JPH0744816A

JPH0744816A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0744816A
Application number: JP5226595A
Authority: JP
Inventors: Michi Itou; 美知伊藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-07-31
Filing date: 1993-07-31
Publication date: 1995-02-14

Abstract

(57)【要約】【目的】トラック幅精度を向上し、応力による基板，
金属磁性膜の磁気特性の劣化を低減し、磁気ヘッドの特
性を向上し、生産性も向上する。【構成】非磁性材料８，１０と磁性材料９，１１の接
合材よりなる基板３，４を対向面３ｂ，４ｂ側から非磁
性材料８，１０と磁性材料９，１１の接合面３ｃ，４ｃ
に斜交するような斜面３ａ，４ａで切断し、該斜面３
ａ，４ａ上に金属磁性膜５，６を形成した一対の磁気コ
ア半体１，２を、上記金属磁性膜５，６が略一直線状に
連なるように突き合わせてこれら磁気コア半体１，２の
金属磁性膜５，６と非磁性材料８，１０間に融着ガラス
を充填して接合一体化する。このとき、非磁性材料８，
１０と磁性材料９，１１の熱膨張係数の差を５×１０^-6
以下としても良く、基板３，４の対向面３ｂ，４ｂと、
非磁性材料８，１０と磁性材料９，１１の接合面３ｃ，
４ｃのなす角度θを０゜≦θ≦９０゜としても良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー（いわゆるＶＴＲ）に搭載される磁気ヘッドに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ
ー）等の磁気記録再生装置においては、高画質化等を目
的として記録信号の高密度化，高周波数化が進められて
おり、これに対応して磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強
磁性粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベースフィ
ルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の
高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってきてい
る。

【０００３】一方、これに対処するために磁気ヘッドの
分野においても研究が進められており、高抗磁力磁気記
録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コアに強磁性金属材料
を用い、高飽和磁束密度が付与された磁気ヘッドが種々
開発されている。また、近年においては、記録信号の高
密度化に伴って、磁気記録媒体に記録される記録トラッ
クの挟小化も進められており、これに対応して磁気ヘッ
ドのトラック幅も極めて狭いものが要求されてきてい
る。

【０００４】かかる要求を満たす磁気ヘッドとしては、
例えば図１６及び図１７に示すような、磁性フェライト
材等の磁性材料からなる基板１０１，１０２の突き合わ
せ面を磁気ギャップｇに対して斜めに切欠き、この斜面
１０１ａ，１０２ａ上にセンダスト等の強磁性金属材料
よりなる金属磁性膜１０３，１０４を被着形成し、これ
ら金属磁性膜１０３，１０４同士を突き合わせて融着ガ
ラス１０５により接合一体化されたものが提案されてい
る。

【０００５】この磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップ
ｇに対して斜交して設けられた金属磁性膜１０３，１０
４間に磁気ギャップｇが形成されている。そして、上記
磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗは、上記金属磁性膜１
０３，１０４の突き合わせ幅によって規制されている。
従って、このように形成された磁気ヘッドにおいては、
金属磁性膜１０３，１０４の膜厚の制御により簡単に挟
トラック化が図れる。

【０００６】ところで、上述の磁気ヘッドを作製するに
は、先ず、図１８に示すように磁性フェライト材等より
なる基板１０６の磁気ギャップ形成面となる面１０６ａ
に、該面１０６ａに対して斜交した斜面１０７ａを有す
る断面略Ｖ字状の第１の溝１０７を形成する。

【０００７】次に、図１９に示すように、上記第１の溝
１０７の斜面１０７ａ上を含めて上記磁気ギャップ形成
面となる面１０６ａ上にセンダスト等よりなる金属磁性
膜１０８を形成する。そして、上記金属磁性膜１０８ａ
表面を研削除去し、第１の溝１０７の斜面１０７ａ上の
みに金属磁性膜１０８が形成されるようにする。

