JPH0283807A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録再生装置における磁気ヘッドに係り特
に高保磁力を有する磁気記録媒体に好適な磁気ヘッドの
製造方法に関する。

（従来技術） 磁気記録媒体の高性能化に伴い、磁気ヘッドもより狭ト
ラツクを有し、しかも大きな磁界を発生させ得るものが
要求されている。従来この様な要求に対して、磁気飽和
現象を生じやすい磁気ギャップ近傍に飽和磁束密度の高
い強磁性金属を用いたいわゆるＭ　Ｉ　Ｇ　（ＭＥＴＡ
Ｌ　ＩＮ　ＧＡＰ）タイプのヘッドが発明されている。

例えば、特開昭６０−２３１９０号公報には、第７図に
示す様に、非磁性基板１ａ、ｌｂ上に磁性金属膜を単層
あるいは多層に積層した磁性層２ａ、２ｂを形成し、こ
れを分割したものにコイル巻線窓３を設け、次にギャッ
プ形成面を斜面研摩したのち、非磁性膜を介して接合し
た磁気ヘッドが開示されている。また、第８図に示す様
に、強磁性酸化物（フェライト）からなる磁気コア４ａ
、４ｂの作動ギャップ近傍部が磁気的な飽和を生じさせ
ない様に、その近傍部に飽和磁束密度の高い強磁性金属
膜を設けた磁気ヘッドを開示している。

その他に、第９図に示す様に、強磁性酸化物からなるコ
ア４ａ、４ｂの磁気ギャップ形成面側に突起部４ａ−１
’、４ｂ−１を形成し、この突起部４ａ−１，４ｂ−１
の両側面に真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属膜５ａ
、５ｂを形成し、このコア４ｇ、４ｂのトラック幅規制
溝である四部に補強用ガラス８を溶融充填した磁気ヘッ
ドが開示されている。

また、特開昭６０−２０５８０８号公報には、第１０図
（ａ）、（ｂ）に示す様に強磁性酸化物よりなるコア４
ａ、４ｂの磁気ギャップ形成部近傍は強磁性金属膜５ａ
、５ｂ及びその上に被着形成された非磁性高硬度膜１０
ａ、１．Ｏｂからなり、このコア４ａ、４ｂを補強ガラ
ス８で融着接合した磁気ヘッドを開示している。

（本発明が解決しようとする課題） 第７図に示す磁気ヘッドにおいてはコアｌａ。

１ｂを平面的に形成したため、これらのコアｌａ。

１ｂを１個１個突合わせて磁気コア本体を作製しなけれ
ばならず、生産性が低く特性のバラツキも大となる問題
点があった。

また、第８図に示す磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜
５ａ、５ｂと強磁性酸化物４ａ、４ｂとの境界部７ｇ、
７ｂが作動ギャップ６と平行でしかも作動ギャップ６に
極めて接近しているためこれらの境界？１７ａ、７ｂは
擬似ギャップとして作用し、ノイズが増大する欠点があ
ると共に、狭トラツクが形成しにくいという問題点があ
った。

第９図に示す磁気ヘッドにおいては、強磁性金属膜５ａ
、５ｂと融着ガラス８とが直接接合しているため、ヒビ
割れを生じ易く、また強磁性金属膜５ａ、５ｂとガラス
８とが反応して金属薄膜５ａ、５ｂのエツジや表面が変
形したり、変質したりするため磁気ギャップ長が実効的
に長くなる等の欠点があった。

