JPH02162509A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH02162509A JPH02162509A JP31901188A JP31901188A JPH02162509A JP H02162509 A JPH02162509 A JP H02162509A JP 31901188 A JP31901188 A JP 31901188A JP 31901188 A JP31901188 A JP 31901188A JP H02162509 A JPH02162509 A JP H02162509A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、フロッピーディスク装置などに使用される磁
気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
従来の技術
近年、フロッピーディスク型磁気記録再生装置(以下、
FDDと称す)は、パーソナルコンピューターなどの外
部記憶装置として幅広(使用されており、その大容量化
がはかられている。
FDDと称す)は、パーソナルコンピューターなどの外
部記憶装置として幅広(使用されており、その大容量化
がはかられている。
高密度化に伴いヘッド構成も狭トラツク・小型化となり
、高性能のヘッドが必要とされる。また、磁気ヘッド材
料も記録媒体の高保磁気化(高Hc)に対して十分な書
き込みができるように飽和磁束密度Bsの高い金属磁性
材料が用いられてきている。
、高性能のヘッドが必要とされる。また、磁気ヘッド材
料も記録媒体の高保磁気化(高Hc)に対して十分な書
き込みができるように飽和磁束密度Bsの高い金属磁性
材料が用いられてきている。
以下、図面を参照しながら従来のFDD用磁気ヘッドの
構造及びその製造方法の一例について説明する。
構造及びその製造方法の一例について説明する。
第3図(a)、[有])は従来のFDD用磁気ヘッドの
構造及び製造方法を示すものである。第3図(a)にお
いて、15はヘッドコアで例えばフェライトのようなバ
ルクの磁性材から構成される。このフェライトコアに、
記録再生用トラック(トラック幅Tw)を規制するため
にガラス16がモールドされている。
構造及び製造方法を示すものである。第3図(a)にお
いて、15はヘッドコアで例えばフェライトのようなバ
ルクの磁性材から構成される。このフェライトコアに、
記録再生用トラック(トラック幅Tw)を規制するため
にガラス16がモールドされている。
5は巻線を施すための巻線窓である。また、17゜18
はスライダでセラミックなどの非磁性材で構成される。
はスライダでセラミックなどの非磁性材で構成される。
11.12は巻線を巻くための逃げ溝である。
以上のようなヘッドチップ(ヘッドコア)15をヘッド
スライダ17.18で挟持し一体化してFDD用ヘッド
を形成する。第3図(b)がその従来のFDD用ヘッド
の外観を示しである。矢印9はヘッド摺動面を示しこの
面でディスクメディアを受けて録再を行うものである。
スライダ17.18で挟持し一体化してFDD用ヘッド
を形成する。第3図(b)がその従来のFDD用ヘッド
の外観を示しである。矢印9はヘッド摺動面を示しこの
面でディスクメディアを受けて録再を行うものである。
以上のような従来のFDD用磁気ヘッドの製造方法には
、例えば、特開昭59−213014号公報に示されて
いる方法がある。
、例えば、特開昭59−213014号公報に示されて
いる方法がある。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のようなヘッドの構成及び製造方法で
は、ヘッドトラック幅をバルク材を研削加工して形成し
ているので、高密度化による狭トラツク化が困難となり
その加工精度もトラック幅のバラツキの原因となる。
は、ヘッドトラック幅をバルク材を研削加工して形成し
ているので、高密度化による狭トラツク化が困難となり
その加工精度もトラック幅のバラツキの原因となる。
また、第3図(a)のようにヘッドコアはヘッドコアの
みで加工形成され、そのヘッドコアの両サイドをスライ
ダで挟持する構成となる。一般に、ヘッドコアとスライ
ダの接合には樹脂などの接着材が用いられてきた。例え
ば、高湿下での樹脂の膨潤になるコアースライダ間の段
差ズレは、スペーシングの原因となる。高密度になると
短波長記録となるのでスペーシングは数100A以下に
抑制しなければならない。
みで加工形成され、そのヘッドコアの両サイドをスライ
ダで挟持する構成となる。一般に、ヘッドコアとスライ
ダの接合には樹脂などの接着材が用いられてきた。例え
