方式では、ガードバンドがないことから記録密度の向上
を図ることができる。

【０００３】しかし、このガードバンドレス記録方式に
おいては、各トラック間にガードバンドがないことか
ら、磁気ヘッドが隣接するトラックの信号をトレース
（再生）する際に生じる、いわゆる隣接クロストークが
問題となる。

【０００４】これを、家庭用ＶＴＲに搭載される磁気ヘ
ッドにより説明すると、図１に示すように、この磁気ヘ
ッドでは、通常、記録と再生は兼用になっており、この
ため再生の互換性を確保するために、記録トラックピッ
チよりも再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの幅）ＨＷの
方が広く形成されている。

【０００５】したがって、この家庭用ＶＴＲに搭載され
る磁気ヘッドによりガードバンドがない記録パターンを
再生する場合、上記磁気ギャップのトラック幅方向のズ
レが生じている部分Ｇ１が求めるトラックＴＡに隣接す
る記録トラックＴＢの信号を拾うこととなり、上記隣接
クロストークが生じる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の磁気
ヘッドでは、例えば家庭用デジタルＶＴＲの場合、アジ
マス記録された信号を再生してみると、再生Ｃ／Ｎを一
定にしても、得られるエラーレートに±１桁程度のバラ
ツキがあり、このバラツキの下限で磁気ヘッドが搭載さ
れる家庭用デジタルＶＴＲ等の磁気記録再生装置を設計
しなければならなかった。

【０００７】また、従来の磁気ヘッドでは、例えば家庭
用ＶＴＲの標準テープ送り速度を２／３にして、録画再
生時間を１．５倍にしようとする長時間録画において、
Ｃ／Ｎ不足で再生に充分なエラーレートが得られないと
いう問題を有してした。

【０００８】他方、高密密度記録化に伴い、磁気テープ
上に記録されるパターンのピッチであるトラックピッチ
が狭くなると、上記隣接クロストークの影響が大きくな
り、Ｓ／Ｎやエラーレートの劣化の原因となることが知
られている。

【０００９】このため、従来の磁気ヘッドにおいて、再
生時の隣接クロストークの影響をできるだけ抑えるため
には、トラック幅規制溝の角度を磁気ギャップ対向面に
対してほぼ垂直になるように形成することが考えられ
る。

【００１０】しかしながら、このような形状の磁気ヘッ
ドは、磁気ギャップ近傍の磁気コアの断面積が小さくな
り、記録再生の点で好ましくない。

【００１１】さらに、従来の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部が両端部
まで完全に一致して突き合わされるわけでなく、一対の
磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の端部のズレが
生じる。このズレにより、隣接クロストークが生じるこ
とが知られているが、このズレと隣接クロストークとの
関係については具体的に明らかにされていない。

【００１２】このため、例えば、トラック幅規制溝の角
度を大きく、すなわち大きな角度のＶ字状溝に形成する
ことにより、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用
突部の両端縁まで可能な限り一致させることが考えられ
る。

【００１３】しかしながら、トラック幅規制溝の角度を
大きくすると、従来の磁気ヘッドの製造方法は、このト
ラック幅規制溝のエッジでのみ磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うために、加工歩留まりが著しく劣化する問
題を有していた。

【００１４】そこで、本発明は、かかる従来の技術的な
課題に鑑みて提案されたものであって、隣接クロストー
クの影響を少なく抑えることができる磁気ヘッドを加工
歩留まり良く製造する磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するために鋭意研究した結果、磁気ギャップの
トラック幅のズレ量、方向を規制することにより、隣接
クロストークの影響を少なく抑えることができることを
見い出すとともに、この磁気ギャップのトラック幅のズ
レ量、方向を一定にする磁気ヘッドの製造方法を見い出
した。

【００１６】すなわち、本発明者等は、図４及び図５に
示す実験結果を得たが、かかる実験結果を詳細に検討し
て、後述する作用・効果を実現し得る発明を完成した。

【００１７】まず、磁気ギャップのズレが生じている場
合としては、図３に示すように、一対の磁気コア半体の
磁気ギャップ形成用突部の端部のズレにより生じる中心
線Ｆの方向が求める記録トラックＴＡと隣接する記録ト
ラックＴＢのアジマス角に近くなる方向となる場合と、
図２に示すように、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の端部のズレにより生じる中心線Ｆの方向が
求める記録トラックＴＡと隣接する記録トラックＴＢの
アジマス角と遠くなる方向となる場合に分けられる。