【０００８】次いで、図２０に示すように上記第１の溝
１０７の斜面１０７ａに成膜された金属磁性膜１０８の
膜剥がれを防止するために、当該第１の溝１０７内に融
着ガラス１０９を充填し、融着ガラス１０９の表面１０
９ａを研削除去して、図２１に示すように第１の溝１０
７内の斜面１０７ａ上のみに金属磁性膜１０８が形成さ
れ、第１の溝１０７内の空間のみに融着ガラス１０９が
充填された状態とする。

【０００９】次に、図２２に示すように、第１の溝１０
７と直交する方向にコイルを巻装するための巻線溝１１
０を形成する。そして、図２３及び図２４に示すように
金属磁性膜１０８の幅、すなわちトラック幅を規制する
ために、第１の溝１０７の斜面１０７ａに交差して金属
磁性膜１０８の一部を切り欠くような断面略Ｕ字状の第
２の溝１１１を基板１０６全面にわたって形成する。次
いで、図２４中一点鎖線で示す磁気ギャップ形成面まで
基板１０６，金属磁性膜１０８，融着ガラス１０９表面
を研削除去した後、鏡面加工し、金属磁性膜１０８の突
き合わせ面１０８ａの幅、すなわちトラック幅を決定す
るとともに、ギャップ形成面を形成して磁気コア半体ブ
ロック１１２を得る。

【００１０】次に、図２５に示すように上述のように形
成された磁気コア半体ブロック１１２，１１３の金属磁
性膜１０８，１１４を突き合わせてトラック位置合わせ
をしながら、磁気コア半体ブロック１１２の第１の溝１
０７内の融着ガラス１０９と磁気コア半体ブロック１１
３の第２の溝１１５間の空間に融着ガラス１１６を充填
し、且つ磁気コア半体ブロック１１３の第１の溝１１７
内の融着ガラス１１８と磁気コア半体ブロック１１２の
第２の溝１１１間の空間に融着ガラス１１９を充填し、
磁気コア半体ブロック１１２，１１３を接合一体化す
る。

【００１１】そして、磁気コア半体ブロック１１２，１
１３の接合物を同図中線ａ−ａ′及び線ｂ−ｂ′で示す
位置で切断する。最後に、切り出したヘッドチップに対
して磁気記録媒体との当たり特性を確保するために、磁
気記録媒体摺動面を円筒研磨して図１６に示すような磁
気ヘッドを完成する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な方法で作製される磁気ヘッドには以下のような不都合
が生じている。例えば、トラック幅精度の不安定による
磁気ヘッドの特性のバラツキが生じている。これは、ト
ラック幅を決定する磁気コア半体の金属磁性膜の突き合
わせ面の幅の精度があまり良好ではないために起こるも
のである。上記金属磁性膜の突き合わせ面の幅は、前述
のように第２の溝の形成とその後の研削除去，鏡面加工
の２つの工程によって決定されるが、研削除去，鏡面加
工量には変動が生じにくく、第２の溝の形成の際に突き
合わせ面の幅の精度は低下し易い。このとき、上記第２
の溝は溝と同一形状の砥石によって研削形成されてお
り、使用により砥石の形状は変化しやすく、第２の溝の
形状も変化し易い。従って、金属磁性膜の突き合わせ面
の幅の精度が低下し、トラック幅精度もあまり良好では
ないものとなり、形成される磁気ヘッドの磁気特性にバ
ラツキが生じる。

【００１３】また、上記第２の溝の形成工程は非常に煩
雑な工程であり、生産性を損なうものである。そして、
上記磁気ヘッドは、例えば従来より使用されるメタル・
イン・ギャップヘッド（ＭＩＧヘッド）と比較して特性
が良好であるにもかかわらず、上記のような煩雑な工程
を必要とし、ＭＩＧヘッドと比較して工程数が多く、製
造コストが割高であることから、その使用範囲は狭い。