ば、高湿下での樹脂の膨潤になるコアースライダ間の段
差ズレは、スペーシングの原因となる。高密度になると
短波長記録となるのでスペーシングは数100A以下に
抑制しなければならない。
本発明は上記課題に鑑み、高密度化に伴うヘントドラッ
クの狭幅化とその精度向上を図ると共に、ヘッドとスラ
イダの接合を高信頼性のもとで行なうことのできる磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としてい
る。
クの狭幅化とその精度向上を図ると共に、ヘッドとスラ
イダの接合を高信頼性のもとで行なうことのできる磁気
ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としてい
る。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明の磁気ヘッドにおい
ては、非磁性の基板上にスパッタリング法などで金属磁
性膜を着膜し、これを主磁路とするヘッドコアが形成さ
れる。
ては、非磁性の基板上にスパッタリング法などで金属磁
性膜を着膜し、これを主磁路とするヘッドコアが形成さ
れる。
また、上記非磁性基板の形状を考慮すれば、これをヘッ
ドスライダとすることができる。
ドスライダとすることができる。
さらに、ヘッドコアとスライダの接合については、第一
に、非磁性基板に直接金属磁性膜を形成すること、第二
に、もう一方の非磁性基板と金属磁性膜とを接合するに
はガラスを接着層とするDG法を用いること、第三に、
両方の非磁性基板に金属磁性膜を分割して着膜し、その
間をガラスまたは合金の薄膜層で接着する方法などが考
えられる。
に、非磁性基板に直接金属磁性膜を形成すること、第二
に、もう一方の非磁性基板と金属磁性膜とを接合するに
はガラスを接着層とするDG法を用いること、第三に、
両方の非磁性基板に金属磁性膜を分割して着膜し、その
間をガラスまたは合金の薄膜層で接着する方法などが考
えられる。
作用
上記のように構成された磁気ヘッド及びその製造方法に
よると、まず、トラック幅は金属磁性膜の着膜量で制御
することができ、その着膜量は数100Aのオーダーな
ので狭トラツク化・高精度化に適応できる。
よると、まず、トラック幅は金属磁性膜の着膜量で制御
することができ、その着膜量は数100Aのオーダーな
ので狭トラツク化・高精度化に適応できる。
ヘッドコアとスライダの接合は前記のようにガラスや金
属などの薄膜層を接着層とするので、樹脂などの接着剤
を使用するよりも、より信顛度高く接合できる。
属などの薄膜層を接着層とするので、樹脂などの接着剤
を使用するよりも、より信顛度高く接合できる。
また、非磁性基板をスライダとして共用しているので、
製造工程の工数低減にもつながる。
製造工程の工数低減にもつながる。
実施例
以下本発明の一実施例の磁気ヘッド及びその製造方法に
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
第1図は、本発明の一実施例における磁気ヘッドの構成
図である。第1図において、8は金属磁性薄膜から成る
ヘッドコアである。この金属磁性膜はCoを主成分とす
るアモルファス合金を用いた。13.14はヘッドスラ
イダで金属磁性薄膜を形成するときの非磁性基板となる
ものである。この非磁性材はチタンを含む酸化物セラミ
ックを用いた。また、5は巻線窓である。
図である。第1図において、8は金属磁性薄膜から成る
ヘッドコアである。この金属磁性膜はCoを主成分とす
るアモルファス合金を用いた。13.14はヘッドスラ
イダで金属磁性薄膜を形成するときの非磁性基板となる
ものである。この非磁性材はチタンを含む酸化物セラミ
ックを用いた。また、5は巻線窓である。
第1図のように構成された磁気ヘッドの製造工程を、第
2図で説明する。
2図で説明する。
第2図(a)〜(局は、その工程順をあられす。
第2図(a)は、第一の非磁性基板1の上にスパッタリ
ング法で金属磁性膜3を着膜する工程であり、スライダ
となる非磁性基板は、VTR用ヘッドなどの基板に比べ
ると厚さが大きくなっている。第2図(b)は、第二の
非磁性基板2に同様にして金属磁性膜3を形成した後に
、第一、第二のそれぞれの非磁性基板ブロックの金属磁
性膜3上に合金膜4をスパッタリングして、この合金膜
4を接着層として両方の非磁性基板ブロックを圧着接合
する工程である。本実施例では、合金膜4として銀ろう
を用い、その膜厚は数1000Aとした。第2図(C)
は、第2図(b)の−点鎖線のように一体となった両非
磁性基板ブロックを切断し、巻線窓5を設けたCコア半
体6(第一のコア半体)と、■コア半体7(第二のコア
半体)を加工形成する工程である。