【００１８】すなわち、ここで、磁気ギャップｇのズレ
Ｇ１による開き角θの二等分線の方向Ｆと隣接する記録
トラックのアジマス記録の角度との関係を問題として、
図２の場合を「＋方向の磁気ギャップのズレ」とし、図
３の場合、「−方向の磁気ギャップのズレ」と言うこと
とする。

【００１９】なお、再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの
幅）ＨＷが隣接する記録トラックＴＢに及ぶ部分Ｇ２で
は、正規の磁気ギャップによって求められるトラックＴ
Ａの信号が拾われ、いわゆる逆アジマスをスキャンする
ために、隣接する記録トラックＴＢの信号を拾うような
ことはない。

【００２０】そこで、これら両者の場合の隣接クロスト
ークの影響を検討すると、上記＋方向の磁気ギャップの
ズレの場合は、図４に示すように、隣接クロストークの
影響が小さいことが分かる。他方、−方向の磁気ギャッ
プのズレの場合には、図５に示すように、隣接クロスト
ークの影響が大きいことが分かる。

【００２１】ここで、図４及び図５は、上記磁気ギャッ
プのズレが生じている場合の隣接クロストークによりエ
ラーレートがどのように変化するかを示す特性図であ
る。また、図４及び図５は、磁気ヘッドのアジマス角が
±２０°の場合である。また、図４及び図５に示すプロ
ット（縦線）は、隣接クロストークの影響を、「有
り」、「無し」で測定した結果であり、縦線の下はクロ
ストークの影響のない分のプロットであり、縦線の上は
クロストークの影響のある分のプロットである。一つの
線が１つの磁気ヘッドのデータを示す。

【００２２】ところで、正規の磁気ギャップｇで拾う隣
接のパターン成分は、アジマス損失によって周波数の高
い部分は抑えられるが、磁気ギャップのズレによる隣接
パターンは、−方向の磁気ギャップのズレの場合、アジ
マス損失はほとんど期待することができない。実際に、
周波数の高い部分では、正規の磁気ギャップから拾う量
よりも５ｄＢ程度高い場合がある。したがって、例え
ば、パーシャルレスポンスクラス４の信号のように、低
域の成分を信号検出に使わないシステムでは、このよう
な比較的高周波の隣接トラックからの漏れ込みが信号検
出にかなり影響を与えていることになる。

【００２３】以上の結果から、上記＋方向の磁気ギャッ
プのズレとなるように製造するか、或いは、磁気ギャッ
プのズレが生じないように製造すれば良いことになる
が、従来の磁気ヘッドの製造方法により、磁気ギャップ
のズレの方向を一定にしながら磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うと、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ
量の制御が困難であり、トラック精度を高精度に保つこ
とができない。

【００２４】そこで、本発明の磁気ヘッドの製造方法
は、上記課題を解決するために、トラック幅規制溝が形
成され磁気ギャップ形成用突部が形成された一対の磁気
コア半体を、トラック幅規制溝形成面が互いに対向する
ように突き合わせて接合一体化し、上記磁気ギャップ形
成用突部の突き合わせ面間に磁気ギャップを形成する磁
気ヘッドの製造方法において、溝幅の異なるトラック幅
規制溝を交互に形成し、これら溝幅の異なるトラック幅
規制溝を位置合わせすることで、各磁気コア半体の磁気
ギャップ形成用突部の突き合わせ位置にトラック幅規制
溝の溝幅の相違に応じたズレを付与することをことを特
徴とする。

【００２５】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
交互に形成した溝幅の異なるトラック幅規制溝による位
置合わせにより、このトラック幅規制溝が形成された基
板同士を突き合わせると、磁気ギャップのトラック幅方
向のズレ量を一方向のみに一定に調整した高度な突き合
わせが行われる。