【００１４】また、上記のような磁気ヘッドにおいて
は、内部応力による磁気ヘッドの特性の劣化も生じてい
る。前述のように一対の磁気コア半体を接合一体化する
際、磁気コア半体同士の実際の接触部分は磁気ギャップ
を形成する金属磁性膜の突き合わせ面のみであり、接合
一体化の際の圧力は、全てこの部分に集中する。従っ
て、突き合わせ面近傍部の金属磁性膜，基板には応力に
よる磁気特性の劣化が生じ、形成される磁気ヘッドの特
性の劣化を招いている。

【００１５】さらに、上記のような磁気ヘッドにおいて
は、磁気記録媒体摺動面の磁気ギャップ近傍部の大部分
が融着ガラスによって形成されており、使用中に該融着
ガラスに割れ，ヒビ等が発生すると、種々の不良が生
じ、好ましくない。

【００１６】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、トラック幅精度が良好で、応力によ
る基板，金属磁性膜の磁気特性の劣化が低減され、特性
が良好であり、生産性も向上された磁気ヘッドを提供す
ることを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の磁気ヘッドは、少なくとも対向面の一部が
非磁性材料によって構成され残部が磁性材料によって構
成された接合材よりなる基板に、上記対向面側から非磁
性材料と磁性材料の接合面に斜交するような切断面で切
断を行い、該切断面上に金属磁性膜を形成してなる一対
の磁気コア半体を、上記金属磁性膜が略一直線状に連な
るように突き合わせ、一方の磁気コア半体の金属磁性膜
と他方の磁気コア半体の非磁性材料間に融着ガラスが充
填されて接合一体化されてなるものである。

【００１８】また、本発明においては、上記のような磁
気ヘッドにおいて、非磁性材料と磁性材料の熱膨張係数
の差を５×１０^-6以下としても良く、基板の対向面と、
非磁性材料と磁性材料の接合面のなす角度をθとした場
合、０゜＜θ≦９０゜としても良い。

【００１９】

【作用】本発明の磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体
が、少なくとも対向面の一部が非磁性材料によって構成
され残部が磁性材料によって構成された接合材よりなる
基板に、上記対向面側から非磁性材料と磁性材料の接合
面に斜交するような切断面で切断を行い、該切断面上に
金属磁性膜を形成して得られるため、金属磁性膜の突き
合わせ面の幅が非磁性材料によって規制され、従来のよ
うに金属磁性膜の突き合わせ面の幅を規制する第２の溝
を形成する必要がない。また、本発明の磁気ヘッドは、
上記一対の磁気コア半体を、上記金属磁性膜が略一直線
状に連なるように突き合わせ、一方の磁気コア半体の金
属磁性膜と他方の磁気コア半体の非磁性材料間に融着ガ
ラスが充填されて接合一体化されてなるものであるた
め、上記磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面の融着ガラス
の占める割合が小さくなる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図１に示すように、非磁性材料と磁性材料
の接合材からなる基板３，４の対向面を磁気ギャップｇ
に対して斜めに切欠いた斜面３ａ，４ａ上にセンダスト
等の強磁性金属材料よりなる金属磁性膜５，６が形成さ
れた一対の磁気コア半体１，２を、上記金属磁性膜５，
６が略一直線状に連なるようにして突き合わせ、融着ガ
ラス７により接合一体化したものであり、金属磁性膜
５，６間に磁気ギャップｇが形成されている。

【００２１】このとき、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、上記のように磁気コア半体１，２の基板３，４が非
磁性材料，磁性材料の接合材により構成されており、図
２に示すように、非磁性材料８，１０と磁性材料９，１
１の接合面３ｃ，４ｃと、基板３，４の対向面３ｂ，４
ｂがなす図中θで示す角度が９０゜とされている。

