JPS6194210A - 浮上式薄膜ヘツド - Google Patents
浮上式薄膜ヘツドInfo
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- JPS6194210A JPS6194210A JP21410284A JP21410284A JPS6194210A JP S6194210 A JPS6194210 A JP S6194210A JP 21410284 A JP21410284 A JP 21410284A JP 21410284 A JP21410284 A JP 21410284A JP S6194210 A JPS6194210 A JP S6194210A
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- magnetic
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- G—PHYSICS
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク用の浮上式薄膜ヘッドに関する
。
。
磁気ディスク用の浮上式ヘッドとして従来より知られて
いるものは、例えば第１図に示す如く、フェライト等の
磁性体よりなる一方の磁気コア半体１がスライダーを兼
ね、同じく磁性体よりなる他方の磁気：ｙ７半体２には
巻線用＃＄３を形成し、これら一対の磁気コア半体１，
２をギャップスペーナーを介して接合することにより構
成されており、スライダーの磁気ディスクとの対向面Ａ
の後端部にギャップ４を形成している。しかし、かかる
構成の浮上式ヘッドにおいては、スライダーを兼ねた磁
性体である一方の磁気＝７半体１が大きいため、ヘッド
のインダクタンスが大きくなりてしまうとい５欠点があ
りた。
いるものは、例えば第１図に示す如く、フェライト等の
磁性体よりなる一方の磁気コア半体１がスライダーを兼
ね、同じく磁性体よりなる他方の磁気：ｙ７半体２には
巻線用＃＄３を形成し、これら一対の磁気コア半体１，
２をギャップスペーナーを介して接合することにより構
成されており、スライダーの磁気ディスクとの対向面Ａ
の後端部にギャップ４を形成している。しかし、かかる
構成の浮上式ヘッドにおいては、スライダーを兼ねた磁
性体である一方の磁気＝７半体１が大きいため、ヘッド
のインダクタンスが大きくなりてしまうとい５欠点があ
りた。
そこで、ヘッドのインダクタンスを小さくする目的で、
高透磁率の磁性材料の薄膜をコア材として磁気コア部を
形成し、該磁気コア部をスライダーを兼ねた非磁性基板
上に設けてなる浮上式薄膜ヘッドが、近年有望とされて
いる。
高透磁率の磁性材料の薄膜をコア材として磁気コア部を
形成し、該磁気コア部をスライダーを兼ねた非磁性基板
上に設けてなる浮上式薄膜ヘッドが、近年有望とされて
いる。
第２図は、かかる浮上式薄膜ヘッドの従来例を示す斜視
図であうて、５はスライダーを兼ねた非磁性基板であり
、Ａはスライダーの磁気デイスクとの対向面、Ｂは磁気
コア部を示している。また、第３図は、第２図のα−α
′線断面図でありて、前詰磁気コア部Ｂを拡大して示し
たものである。第３図において、５は前記非磁基板、６
はセンダスト等の高透磁率の磁性材料をスパッタリング
にて形成してなる上部磁性膜。
図であうて、５はスライダーを兼ねた非磁性基板であり
、Ａはスライダーの磁気デイスクとの対向面、Ｂは磁気
コア部を示している。また、第３図は、第２図のα−α
′線断面図でありて、前詰磁気コア部Ｂを拡大して示し
たものである。第３図において、５は前記非磁基板、６
はセンダスト等の高透磁率の磁性材料をスパッタリング
にて形成してなる上部磁性膜。
７はＳ ＊ Ｏｘ等の非磁性材料をスパッタリングにて
形成してなるギャップスペーサ−２８は蒸着等により形
成されたアルミ膜を７オトリ、ジグ２フ技術を用いて形
成してなるコイル、９はＰＩＱ樹脂等からなるコイル段
差部平坦化用の絶縁膜、１０はセンダスト等の高透磁率
の磁性材料をスパッタリングにて形成してなる上部磁性
膜である。