ング法で金属磁性膜3を着膜する工程であり、スライダ
となる非磁性基板は、VTR用ヘッドなどの基板に比べ
ると厚さが大きくなっている。第2図(b)は、第二の
非磁性基板2に同様にして金属磁性膜3を形成した後に
、第一、第二のそれぞれの非磁性基板ブロックの金属磁
性膜3上に合金膜4をスパッタリングして、この合金膜
4を接着層として両方の非磁性基板ブロックを圧着接合
する工程である。本実施例では、合金膜4として銀ろう
を用い、その膜厚は数1000Aとした。第2図(C)
は、第2図(b)の−点鎖線のように一体となった両非
磁性基板ブロックを切断し、巻線窓5を設けたCコア半
体6(第一のコア半体)と、■コア半体7(第二のコア
半体)を加工形成する工程である。
次に、第2図(d)は、Cコア半体と■コア半体の対向
面に、それぞれStowなるギャップ部材をスパッタリ
ングしてヘッドの空隙形成を行う工程を示し、8は金属
磁性薄膜で構成されるヘッドコア部である。第2図(d
)の−点鎖線のように一体となった両コア半体を切断す
ると、第2図(e)に示す一つの磁気ヘッドが形成され
る。第2図(e)において、5は巻線窓、8はヘッドコ
ア部を示し、矢印9はヘッド摺動面をあられす。また、
Twはヘッドトラック幅を示し、このTwは金属磁性薄
膜とわずかな厚みの接着層用の合金膜の着膜量で決まる
。
面に、それぞれStowなるギャップ部材をスパッタリ
ングしてヘッドの空隙形成を行う工程を示し、8は金属
磁性薄膜で構成されるヘッドコア部である。第2図(d
)の−点鎖線のように一体となった両コア半体を切断す
ると、第2図(e)に示す一つの磁気ヘッドが形成され
る。第2図(e)において、5は巻線窓、8はヘッドコ
ア部を示し、矢印9はヘッド摺動面をあられす。また、
Twはヘッドトラック幅を示し、このTwは金属磁性薄
膜とわずかな厚みの接着層用の合金膜の着膜量で決まる
。
最後に、第2図(f)は、磁気ヘッドの非磁性基板部分
をヘッドスライダとなるような形状に加工する工程を示
す。第2図(f)において、10はヘッド摺動面上の逃
げ溝で、11.12は巻線を施すための逃げ溝である。
をヘッドスライダとなるような形状に加工する工程を示
す。第2図(f)において、10はヘッド摺動面上の逃
げ溝で、11.12は巻線を施すための逃げ溝である。
第2図(員は、第2図(f)の側面図であり、11、1
2は巻線用の逃げ溝を、8はヘッドコア部をあられす。
2は巻線用の逃げ溝を、8はヘッドコア部をあられす。
また、13.14はスライダで摺動面部分を示している
。
。
以上のように本実施例によれば、ヘッドトラック幅を薄
膜層の厚み(金属磁性膜と接着用合金膜)で形成するの
で、そのバラツキも小さく、狭トラツク化も可能である
。さらに、薄膜層を形成する非磁性基板をそのままスラ
イダとして利用するので、従来のようなFDD用ヘッド
に比べて工数が減り、スライダ接着もその信頬度が上が
る。
膜層の厚み(金属磁性膜と接着用合金膜)で形成するの
で、そのバラツキも小さく、狭トラツク化も可能である
。さらに、薄膜層を形成する非磁性基板をそのままスラ
イダとして利用するので、従来のようなFDD用ヘッド
に比べて工数が減り、スライダ接着もその信頬度が上が
る。
発明の効果
以上のように本発明は、非磁性基板上にスパッタリング
法などにより金属磁性薄膜を着膜し、その金属磁性薄膜
でヘッドコアを形成するとともに、薄膜層の厚さでヘッ
ドトラック幅を制御する。さらに、薄膜層を形成する非
磁性基板の厚さを大きくしてそれをヘッドスライダに用
いている。ヘッドコアとスライダは一体となっておりそ
の接着は薄膜構成となっているので、信頬性が高い接合
となる。
法などにより金属磁性薄膜を着膜し、その金属磁性薄膜
でヘッドコアを形成するとともに、薄膜層の厚さでヘッ
ドトラック幅を制御する。さらに、薄膜層を形成する非
磁性基板の厚さを大きくしてそれをヘッドスライダに用
いている。ヘッドコアとスライダは一体となっておりそ
の接着は薄膜構成となっているので、信頬性が高い接合
となる。
以上のように本発明の磁気ヘッド及びその製造方法は、
高密度化に対応したものであり、ヘッドの小型化も十分
可能なので、その効果は大なるものがある。
高密度化に対応したものであり、ヘッドの小型化も十分
可能なので、その効果は大なるものがある。
第1図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの構成図
、第2図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造
方法を示す工程図、第3図は従来の磁気ヘッドの構成図
である。 1.2・・・・・・非磁性基板、3・・・・・・金属磁