【００２２】また、本実施例の磁気ヘッドにおいては、
磁気コア半体１，２の基板３，４の対向面を磁気ギャッ
プｇに対して斜めに切り欠いた斜面３ａ，４ａは、図２
に示すように、磁気ギャップｇに対して斜交すると共
に、非磁性材料８と磁性材料９の接合面３ｃ及び非磁性
材料１０と磁性材料１１の接合面４ｃとも斜交する。す
なわち、斜面３ａは磁気ギャップｇに対して図中θ₂ で
示す角度（本実施例においては４０゜とする。）を有
し、且つ対向面３ｂ側の非磁性材料８の図中Ｌで示す
（本実施例においては１０μｍとする。）部分を切り欠
くようにして設けられ、斜面４ａも磁気ギャップｇに対
して図中θ₂ で示す角度（本実施例においては４０゜と
する。）を有し、且つ対向面４ｂ側の非磁性材料１０の
図中Ｌで示す（本実施例においては１０μｍとする。）
部分を切り欠くようにして設けられている。そして、金
属磁性膜５，６は斜面３ａ，４ａ上にその形状に沿って
設けられている。

【００２３】次いで、上記のような本実施例の磁気ヘッ
ドを製造する方法について述べる。先ず、図３に示すよ
うに所定のピッチ，厚さで非磁性材料２２と磁性材料２
３を接合して基板２１を形成する。そして、非磁性材料
２２と磁性材料２３の接合面２１ｂとなす角度θが９０
゜となるように、磁気ギャップ形成面となる面２１ａを
決定する。次に、面２１ａに、後工程で金属磁性膜を形
成する面であり、上記面２１ａに斜交した斜面２４ａを
有する断面略Ｖ字状の溝部２４を形成する。この際、上
記斜面２４ａと面２１ａのなす角度θ₂ は４０゜とし、
斜面２４ａが非磁性材料２２の一部を切り欠くように
し、非磁性材料２２の切り欠かれる部分の長さＬを１０
μｍとする。

【００２４】なお、上記非磁性材料２２としては、キュ
リー温度が−３０℃であり、常温で非磁性となる非磁性
フェライト材料や、Ｃａ−ＴｉＯ₂ 系，Ｂａ−ＴｉＯ₂
系，Ｍｇ−ＴｉＯ₂ 系，ＺｒＯ₂ 系のセラミック材料等
が挙げられ、磁性材料２３としては、磁性フェライト材
料等が挙げられる。なお、非磁性材料２２及び磁性材料
２３としては、非磁性材料２２と磁性材料２３の熱膨張
係数の差が５×１０^-6以下となるようなものを選択す
る。

【００２５】次に、図４に示すように、上記溝部２４の
斜面２４ａ上を含めて上記磁気ギャップ形成面となる面
２１ａ上にセンダストよりなる金属磁性膜２５をスパッ
タリング等の真空薄膜形成法によって形成する。この
際、基板２１と金属磁性膜２５の反応防止，付着力向上
のためにＳｉＯ₂ ，Ｃｒ等の反応防止膜を下地膜として
予め形成しても良い。

【００２６】次いで、上記基板２１を１３０℃程度に加
熱しながら溝部２４中にアセトン等の溶剤に容易に溶解
する図示しない熱可塑性樹脂を充填する。そして、上記
金属磁性膜の表面２５ａを平面研削盤で研削除去し、上
記熱可塑性樹脂をアセトン等の溶剤に溶解させて除去す
る。その結果、溝部２４の斜面２４ａ上のみに金属磁性
膜２５が形成される。

【００２７】次に、図５に示すように上記溝部２４の斜
面２４ａに成膜された金属磁性膜２５の膜剥がれを防止
するために、溝部２４内にも充填されるように基板２１
の面２１ａ上に融着ガラス２６による層を形成し、融着
ガラス２６の表面２６ａを平面研削盤で研削除去し、図
６に示すように溝部２４内の斜面２４ａ上のみに金属磁
性膜２５が形成され、溝部２４内の空間のみに融着ガラ
ス２６が充填された状態とする。