第１０図（ａ）〜（ｂ）に示す磁気ヘッドにおいては、
製造工程が複雑で、必然的に歩留りの低下や、トラック
幅精度の低下を招く等の不都合があった。

（課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、強磁性酸化物よりなる基板上に真空成膜技術により非
磁性高硬度膜を堆積する工程と、この非磁性高硬度膜に
ドライプロセスにより前記強磁性酸化物基板にまで達す
る深さの溝を形成する工程と、前記溝の内に強磁性金属
膜を堆積して平坦化する工程と、上記溝に対して直角な
方向に基板を切断して得たブロックから、巻線溝を形成
して一方のコア半体を得る工程及び巻線溝を有さない他
方のコア半体を得る工程と、ギャップ材を介して前記１
方及び他方のコア半体を前記強磁性金属膜同志が対向す
る様に突合せ、一体に接合する工程と、接合した前記コ
ア半体を切断して磁気コア本体を形成する工程とからな
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法と、強磁性酸
化物よりなる基板上に真空成膜技術により非磁性高硬度
膜を堆積する工程と、この非磁性高硬度膜にドライプロ
セスにより、前記強磁性酸化物基板にまで達する深さの
溝を形成する工程と、この溝内の側壁に溝の深さよりも
薄い膜厚の強磁性金属膜を堆積する工程と、更に、この
金属膜上に前記溝が埋まるように非磁性高硬度膜を堆積
する工程と、前記溝の側壁に形成した強磁性金属膜の端
部が平坦面に露出するように前記基板面を研摩する工程
と、上記溝に対して直角な方向に基板を切断して得たブ
ロックから、巻線溝を形成して一方のコア半体を得る工
程及び巻線溝を有さない他方のコア半体を得る工程と、
ギャップ材を介して前記１方及び他方のコア半体を前記
強磁性金属膜同志が対向する様に突合せ、一体に接合す
る工程と、接合したコア半体を切断して磁気コア本体を
形成する工程とからなることを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法を提供しようとするものである。

（実施例） 第１図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法によって得
られた磁気ヘッドの第１実施例になる磁気コア本体３０
を示す斜視図であり、第２図（ａ）〜（ｉ）は第１図に
示す磁気コア本体の主要工程説明図であり、以下、同図
を用いて説明する。

同図において３１ｍ、３１ｂは強磁性酸化物（フェライ
ト磁性材）からなる一対のコア半体である。３２ａ、３
２ｂは強磁性金属膜であり、上記一対のコア半体３１ｍ
、３１ｂの上面に形成されている３３ｇ、３３ｂは、例
えばＴ　ｉＯ２。

Ｃ「等からなる非磁性高硬度膜であり、強磁性金属膜３
２ｍ、３２ｂを挾む様に一対のコア半体３１ｇ、３１ｂ
の上面に形成されている。３４は磁気ギャップであり、
強磁性金属膜３２ａ。

３２ｂ間で形成されている。３５は巻線溝であり、一方
のコア半体３１ｇの突合せ面に形成され、この巻線溝３
５を利用してコイル３６が巻回されている。

次に、磁気コア本体３ｏの製造工程を説明する。

第２図（ａ）に示す如く、例えばＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェ
ライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物からな
る基板状のコア半体３１を用意する。次に同図（ｂ）の
様に、コア半体３１の上にスパッタリング、蒸着等の真
空成膜技術により、例えばＳｉＯ、Ｔａ　　Ｏ、ＴｉＯ
、Ｃｒ等の非磁性高硬度膜３３を被着形成する。この時
の厚さｔが磁気ギャップ３４の寿命寸法の最大値となる
ため、−船釣に５〜１００μ■程度とする。次に同図（
Ｃ）の様に、ＲＩＥ　（リアクティブイオンエツチング
）、イオンミリング等のドライエツチング法により磁気
コア埋め込み用の溝３７をコア半体３１に達するように
形成する。この時の溝幅Ｗがトラック幅Ｗとなる。

次に同図（ｄ）の様に、スパッタリング蒸着等の真空成
膜技術によって、パーマロイ、センダスト等の強磁性金
属膜３２を被着形成する。

次に同図（ｅ）の様に、研磨、ポリッシュ等の手段によ
り溝３７部以外に付着した強磁性金属膜３２を除去し、
平坦化する。

次に同図（ｆ）の様に、上記基板状のコア半体３１を必
要な大きさに切断することにより、ブロック状の他方の
コア半体３１ｂを得る。

次に同図（ｇ）の様に、ブロック状の他方のコア半体３
１ｂの突合せ面３８に巻線溝３５を形成したのち、突合
せ面３８を鏡面に研磨することによりブロック状の一方
のコア半体３１ａを得る。

次に同図（ｈ）の様に突合せ面３８にＳ　ｔ　Ｏ２。

Ｔ　ｉｏ　２等の非磁性高硬度膜を必要ギャップ長だけ
被着形成する。

次に同図（ｉ）の様にブロック状の一方のコア半体３１
ａと他のコア半体３１ｂとを突合せ巻線溝３５を利用し
て接着ガラス３９で溶着固定したのち、これを−点鎖線
Ｐ１〜Ｐ２に沿って切断することにより、第１図に示す
磁気コア本体３ｏが得られる。