形成してなるギャップスペーサ−２８は蒸着等により形
成されたアルミ膜を７オトリ、ジグ２フ技術を用いて形
成してなるコイル、９はＰＩＱ樹脂等からなるコイル段
差部平坦化用の絶縁膜、１０はセンダスト等の高透磁率
の磁性材料をスパッタリングにて形成してなる上部磁性
膜である。
このような従来の浮上式薄膜ヘッドは、磁気コア部Ｂを
小さくできるためヘッドめインダクタンスを小さくする
ことは可能であるが、コイル８や絶縁ノー９を形成する
際の製造過程が極めて複雑であるため、その煩雑さに加
えて、種々の問題がある。丁なわち、フォトリゾグラフ
技術を用いて形成されるコイル８は、技術上、その巻数
も約１０回が限度となるため、大きな出力を得ることが
できない。また、平坦化技術を用いてもコイル８の上部
の絶縁膜９を完全に平坦化することはできず、第３図に
示す如く凹凸を生じてしまうので、その凹凸部分に上部
磁性膜１０を形成する際に透磁率の劣化を起こしゃ丁い
。
小さくできるためヘッドめインダクタンスを小さくする
ことは可能であるが、コイル８や絶縁ノー９を形成する
際の製造過程が極めて複雑であるため、その煩雑さに加
えて、種々の問題がある。丁なわち、フォトリゾグラフ
技術を用いて形成されるコイル８は、技術上、その巻数
も約１０回が限度となるため、大きな出力を得ることが
できない。また、平坦化技術を用いてもコイル８の上部
の絶縁膜９を完全に平坦化することはできず、第３図に
示す如く凹凸を生じてしまうので、その凹凸部分に上部
磁性膜１０を形成する際に透磁率の劣化を起こしゃ丁い
。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、製造過程
が簡単で、かつ磁気コア部形成時にコア特性劣化が起こ
らず、しかも出方の高い浮上式薄膜ヘッドを提供するに
ある。
が簡単で、かつ磁気コア部形成時にコア特性劣化が起こ
らず、しかも出方の高い浮上式薄膜ヘッドを提供するに
ある。
この目的を達成するために、本発明は、コイルを巻線型
とし、スライダーに巻線用溝を臨む巻線加工用切込みを
設けたことを特徴とする。
とし、スライダーに巻線用溝を臨む巻線加工用切込みを
設けたことを特徴とする。
以下、本発明の実施例を図面について説明する。
第４図（ａＪないしくへ）は本発明の浮上式薄膜ヘッド
を製造する際の工程図であって、１１は非磁性基板、１
２はセンダスト膜、１斗家ＡＡＯ，膜、１４はギャップ
スペーサー、１５Ｉ裏非磁性基板、１６は巻線用溝、′
１７はセンダスト膜、 １８！裏ギャップスペーサ−１
１９はスライダフロント、２（）まスライダ溝、２１は
巻線加工用切込みである。
を製造する際の工程図であって、１１は非磁性基板、１
２はセンダスト膜、１斗家ＡＡＯ，膜、１４はギャップ
スペーサー、１５Ｉ裏非磁性基板、１６は巻線用溝、′
１７はセンダスト膜、 １８！裏ギャップスペーサ−１
１９はスライダフロント、２（）まスライダ溝、２１は
巻線加工用切込みである。
まず、一方の磁気コア半休を形成するための非磁性基板
１１を用意しく第４図（す）該非磁性基板１１に、スパ
ッタリングにより５μｍの厚さのセンダスト膜１２を形
成して（同図（４） ） 、 ６００”ひ亡２０分間ア
ニーリングする。この後、該センダスト膜１２を、フォ
トリゾグラブ技術やエツチング技術を用いてバターニン
グしく同図（Ｏ））％こうしてバターニングされたセン
ダスト膜１２の上面に、真全蒸着法を用いて人４０．膜
１３を７〜８μｍの厚さで蒸着させる（同図（ｄ））。
１１を用意しく第４図（す）該非磁性基板１１に、スパ
ッタリングにより５μｍの厚さのセンダスト膜１２を形
成して（同図（４） ） 、 ６００”ひ亡２０分間ア
ニーリングする。この後、該センダスト膜１２を、フォ
トリゾグラブ技術やエツチング技術を用いてバターニン
グしく同図（Ｏ））％こうしてバターニングされたセン
ダスト膜１２の上面に、真全蒸着法を用いて人４０．膜
１３を７〜８μｍの厚さで蒸着させる（同図（ｄ））。
そして、該Ａ’、０．膜１３を研摩して、その下層のセ
ンダスト膜１２の高さにそろ５ように平坦化しく同図（
４））、この上面に、５＝偽０．１５μｍと低融点ガラ