【００２８】次に、図７に示すように、溝部２４と直交
する方向に、コイルを巻装するための巻線溝２７、ガラ
スを溶融充填するためのガラス溝２８、基板２１を切断
するためのサイド溝２９を形成する。

【００２９】そして、図８に示すように金属磁性膜２５
の突き合わせ面の幅、すなわちトラック幅を規制するた
めに、図中一点鎖線で示す磁気ギャップ形成面まで非磁
性材料２２，金属磁性膜２５，融着ガラス２６表面を鏡
面加工し、金属磁性膜２５の突き合わせ面２５ａの幅、
すなわちトラック幅を決定するとともに、磁気ギャップ
形成面を形成する。この際、金属磁性膜２５の突き合わ
せ面２５ａの幅は形成される磁気ギャップのアジマス角
を考慮したものとし、磁性材料２３が金属磁性膜２５の
突き合わせ面２５ａに露呈しないようにする。

【００３０】次に、図７中に示すように基板２１をサイ
ド溝２９の中心を切断位置として切断し、一対の磁気コ
ア半体ブロック３０，３１を形成する。そして、磁気コ
ア半体ブロック３０，３１の磁気ギャップ形成面３０
ａ，３１ａにＳｉＯ₂ 等の非磁性材料よりなり、厚さ
０．０９μｍ程度の図示しないギャップ膜をスパッタリ
ング等の真空薄膜形成技術によって形成する。

【００３１】次に、図９に示すように上述のように形成
された磁気コア半体ブロック３０，３１の金属磁性膜２
５，３５を突き合わせてトラック位置合わせをしなが
ら、治具により３Ｎの力で固定する。そして、融着ガラ
スによって磁気コア半体ブロック３０，３１を融着して
接合一体化する。このときの融着条件は５６０℃×１時
間とする。

【００３２】そして、磁気コア半体ブロック３０，３１
の接合物を同図中線Ａ−Ａ′及び線Ｂ−Ｂ′で示す位置
で切断する。最後に、切り出したヘッドチップに対して
磁気記録媒体との当たり特性を確保するために、磁気記
録媒体摺動面を円筒研磨し、チップに切断して図１に示
すような磁気ヘッドを完成する。なお、この際、必要に
応じて巻線補助溝，当たり幅加工を行っても良い。

【００３３】本実施例の磁気ヘッドにおいては、図２に
示すように、基板３，４として非磁性材料８，１０と磁
性材料９，１１の接合材を用いており、該基板３，４の
対向面側から非磁性材料８，１０と磁性材料９，１１の
接合面と斜交するような斜面３ａ，４ａが設けられ、こ
れら斜面３ａ，４ａ上に金属磁性膜５，６が設けられて
いる。従って、該金属磁性膜５，６の突き合わせ面の幅
は非磁性材料８，１０によって規制されることとなり、
従来のように金属磁性膜５，６の突き合わせ面の幅を規
制する第２の溝を形成する工程が必要ない。

【００３４】このことにより、第２の溝の形成によるト
ラック幅精度の低下が発生せず、トラック幅精度が安定
化し、磁気ヘッドの磁気特性が向上する。また、トラッ
ク幅精度が向上して製造歩留りが向上するとともに、工
程が削減されて生産性も向上する。なお、鏡面加工によ
りトラック幅を決定する際にも、第２の溝が形成されて
いないことから、鏡面加工量の精度に余裕があり、製造
不良が発生しにくく、生産性が向上される。また、第２
の溝を形成するための砥石が不要となることからも製造
コストを低減できる。