上述の様に本発明の第１実施例になる製造方法によれば
、薄膜プロセスの利点である平面的な厚み精度、エツチ
ング精度を利用してトラック幅Ｗを形成しているため、
トラック幅Ｗの精度が優れ、しかも工程が簡単となって
いるため生産性、歩留りが極めて良い。また、磁気テー
プ等記録媒体との摺動面は強磁性金属膜３２ａ、３２ｂ
と非磁性高硬度膜３３ａ、３３ｂのみからなり、材料の
選択の幅が広く、高抗磁力を有する記録媒体にも十分記
録可能な耐磨耗性の優れた磁気ヘッドを製造することが
出来る。

また、強磁性金属膜３２ａ、３２ｂは磁気ギャップ３４
に対して垂直で、しかも磁気ヘッド幅一杯に形成されて
いるため、テープ摺動面に磁気コア同志の接合部が生ぜ
ず疑似ギャップ３４が生じにくい構造となっている。

第３図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法によって得
られた磁気ヘッドの第２実施例になる磁気コア本体４０
を示す斜視図であり、第４図（ａ）〜（ｃ）は第３図に
示す磁気コア本体４０の主要製造工程説明図であるが、
第１図及び第２図に示す第１実施例の磁気コア本体３０
の構成要素と同一構成要素には同一符号を付し第１実施
例と異なる点のみを説明する。

構造的に異なる点は、第３図に示す様に、強磁性金属膜
３２ａ、３２ｂ間で形成した磁気ギャップ３４の後端部
と巻線溝３５の前方部の間に非磁性からなる逃げ部４１
を形成した点であり、これにより、巻線溝３５の加工精
度を第１実施例のものより必要とせず歩留りの向上が一
層期特出来る。

次に、第２図に示す第１実施例の製造方法との相違点に
ついて説明する。

異なる点は、第４図（ａ）、（ｂ）に示す様に、基板状
のコア半体３１に、前記強磁性金属膜３２を形成するた
めの溝３７と直交する方向に逃げ溝４１を既知の研削手
段等により形成し、この逃げ溝４１の中に酸化物ガラス
４２を充填し、研磨加工により平坦化する。以下は、ｊ
１１実施例と同様であり、第４図（ｃ）の様に磁気コア
埋め込み用の溝３７を形成し、図示しない強磁性金属膜
３２をこの溝３７の中に形成したのち、１点鎖線４２に
沿って切断し、酸化物ガラス４２の一部を除去する様に
巻線溝３５を形成すれば、ブロック状の一方のコア半体
３１ａが得られる。ブロック状の他方のコア半体３１ｂ
の製造方法は第１実施例のものと全く同様である。

第５図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法によって得
られた磁気ヘッドの第３実施例になる磁気コア本体５０
を示す斜視図であり、第６図（ａ）〜（ｇ）は第５図に
示す磁気コア本体４０の主要製造工程説明図であるが、
第１図及び第２図に示す第１実施例の磁気コア本体３０
の構成要素と同一構成要素には同一符号を付し、第１実
施例と異なる点のみを説明する。

構造的に異なる点は、第５図に示す様に、強磁性金属膜
５１ａ、５１ｂ略り字形状を有し、Ｌ字状の底部が一方
及他方のコア半体３１ａ、３１ｂに接続されており、こ
のＬ字状底部の上に、更に非磁性高硬度膜５１ｇ、５１
ｂを形成した点である。本実施例においてはトラック幅
が狭い時でも接合による磁気抵抗を小さく出来るという
特長がある。

次に、第２図に示す第１実施例の製造方法との相違点に
ついて説明する。

異なる点は、第６図（ａ）、（ｂ）に示す様に、基板状
のコア半体３１上に第１の非磁性高硬度膜３３を形成し
たのち、同図（ｃ）の様にやや広めの磁気コア埋め込み
用の溝３７を形成し、この満３７の側壁３７ａを覆うよ
うに強磁性金属膜５］を形成する。

次に同図（ｅ）の様に第２の非磁性高硬度膜５２を溝３
７が埋まる様に形成し、同図（ｆ）の様に平面研磨によ
り溝３７の側壁３７ａに強磁性金属膜５１の端部が平坦
部に露出する様に研磨し、切断線５３に沿って所定の形
状に切断することにより、巻線溝３５を形成する前のブ
ロック状の一方のコア半体３１ａとブロック状の他方の
コア半体３１ｂとを得ることが出来る。