【００２６】そして、磁気ギャップにアジマス角を付与
するに際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面と
これと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、
隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、
磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方
向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを付与する
ことより、再生する際に隣接チャンネルからのクロスト
ークを抑制することができる磁気ヘッドが製造される。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明す
る。

【００２８】本実施の形態は、磁気ギャップ部を金属磁
性膜により形成するようにしたメタル・イン・ギャップ
（ＭｅｔａｌｉｎＧａｐ）型の磁気ヘッド（以下、
「ＭＩＧヘッド」と称する。）に適用したものである。

【００２９】本例の磁気ヘッドは、図６に示すように、
フェライトよりなる磁気コア基板１，２とこの磁気コア
基板１，２の突き合わせ面にそれぞれ被着形成される金
属磁性膜３，４とからなる一対の磁気コア半体５，６と
によって閉磁路が構成され、その金属磁性膜３，４の突
き合わせ面間に記録再生ギャップとして動作するアジマ
ス角が付与された磁気ギャップｇが形成されている。

【００３０】上記磁気コア基板１，２は、例えばフェラ
イト等の酸化物磁性材料からなり、主コアとして機能す
るコア断面積が小さい金属磁性膜３，４をバックアップ
する補助コアとして機能するようになっている。つま
り、金属磁性膜３，４のコア断面積が小さい分、この磁
気コア基板１，２のコアボリュームによって再生出力の
劣化を防止するようになっている。

【００３１】また、この磁気コア基板１，２において
は、その突き合わせ面側の形状が断面略々台形状として
形成されている。すなわち、この磁気コア基板１，２の
突き合わせ面側は、上記磁気ギャップｇと平行なギャッ
プ形成面７，８と、このギャップ形成面７，８の両端部
に上記磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制するため
のトラック幅規制溝９，１０，１１，１２が形成されて
いる。

【００３２】なお、上記トラック幅規制溝７，８，９，
１０内には、それぞれ磁気記録媒体との当たり特性を確
保すると共に摺接による偏摩耗を防止する目的で、ガラ
ス等の非磁性材１４が充填されている。

【００３３】また、一方の磁気コア基板１の突き合わせ
面には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに、
図示しないコイルを巻装するための断面略コ字状の巻線
溝１３がコア厚方向に形成されている。

【００３４】一方、金属磁性膜３，４は、磁気コア基板
１，２の突き合わせ面に、フロント側よりバック側にわ
たって成膜されている。すなわち、上記金属磁性膜３，
４は、磁気コア基板１，２のギャップ形成面７，８及び
この両端縁側に設けられるトラック幅規制溝９，１０，
１１，１２上にそのフロント側よりバック側にわたって
形成されている。

【００３５】上記金属磁性膜３、４には、高い飽和磁束
密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、この強磁性材料としては、従来より公知の結
晶質、非結晶質、あるいは微結晶質のものが使用でき
る。

【００３６】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。

【００３７】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術がいずれも採用される。

【００３８】また、金属磁性膜３，４は、前記強磁性合
金材料の単層膜であっても良いが、例えばＳｉＯ₂ ，Ｔ
ａ₂ Ｏ₃ ，ＺｒＯ₂ ，Ｓｉ₃ ＮＯ₄ 等の中間層を介して
何層にも積層した積層膜とするようにしても良い。

【００３９】また、上記基板３，４には、フェライト材
の他、非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラミッ
ク、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、ＢａＴ
ｉＯ₃，Ｋ₂ＴｉＯ₃等のチタン酸系セラミック等が用
いられる。

【００４０】そして、本例の磁気ヘッドにおいては特
に、図２に示すように、各磁気コア半体５，６の磁気ギ
ャップ形成用突部２４Ａの突き合わせ位置にトラック幅
方向のズレＧ１が付与されている。

【００４１】前記ズレＧ１は、磁気ギャップ形成用突部
２４Ａの突き合わせ面８とこれと対向するトラック幅規
制溝の壁面１０との中心線Ｆと、隣接する記録トラック
ＴＢのアジマス方向とがなす角度θ１が、磁気ギャップ
ｇと前記隣接する記録トラックＴＢのアジマス方向とが
なす角度θよりも大きくなる方向にズレである（前記
「＋方向の磁気ギャップのズレ」）。