ス０，２声ｍとからなるギャップスペーサ−１４を、Ｉ
ＩＬＦスパッタ法を用いて形成する（同図ω〕。
ンダスト膜１２の高さにそろ５ように平坦化しく同図（
４））、この上面に、５＝偽０．１５μｍと低融点ガラ
ス０，２声ｍとからなるギャップスペーサ−１４を、Ｉ
ＩＬＦスパッタ法を用いて形成する（同図ω〕。
次に、他方の磁気コア半休の製造工程について説明する
。まず、非磁性基板１５を・用意しく同図（＃Ｊ ）
、該非磁性基板１５に、コイルを巻線するための穴とな
る巻線用溝１６をダイシング加工する（同図（旬）。こ
のとき、同図（句の拡大図に示す如く、該巻線用溝１６
の断面形状は、上底１５０Ａ？ＦＬ下底４５ Ｑ ｐｍ
、 高さ１５ＱＪｍの台形になっている。
。まず、非磁性基板１５を・用意しく同図（＃Ｊ ）
、該非磁性基板１５に、コイルを巻線するための穴とな
る巻線用溝１６をダイシング加工する（同図（旬）。こ
のとき、同図（句の拡大図に示す如く、該巻線用溝１６
の断面形状は、上底１５０Ａ？ＦＬ下底４５ Ｑ ｐｍ
、 高さ１５ＱＪｍの台形になっている。
こうして巻線用溝１６を形成した非磁性基板１５の上面
に、スパッタリングにより５Ｊ？ＦＬの厚さのセンダス
ト膜１７を形成しく同図（Ｌ） ） 、 ６００℃で２
０分間アニーリングする。この後、該センダスト膜１７
の上面に、５＝ＯＪＯ，１５ｓｔＦＬ と低融点ガラ、
Ｘ ０．２Ｊ？ＰＬとからなるギャップスペーサ−１８
を、几Ｆスパッタ法を用いて形成する（同図（ｉ）。
に、スパッタリングにより５Ｊ？ＦＬの厚さのセンダス
ト膜１７を形成しく同図（Ｌ） ） 、 ６００℃で２
０分間アニーリングする。この後、該センダスト膜１７
の上面に、５＝ＯＪＯ，１５ｓｔＦＬ と低融点ガラ、
Ｘ ０．２Ｊ？ＰＬとからなるギャップスペーサ−１８
を、几Ｆスパッタ法を用いて形成する（同図（ｉ）。
このようにして、センダスト＄ １２．１７よりなる磁
性膜を形成した一対の磁気コア半休を製造した後、前記
ギャップスペー？−１４，１８を介して、これら一対の
磁気コア半休を熱圧着接合する（同図四。次いで、一方
の磁気コア半休を形成している非磁性基板１１を厚さ５
００μｍに薄肉加エし、さらに、ダイシング加工により
磁気ディスクとの対向面Ａを研摩できる形に整えた後、
該対向面Ａを研摩し、スライダフロント１９を得る（同
図（Ｊ） ）。そして、ダイシング加工により、該対向
面Ａから２００μｍの深さにスライダ溝２ｏを、また、
該対向面Ａから６０ ｐ ｐｍの深さに巻線加工用切込
み２１を、それぞれ形成した後、チップ化を行う（同図
−）。こうして形成された巻線加工用切込み２１の一部
は巻線用溝１６に臨んでいるので、該巻線加工用切込み
２１を利用して、穴状の巻線用溝１６にコイルを所定回
数（ぐらせて巻線加工を行い、完成する。
性膜を形成した一対の磁気コア半休を製造した後、前記
ギャップスペー？−１４，１８を介して、これら一対の
磁気コア半休を熱圧着接合する（同図四。次いで、一方
の磁気コア半休を形成している非磁性基板１１を厚さ５
００μｍに薄肉加エし、さらに、ダイシング加工により
磁気ディスクとの対向面Ａを研摩できる形に整えた後、
該対向面Ａを研摩し、スライダフロント１９を得る（同
図（Ｊ） ）。そして、ダイシング加工により、該対向
面Ａから２００μｍの深さにスライダ溝２ｏを、また、
該対向面Ａから６０ ｐ ｐｍの深さに巻線加工用切込
み２１を、それぞれ形成した後、チップ化を行う（同図
−）。こうして形成された巻線加工用切込み２１の一部
は巻線用溝１６に臨んでいるので、該巻線加工用切込み
２１を利用して、穴状の巻線用溝１６にコイルを所定回
数（ぐらせて巻線加工を行い、完成する。
第５図は、上述した工程により製造された浮上式薄膜ヘ
ッドのスライダーおよび磁気コア部の構造を示す一実施
例であって、同図（ａＪはその縦断面図、同図的はその
正面図であり、第４図と対応する部分には同一の符号を
つけている。
ッドのスライダーおよび磁気コア部の構造を示す一実施
例であって、同図（ａＪはその縦断面図、同図的はその
正面図であり、第４図と対応する部分には同一の符号を
つけている。