【００３５】さらに、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、磁気コア半体１，２同士を接合一体化する際の磁気
コア半体１，２同士の実際の接触部分が非磁性材料８，
１０、金属磁性膜５，６、融着ガラス７であり、従来の
磁気ヘッドと比較してかなり大きい。従って、接合一体
化の際の圧力が金属磁性膜５，６の突き合わせ面近傍に
集中することがなく、応力による金属磁性膜５，６、基
板３，４の磁気特性の劣化が低減され、磁気ヘッドの特
性の劣化が抑えられる。

【００３６】また、本実施例の磁気ヘッドにおいては、
図１０に示すように、磁気記録媒体摺動面の磁気ギャッ
プｇ近傍部における融着ガラス７の面積の占める割合
が、図１７に示すような従来の磁気ヘッドの磁気ギャッ
プｇ近傍部における融着ガラス１０５の占める割合と比
較して非常に少ない。従って、本実施例の磁気ヘッドに
おいては、使用時に上記融着ガラス７に割れ，ヒビ等が
発生しにくく、これによる種々の不良も発生しにくい。

【００３７】さらに、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、金属磁性膜の突き合わせ面の幅を規制する第２の溝
部を形成しないことから、金属磁性膜の突き合わせ面の
端部の損傷が生じにくい。従って、金属磁性膜と基板の
付着力が十分である場合には、金属磁性膜の形成される
溝部に融着ガラスを充填する必要がなく、さらに工程を
削減でき、生産性が向上される。

【００３８】本発明を適用した磁気ヘッドとしては、上
記の実施例の磁気ヘッドの他、次のような変形例に係る
磁気ヘッドも挙げられる。この変形例に係る磁気ヘッド
も、図１１に示すように、非磁性材料と磁性材料の接合
材からなる基板４３，４４の対向面を磁気ギャップｇに
対して斜めに切欠いた斜面４３ａ，４４ａ上にセンダス
ト等の強磁性金属材料よりなる金属磁性膜４５，４６が
形成された一対の磁気コア半体４１，４２を、上記金属
磁性膜４５，４６が略一直線状に連なるようにして突き
合わせ、融着ガラス４７により接合一体化したものであ
り、金属磁性膜４５，４６間に磁気ギャップｇが形成さ
れている。

【００３９】このとき、上記変形例に係る磁気ヘッドに
おいても、上記のように磁気コア半体４１，４２の基板
４３，４４が非磁性材料，磁性材料の接合材により構成
されており、図１２に示すように（図１２には磁気コア
半体４１のみを示す。）、非磁性材料４８が基板４３の
対向面４３ｂ側に配され、残部が磁性材料４９となさ
れ、図中θで示すこれらの接合面４３ｃと基板４３の対
向面４３ｂの対向面のなす角度が４０゜とされている。

【００４０】また、上記変形例に係る磁気ヘッドにおい
て、磁気コア半体４１，４２の基板４３，４４の対向面
を磁気ギャップｇに対して斜めに切り欠いた斜面４３
ａ，４４ａは、図１２に示すように（図１２には磁気コ
ア半体４１のみを示す。）、磁気ギャップｇに対して斜
交すると共に、非磁性フェライト材４８と磁性フェライ
ト材４９の接合面４３ｃとも斜交する。すなわち、斜面
４３ａは、磁気ギャップｇに対して図中θ₂ で示す角度
（本実施例においては４０゜とする。）を有し、且つ対
向面４３ｂ側の非磁性フェライト材４８の図中Ｌで示す
（本実施例においては１０μｍとする。）部分を切り欠
くようにして設けられている。そして、金属磁性膜４５
は斜面４３ａ上にその形状に沿って設けられている。

【００４１】この変形例に係る磁気ヘッドも先に述べた
磁気ヘッドの実施例と同様に作製される。先ず、図１３
に示すように所定のピッチ，厚さで非磁性材料５２と磁
性材料５３を接合して基板５１を形成する。そして、非
磁性材料５２と磁性材料５３の接合面５１ｂとなす角度
θが４０゜となるように、磁気ギャップ形成面となる面
５１ａを決定する。