【００４２】これは、図４に示すように、磁気ギャップ
のズレＧ１の部分が拾う隣接パターン信号の量は磁気ギ
ャップのズレＧ１の方向に強く依存するためである。す
なわち、トラック幅Ｔｗを規制するトラック幅規制溝１
０，１１の磁気ギャップｇのズレＧ１による開き角θの
二等分線の方向Ｆが隣接する記録トラックのアジマス記
録の角度から遠くなる方向に形成することにより、隣接
する記録トラックのアジマス記録に影響を与えるような
ことがなくなり、隣接チャンネルからのクロストークを
減少させることができるからである。

【００４３】そこで、本実施の形態では、トラック幅Ｔ
ｗを規制するトラック幅規制溝１０，１１の磁気ギャッ
プｇのズレＧ１による開き角θの二等分線の方向Ｆが隣
接する記録トラックのアジマス記録の角度から遠くなる
方向に形成されている。

【００４４】次に、本実施の形態の磁気ヘッドの製造方
法について説明する。

【００４５】先ず、図７に示すように、フェライト材よ
りなる基板２１を用意する。そして、平面研削盤を用い
て基板２１の平面出しを行う。

【００４６】本例では、上記基板２１として、磁性フェ
ライト材の単結晶あるいは多結晶、これらの接合材、又
は、非磁性フェライト，ＢａＴｉＯ₃，Ｋ₂ＴｉＯ₃，
結晶化ガラス等の非磁性のものが挙げられる。

【００４７】また、本実施の形態に用いた単結晶フェラ
イトの面方位は図７に示す通りであるが、他の面方位の
単結晶基板、多結晶基板や、単結晶フェライトと多結晶
フェライトとの接合基板等を用いてもよい。

【００４８】次に、スライサーを用いて、図８に示すよ
うに、基板２１の長手方向に巻線溝２２と、ガラス溝２
３を２つずつ形成する。すなわち、基板２１の中央から
これら巻線溝２２と、ガラス溝２３が各々対称となるよ
うにして形成する。このように形成することにより、上
記一つの基板２１から一対の磁気コア半体５，６となる
一対の磁気コアブロック２１ａ，２１ｂが形成されるこ
とになる（図１３参照）。

【００４９】次いで、スライサーを用いて、図９に示す
ように、巻線溝２２、ガラス溝２３と直角の方向、すな
わち基板２１の幅方向にトラック幅規制溝２４を形成す
る。そして、このトラック幅規制溝２４の形成の際に、
溝幅Ｘ１，Ｘ２の異なるトラック幅規制溝２４Ｃ，２４
Ｄを交互に形成する。これは、磁気ギャップのトラック
幅方向のズレ量δを一方向のみに一定に調整した高度な
突き合わせが行われるようにするためである。なお、こ
れらトラック幅規制溝２４を形成した後は、ポリッシン
グ等により基板２１の表面の鏡面加工を行う。

【００５０】この点、従来のトラック幅規制溝の形成に
際しては、トラック幅規制溝をすべての基板の垂直方向
に対して３０°とし、トラック幅規制溝がすべて均一に
なるように形成していた。

【００５１】これに対して、本実施の形態では、図１０
に示すように、トラック幅規制溝２４の形成に際して
は、トラック幅規制溝２４の溝幅Ｘ１，Ｘ２の異なるト
ラック幅規制溝２４Ｃ，２４Ｄを交互に形成する。

【００５２】具体的には、２０１．５μｍの溝幅Ｘ１の
トラック幅規制溝２４Ｃと、２００．０μｍの溝幅Ｘ２
を交互に形成する。なお、これらトラック幅規制溝２４
Ｃ，２４Ｄ間に形成される磁気ギャップ形成用突部２４
Ａの幅Ｘ３が１３．０μｍとなるように形成した。これ
は、磁気ギャップのトラック幅方向のズレの量δを１．
５μｍとするためである。ただし、本発明は、溝幅Ｘ
１，Ｘ２の異なるトラック幅規制溝２４Ｃ，２４Ｄを交
互に形成するものであれば、溝幅Ｘ１，Ｘ２の間隔は上
記のもに限定されるものではないことは言うまでもな
い。