本実施例においては、コイル径を４０μ九としてコイル
を１８回巻くことができ、これを動作させると、前述し
に従来の浮上式薄膜ヘッドに比べてインダクタンスあた
りの出力がａｅｔＢ向上した。
を１８回巻くことができ、これを動作させると、前述し
に従来の浮上式薄膜ヘッドに比べてインダクタンスあた
りの出力がａｅｔＢ向上した。
また、磁性膜の特性劣化も検出できなかった。
第６図は、本発明の他の実施例に係るスライｆ−４Ｅよ
び磁気コア部の構造を示すものであって、同図（−）は
その縦断面図、同図（４）はその正面図であり、Ｍ５図
と対応する部分には同一の符号をつけている。本実施例
が前記実施例と異なる点は、磁気ディスクとの対向面Ａ
に対する巻線加工用切込みの角度である。すなわち、前
記実施例では、磁気ディスクとの対向面ＡＫ対して一定
の深さを有する巻線加工用切込み２１を設けてありたが
、本実施例においては、該対向面Ａに対して約３０ア角
度を有する巻線加工用切込み２１を設けである。この角
度は３０に限定されるものではないが、本実施のよ５１
Ｃ巻線加工用切込み量を小さくしであると、機械的強度
を損なうことなくスライダーを薄くできるので、スライ
ダーの軽量化がはかれ、応答性をより向上させることが
可能となる。
び磁気コア部の構造を示すものであって、同図（−）は
その縦断面図、同図（４）はその正面図であり、Ｍ５図
と対応する部分には同一の符号をつけている。本実施例
が前記実施例と異なる点は、磁気ディスクとの対向面Ａ
に対する巻線加工用切込みの角度である。すなわち、前
記実施例では、磁気ディスクとの対向面ＡＫ対して一定
の深さを有する巻線加工用切込み２１を設けてありたが
、本実施例においては、該対向面Ａに対して約３０ア角
度を有する巻線加工用切込み２１を設けである。この角
度は３０に限定されるものではないが、本実施のよ５１
Ｃ巻線加工用切込み量を小さくしであると、機械的強度
を損なうことなくスライダーを薄くできるので、スライ
ダーの軽量化がはかれ、応答性をより向上させることが
可能となる。
なお、上述した実施例においては、磁性膜としてセンダ
ストを、ギヤッグスベーナーとしてＳ１鴨等を用い、所
定膜厚に形成した場盆について説明したが、本発明はこ
れら材質や膜厚に限定されるものではない。
ストを、ギヤッグスベーナーとしてＳ１鴨等を用い、所
定膜厚に形成した場盆について説明したが、本発明はこ
れら材質や膜厚に限定されるものではない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本−Ａ明によれば、コイルを巷巌
屋としたので製造過程が藺単になり、かつ磁気コア部形
成時のコア特性劣化がなくなり、また、スライダーに巻
線加工用切込みを設けたのでコイルの巻き数が増加して
出刃が増大し、Ｐｒａ８ａ従米茂術の欠点を除いて優れ
た機能の浮上式４膜ヘツドを提供することができる。
屋としたので製造過程が藺単になり、かつ磁気コア部形
成時のコア特性劣化がなくなり、また、スライダーに巻
線加工用切込みを設けたのでコイルの巻き数が増加して
出刃が増大し、Ｐｒａ８ａ従米茂術の欠点を除いて優れ
た機能の浮上式４膜ヘツドを提供することができる。
ｇ１図は磁気コア部の４映化がなされていない従来の浮
上式ヘッドの斜視図、第２図は従来の浮上式ｇ膜ヘッド
の斜視図、第３図は第２図のα−α線断面図、５ｇ４図
（αＪ〜（へ）は本発明の浮上式薄膜ヘッドを装造する
際の工程図、第５図は本発明の一部り例に詠るスライダ
ーおよび磁気コア部の構造を示し、同図（りはその縦断
面図、同図（４）はその正面図、４６図は本発明の他の
実施例に係るスライダーおよび磁気コア部の構造を示し
、同図（ａＪはその縦断面図、同図（４）はその正面図
゛である。 １１．１５−・・非磁性基板 １２．１７・・・センダスト膜 １４．１８・・・ギャップスペーサ− １６・・・巻線用溝 ２１・・・巻線加工用切込み 第 １ 口 第 ２ 目 第 ３ ｎ 第４凶 第 ４ 口 第４国
上式ヘッドの斜視図、第２図は従来の浮上式ｇ膜ヘッド
の斜視図、第３図は第２図のα−α線断面図、５ｇ４図
（αＪ〜（へ）は本発明の浮上式薄膜ヘッドを装造する