【００４２】次に、図１４に示すように、面５１ａに、
後工程で金属磁性膜を形成する面であり、上記面５１ａ
に斜交した斜面５４ａを有する断面略Ｖ字状の溝部５４
を形成する。この際、上記斜面５４ａと面５１ａのなす
角度θ₂ は４０゜とし、斜面５４ａが非磁性材料５２の
一部を切り欠くようにし、非磁性材料５２の切り欠かれ
る部分の長さＬを１０μｍとする。

【００４３】そして、先に述べた磁気ヘッドの実施例と
同様に上記溝部５４内の斜面５４ａ上のみに金属磁性膜
５５が形成され、溝部５４内の空間のみに融着ガラス５
６が充填された状態とし、巻線溝，ガラス溝，サイド溝
を形成し、磁気ギャップ形成面を形成し、磁気コア半体
ブロックを得る。

【００４４】次に、上記のようにして形成した磁気コア
半体ブロック５７とこれと同様に形成した磁気コア半体
ブロック５８を、先に述べた実施例の磁気ヘッドと同様
に図１５に示すように互いの金属磁性膜５５，６５を突
き合わせてトラック位置合わせをしながら、固定し、接
合一体化する。

【００４５】そして、磁気コア半体ブロック５７，５８
の接合物を同図中線Ａ−Ａ′及び線Ｂ−Ｂ′で示す位置
で切断する。最後に、切り出したヘッドチップに対して
磁気記録媒体との当たり特性を確保するために、磁気記
録媒体摺動面を円筒研磨し、チップに切断して図１１に
示す磁気ヘッドが完成される。

【００４６】この変形例に係る磁気ヘッドにおいても、
先に述べた磁気ヘッドの実施例と同様の効果、すなわ
ち、トラック幅精度が安定化され、応力による基板，金
属磁性膜の磁気特性の劣化が低減されることによる特性
の向上、生産性の向上が期待される。また、変形例に係
る磁気ヘッドにおいては、基板の対向面と、非磁性材料
と磁性材料の接合面のなす角度θを４０゜としたことか
ら、磁気記録媒体摺動面の磁気ギャップ近傍部の磁性材
料の占める割合が、先に述べた磁気ヘッドの実施例より
も多くなり、磁気抵抗が先の磁気ヘッドの実施例よりも
小さくなり、記録再生特性が向上する。

【００４７】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体が、少なくとも
対向面の一部が非磁性材料によって構成され残部が磁性
材料によって構成された接合材よりなる基板に、上記対
向面側から非磁性材料と磁性材料の接合面に斜交するよ
うな切断面で切断を行い、該切断面上に金属磁性膜を形
成して得られるため、金属磁性膜の突き合わせ面の幅が
非磁性材料によって規制され、従来のように金属磁性膜
の突き合わせ面の幅を規制する第２の溝を形成する必要
がない。このことにより、第２の溝の形成によるトラッ
ク幅精度の低下が発生せず、トラック幅精度が安定化
し、磁気ヘッドの磁気特性が向上する。また、トラック
幅精度が向上して製造歩留りが向上するとともに、工程
が削減されて生産性も向上する。

【００４８】さらに、本発明の磁気ヘッドは、上記一対
の磁気コア半体を、上記金属磁性膜が略一直線状に連な
るように突き合わせ、一方の磁気コア半体の金属磁性膜
と他方の磁気コア半体の非磁性材料間に融着ガラスが充
填されて接合一体化されてなるものであるため、上記磁
気ヘッドの磁気記録媒体摺動面の融着ガラスの占める割
合が小さくなる。従って、本実施例の磁気ヘッドにおい
ては、使用時に上記融着ガラスに割れ，ヒビ等が発生し
にくく、これによる種々の不良も発生しにくい。