【００５３】次いで、図１１に示すように、上記基板２
１をその中央から切断して、切断された基板２１ａ，２
１ｂを作製する。

【００５４】ここで、本実施の形態では、１つの基板２
１に、巻線溝２２、ガラス溝２３の他、上記構成のトラ
ック幅規制溝２４Ｃ，２４Ｄを形成するものであること
から、上記切断により、各々対称なトラック幅規制溝２
４Ｃ，２４Ｄが形成されることとなる。

【００５５】次いで、上記切断された基板２１ａ，２１
ｂに、図１２及び図１３に示すように、スパッタリング
を用いて金属磁性膜２７を形成し、その上にギャップ膜
２８を形成する。この金属磁性膜２７の成膜に際して
は、図１３に示すように、先のトラック幅規制溝２４内
も含めて成膜する。この金属磁性膜２７としては、本実
施の形態では、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金を用い
た。

【００５６】ここで、基板２１ａ，２１ｂと金属磁性膜
２７との付着力の向上のために、ＳｉＯ_2,Ｔａ₂Ｏ₅等
の酸化物膜、Ｓｉ₃Ｏ₄等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，
Ａｌ、Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びこれらの合金膜、さら
に、これらを組み合わせた積層膜を金属磁性膜２７の下
地膜として用いても良い。本実施の形態では、この付着
力の向上のために、厚さ５ｎｍのＳｉＯ₂ 膜を用いた。

【００５７】また、ギャップ膜には、ＳｉＯ₂ 単層膜を
用いたが、融着ガラス１１との反応防止膜として、上層
に例えばＣｒ膜等を設けた２層膜、多層膜を用いても良
い。

【００５８】次いで、以上のようにして作製された基板
２１ａ，２１ｂを圧着しながら５００〜７００°Ｃに加
熱して、図１４に示すように、低融点ガラス１４にて接
合して接合基板３０を作製する。

【００５９】ここで、この接合に際しては、図１５に示
すように、溝幅Ｘ１，Ｘ２の異なるトラック幅規制溝２
４Ｃ，２４Ｄが向かい合うようにして、磁気ギャップ形
成用突部２４Ａ，２４Ａを突き合わせると、磁気ギャッ
プ形成用突部２４Ａの幅Ｘ３が同じものと１．５μｍズ
レたものとが１つおきに形成されることになる。この場
合の磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δは、上述
したように、１．５μｍである。

【００６０】次いで、上記接合基板３０を平面研削除盤
を用いて所定の厚さにした後に、磁気記録媒体摺動面と
なる部分を円筒研削を行う。

【００６１】次いで、磁気記録媒体摺動面に磁気記録媒
体との当たりを確保するために、図１６に示すように、
当たり幅加工、上記巻線溝２２等の加工を行った後に、
図１７に示すように、目的とするアジマス角と同角度で
切り出し、多数のヘッドチップ３１を製作する。この目
的とするチップ厚の切断に際しては、切断用砥石の厚み
を適切に選択することにより、磁気ギャップのズレが生
じないよう突き合わされた部分が除去されるようにす
る。

【００６２】今回の切り出しに際しては、アジマス角が
±２０°となるように作製したが、その際、前述した＋
方向の磁気ギャップのズレが生じるようにアジマス角を
決定した。このようにして、磁気ヘッドが図６に示すよ
うに完成する。

【００６３】以上のようにして作製された磁気ヘッドの
磁気ギャップのズレ量δを測定した。

【００６４】その結果、従来の磁気ヘッドのトラック幅
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは３σ＝０．７
μｍと大幅な改善が見られた。

【００６５】以上、このように製造された磁気ヘッド
は、再生信号のエラーレートの向上が図られる高精度の
磁気ヘッドである。したがって、家庭用デジタルＶＴＲ
によれば、長時間録画においても充分なエラーレートが
得られ、過去の判定状況を記憶しておくことによりエラ
ーレートを向上させる回路である、ビタビ複合器を不要
とすることが期待される。