上記実施例においては、溝３７の側壁３７ａに被着した
強磁性金属膜５１の膜厚がほぼトラック幅と等しくなる
。従って溝３７の側壁が同図（ｇ）に示す様にθだけ傾
斜している場合、トラック幅Ｔｗは Ｔ、　−ｔ　／　ｃｏｓθ　　　　−（１）となる。

（発明の効果） 上述の様に本発明になる磁気ヘッドの製造方法の第１実
施例によれば、薄膜プロセスの利点である平面的な厚み
精度、エツチング精度を利用してトラック幅を形成して
いるため、トラック幅精度の優れた磁気ヘッドの製造を
可能とすると共に工程が簡単なため生産性・歩留りの向
上が期待されコスト的に有利な磁気ヘッドの提供を可能
とする。

また、第３実施例の製造方法によれば、トラック幅が極
めて狭い時でも、強磁性金属膜と酸化物磁性体の接合面
積を大とすることが出来る結果磁気抵抗を小とすること
が出来るため、磁気特性の優れた磁気ヘッドの提供を可
能とする。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法によって得
られた磁気ヘッドの第１実施例になる磁気コア本体を示
す斜視図、第２図（ａ）〜（ｉ）は第１図に示す磁気コ
ア本体の主要工程説明図、第３図は本発明になる磁気ヘ
ッドの製造方法によって得られた磁気ヘッドの第２実施
例になる磁気コア本体を示す斜視図、第４図（ａ）〜（
ｃ）は第３図に示す磁気コア本体の主要工程説明図、第
５図は本発明になる磁気ヘッドの製造方法によって得ら
れた磁気ヘッドの第３実施例になる磁気コア本体５０を
示す斜視図、第６図（ａ）〜（ｇ）は第５図に示す磁気
コア本体の主要工程説明図、第７図〜第９図は従来の磁
気ヘッドの斜視図、第１０図（ａ）は従来の磁気ヘッド
の斜視図、同図（ｂ）は同（ａ）図の拡大平面図である
。 ３０．４０．５０・・・磁気コア本体、３１・・・コア
半体、３１ａ・・・１方のコア半体、３１ｂ・・・他方
のコア半体、 ３２．３２ａ、３２ｂ、５１，５１ａ、５１ｂ−・・強
磁性金属膜、 ３３．３３ａ、３３ｂ、５２，５２ａ、５２ｂ−・・非
磁性高硬度膜、３４・・・磁気ギャップ、３５・・・巻
線溝、３６・・・コイル、３７・・・溝、３７ａ・・・
側壁、３８・・・突合せ面、３９・・・接着ガラス、４
１・・・逃げ溝。 ＄′／」 （υ） 暑１０ｆＪｆｊＪ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性酸化物よりなる基板上に真空成膜技術によ
   り非磁性高硬度膜を堆積する工程と、この非磁性高硬度
   膜にドライプロセスにより前記強磁性酸化物基板にまで
   達する深さの溝を形成する工程と、前記溝の内に強磁性
   金属膜を堆積して平坦化する工程と、 上記溝に対して直角な方向に基板を切断して得たブロッ
   クから、巻線溝を形成して一方のコア半体を得る工程及
   び巻線溝を有さない他方のコア半体を得る工程と、 ギャップ材を介して前記１方及び他方のコア半体を前記
   強磁性金属膜同志が対向する様に突合せ、一体に接合す
   る工程と、 接合した前記コア半体を切断して磁気コア本体を形成す
   る工程とからなることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
   法。
2. （２）強磁性酸化物よりなる基板上に真空成膜技術によ
   り非磁性高硬度膜を堆積する工程と、この非磁性高硬度
   膜にドライプロセスにより、前記強磁性酸化物基板にま
   で達する深さの溝を形成する工程と、 この溝内の側壁に溝の深さよりも薄い膜厚の強磁性金属
   膜を堆積する工程と、 更に、この金属膜上に前記溝が埋まるように非磁性高硬
   度膜を堆積する工程と、 前記溝の側壁に形成した強磁性金属膜の端部が平坦面に
   露出するように前記基板面を研摩する工程と、 上記溝に対して直角な方向に基板を切断して得たブロッ
   クから、巻線溝を形成して一方のコア半体を得る工程及
   び巻線溝を有さない他方のコア半体を得る工程と、 ギャップ材を介して前記１方及び他方のコア半体を前記
   強磁性金属膜同志が対向する様に突合せ、一体に接合す
   る工程と、 接合したコア半体を切断して磁気コア半体を形成する工
   程とからなることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。