【００４９】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、磁
気コア半体同士を接合一体化する際の磁気コア半体同士
の実際の接触部分は非磁性材料，金属磁性膜，融着ガラ
スとなり、従来の磁気ヘッドと比較してかなり大きい。
従って、接合一体化の際の圧力が金属磁性膜の突き合わ
せ面近傍に集中することがなく、応力による金属磁性
膜，基板の磁気特性の劣化が低減され、磁気ヘッドの特
性の劣化が抑えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの一実施例（以
下、実施例に係る磁気ヘッドと記す。）を示す斜視図で
ある。

【図２】実施例に係る磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍部
を示す平面図である。

【図３】実施例に係る磁気ヘッドを製造する方法を工程
順に示すものであり、基板を形成し、溝部を形成する工
程を示す斜視図である。

【図４】基板上に金属磁性膜を形成する工程を示す斜視
図である。

【図５】基板上に融着ガラスを形成する工程を示す斜視
図である。

【図６】融着ガラスの表面を研削除去する工程を示す斜
視図である。

【図７】巻線溝，ガラス溝，サイド溝を形成し、磁気コ
ア半体ブロックを形成する工程を示す斜視図である。

【図８】鏡面加工により磁気ギャップ形成面を形成する
工程を示す要部拡大断面図である。

【図９】磁気コア半体ブロックの接合一体化する工程を
示す平面図である。

【図１０】実施例に係る磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍
部を示す要部拡大平面図である。

【図１１】実施例に係る磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。

【図１２】実施例に係る磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍
部を示す要部拡大平面図である。

【図１３】実施例に係る磁気ヘッドを製造する方法を工
程順に示すものであり、基板を形成する工程を示す要部
拡大側面図である。

【図１４】基板に溝部を形成する工程を示す要部拡大側
面図である。

【図１５】磁気コア半体ブロックを接合一体化する工程
を示す要部拡大平面図である。

【図１６】従来例に係る磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。

【図１７】従来例に係る磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍
部を示す要部拡大平面図である。

【図１８】従来例に係る磁気ヘッドを製造する方法を工
程順に示すものであり、基板に第１の溝を形成する工程
を示す斜視図である。

【図１９】基板上に金属磁性膜を形成する工程を示す斜
視図である。

【図２０】基板上に融着ガラスを形成する工程を示す斜
視図である。

【図２１】融着ガラスの表面を研削除去する工程を示す
斜視図である。

【図２２】巻線溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図２３】第２の溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。

【図２４】鏡面加工により磁気ギャップ形成面を形成す
る工程を示す要部拡大断面図である。

【図２５】磁気コア半体ブロックを接合一体化する工程
を示す平面図である。

【符号の説明】

１，２，４１，４２・・・磁気コア半体３，４，４３，４４・・・基板３ａ，４ａ，４３ａ，４４ａ・・・斜面３ｂ，４ｂ，４３ｂ・・・対向面３ｃ，４ｃ，４３ｃ・・・接合面５，６，４５，４６・・・金属磁性膜７，４７・・・融着ガラス８，１０，４８・・・非磁性材料９，１１，４９・・・磁性材料 θ，θ₂ ・・・角度Ｌ・・・長さ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも対向面の一部が非磁性材料に
よって構成され残部が磁性材料によって構成された接合
材よりなる基板に、上記対向面側から非磁性材料と磁性
材料の接合面に斜交するような切断面で切断を行い、該
切断面上に金属磁性膜を形成してなる一対の磁気コア半
体を、上記金属磁性膜が略一直線状に連なるように突き
合わせ、一方の磁気コア半体の金属磁性膜と他方の磁気
コア半体の非磁性材料間に融着ガラスが充填されて接合
一体化されている磁気ヘッド。
【請求項２】非磁性材料と磁性材料の熱膨張係数の差
が、５×１０^-6以下であることを特徴とする請求項１記
載の磁気ヘッド。
【請求項３】基板の対向面と、非磁性材料と磁性材料
の接合面のなす角度をθとした場合、０゜＜θ≦９０゜
であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。