【００６６】なお、本発明を適用した具体的な実施の形
態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限
定されることなく種々の変更が可能である。例えば先の
例では、金属磁性膜を主コアとしたが、かかる膜を磁気
コア基板に成膜せずに、フェライトコアのみによって閉
磁路を構成した磁気ヘッドとしても良い。もちろん、こ
の場合のヘッドでも先の磁気ヘッドと同様な作用効果が
得られる。また、このような磁気ヘッドを用いた磁気記
録再生装置は、家庭用デジタルＶＴＲのほかにもデータ
ストリーマなどのデジタル信号蓄積装置にも応用可能で
ある。

【００６７】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、交互
に形成した溝幅の異なるトラック幅規制溝による位置合
わせにより、このトラック幅規制溝が形成された基板同
士を突き合わせると、磁気ギャップのトラック幅方向の
ズレ量を一方向のみに一定に調整した高度な突き合わせ
が行われる。

【００６８】そして、磁気ギャップにアジマス角を付与
するに際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面と
これと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、
隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、
磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方
向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを付与する
ことより、再生する際に隣接チャンネルからのクロスト
ークを抑制することができる磁気ヘッドが製造される。

【００６９】このように製造された磁気ヘッドは、再生
信号のエラーレートの向上が図られ、高い信頼性が得ら
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生
する状態を示す模式図である。

【図２】＋方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。

【図３】−方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。

【図４】＋方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。

【図５】−方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。

【図７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
の平面出しを行う工程を示す斜視図である。

【図８】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
に巻線溝とガラス溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。

【図９】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
にトラック幅規制溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。

【図１０】図９のａ部の拡大斜視図であり、溝幅の異な
るトラック幅規制溝を示す。

【図１１】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基
板を切断する工程を示す斜視図である。

【図１２】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、金
属磁性膜を成膜する工程を示す斜視図である。

【図１３】図１２のｄ部の拡大斜視図であり、トラック
幅規制溝とギャップ部に金属磁性膜が成膜された状態を
示す斜視図である。

【図１４】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、切
断された基板を突き合わせて接合する状態を示す斜視図
である。

【図１５】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気ギャップにズレを生じさせる方向を調整して突き合わ
せる工程を示す模式図である。

【図１６】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気記録媒体摺動面を円筒研磨する工程を示す斜視図であ
る。

【図１７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、所
定の大きさのヘッドチップに切断する工程を示す斜視図
である。

【符号の説明】

１，２磁気コア基板、３，４，２７金属磁性膜、
５，６磁気コア半体、７，８ギャップ形成面、９，
１０，１１，１２，２４トラック幅規制溝、２１基
板、２１ａ，２１ｂ磁気コアブロック（基板）、２４
Ｃ，２４Ｄ溝幅の異なるトラック幅規制溝、２４Ａ
磁気ギャップ形成用突部、Ｔｗトラック幅、Ｆ磁気
ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと対向するト
ラック幅規制溝の壁面との中心線、θ 磁気ギャップと
隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度、θ
１磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと対
向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と隣接する記
録トラックのアジマス方向とがなす角度、δ 磁気ギャ
ップのトラック幅方向のズレ量、Ｘ１，Ｘ２トラック
幅規制溝の溝幅、Ｘ３磁気ギャップ形成用突部の幅

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラック幅規制溝が形成され磁気ギャッ
プ形成用突部が形成された一対の磁気コア半体を、トラ
ック幅規制溝形成面が互いに対向するように突き合わせ
て接合一体化し、上記磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ面間に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドの製造方
法において、溝幅の異なるトラック幅規制溝を交互に形成し、これら
溝幅の異なるトラック幅規制溝を位置合わせすること
で、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ位置にトラック幅規制溝の溝幅の相違に応じたズレ
を付与することをことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項２】磁気ギャップにアジマス角を付与するに
際し、磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと
対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と、隣接す
る記録トラックのアジマス方向とがなす角度が、磁気ギ
ャップと前記隣接する記録トラックのアジマス方向とが
なす角度よりも大きくなるようにズレを付与することを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。