性膜、4・・・・・・合金膜、8・・・・・・ヘッドコ
ア、13.44・・・・・・ヘッドスライダ。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名S−一一巻
課懇 8− へ・ソトコア /、3./4− ヘソトスライタ 42 図
、第2図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造
方法を示す工程図、第3図は従来の磁気ヘッドの構成図
である。 1.2・・・・・・非磁性基板、3・・・・・・金属磁
性膜、4・・・・・・合金膜、8・・・・・・ヘッドコ
ア、13.44・・・・・・ヘッドスライダ。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名S−一一巻
課懇 8− へ・ソトコア /、3./4− ヘソトスライタ 42 図
Claims (2)
- (1)ヘッドコアとヘッドスライダが一体化された磁気
ヘッドであって、前記ヘッドコアは、金属磁性薄膜を蒸
着法またはスパッタリング法で非磁性基板上に着膜し、
その膜厚をヘッドトラック幅とする構造であり、前記非
磁性基板をヘッドスライダとすることを特徴とする磁気
ヘッド。 - (2)非磁性基板上に蒸着法またはスパッタリング法に
より金属磁性薄膜と接着層を形成し第一、第二の非磁性
基板ブロックとする工程と、前記第一の非磁性基板ブロ
ックと第二の非磁性基板ブロックを圧着接合し主磁路を
形成する工程と、前記一体となった両非磁性基板ブロッ
クを切断して第一、第二のコア半体とし、少なくとも一
方のコア半体に巻線用の溝加工を施す工程と、ヘッドの
空隙となるギャップ部材を介して前記第一のコア半体と
第二のコア半体を圧着接合する工程と、前記一体となっ
た両コア半体を切断する工程と、前記非磁性基板を任意
の形状のヘッドスライダに加工する工程とを備えたこと
を特徴とした磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31901188A JPH02162509A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31901188A JPH02162509A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02162509A true JPH02162509A (ja) | 1990-06-22 |
Family
ID=18105504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31901188A Pending JPH02162509A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02162509A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03110618U (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-13 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6194210A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-13 | Hitachi Ltd | 浮上式薄膜ヘツド |
JPS62128013A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-10 | Sharp Corp | 磁気ヘツド |
-
1988
- 1988-12-16 JP JP31901188A patent/JPH02162509A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6194210A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-13 | Hitachi Ltd | 浮上式薄膜ヘツド |
JPS62128013A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-10 | Sharp Corp | 磁気ヘツド |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03110618U (ja) * | 1990-02-27 | 1991-11-13 |
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