際の工程図、第５図は本発明の一部り例に詠るスライダ
ーおよび磁気コア部の構造を示し、同図（りはその縦断
面図、同図（４）はその正面図、４６図は本発明の他の
実施例に係るスライダーおよび磁気コア部の構造を示し
、同図（ａＪはその縦断面図、同図（４）はその正面図
゛である。 １１．１５−・・非磁性基板 １２．１７・・・センダスト膜 １４．１８・・・ギャップスペーサ− １６・・・巻線用溝 ２１・・・巻線加工用切込み 第 １ 口 第 ２ 目 第 ３ ｎ 第４凶 第 ４ 口 第４国
Claims (1)
- スライダーと、薄膜化した磁気コア部と、コイルとを備
えた浮上式薄膜ヘッドにおいて、少なくとも一方に巻線
用溝を設けた一対の非磁性基板上にそれぞれ磁性膜を形
成し、該一対の磁性膜をギャップスペーサーを介して接
合することにより前記磁気コア部をなすと共に、前記非
磁性基板が前記スライダーを兼ね、該スライダーの磁気
ディスクとの対向面側に前記巻線用溝を臨む巻線加工用
切込みを設けたことを特徴とする浮上式薄膜ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410284A JPS6194210A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 浮上式薄膜ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410284A JPS6194210A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 浮上式薄膜ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194210A true JPS6194210A (ja) | 1986-05-13 |
Family
ID=16650260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21410284A Pending JPS6194210A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 浮上式薄膜ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6194210A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02162509A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH04103363U (ja) * | 1991-01-29 | 1992-09-07 | ミツミ電機株式会社 | 磁気ヘツド |
| US5245888A (en) * | 1991-03-18 | 1993-09-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Camshaft for internal combustion engines |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP21410284A patent/JPS6194210A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02162509A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH04103363U (ja) * | 1991-01-29 | 1992-09-07 | ミツミ電機株式会社 | 磁気ヘツド |
| US5245888A (en) * | 1991-03-18 | 1993-09-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Camshaft for internal combustion engines |
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