JP2502299B2 - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JP2502299B2 JP2502299B2 JP1192587A JP1192587A JP2502299B2 JP 2502299 B2 JP2502299 B2 JP 2502299B2 JP 1192587 A JP1192587 A JP 1192587A JP 1192587 A JP1192587 A JP 1192587A JP 2502299 B2 JP2502299 B2 JP 2502299B2
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- head core
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- head
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTR装置等に使用されるバルク型磁気ヘッド
の製造方法に関し、特に接合一体化する一対のヘッドコ
ア母材の接合面にギャップスペーサとなる非磁性体薄膜
を形成する方法に関するものである。
の製造方法に関し、特に接合一体化する一対のヘッドコ
ア母材の接合面にギャップスペーサとなる非磁性体薄膜
を形成する方法に関するものである。
従来の技術 例えば、バルク型磁気ヘッドの一例を第５図及び第６
図を参照しながら説明する。同図において、（１）は単
結晶フェライト等の強磁性体からなるバルク型コアチッ
プで、一対のコア（２）（３）をガラス（４）及び
（６）（６）で接合一体化したものである。上記コアチ
ップ（１）の頂端部では、コア（２）（３）の接合面間
にギャップスペーサとなるSiO2等の非磁性体薄膜（５）
を介在させて磁気ギャップｇが形成され、この磁気ギャ
ップｇをガラス（６）（６）でその両側方から保護す
る。また、コア（２）（３）の外側面に形成した巻線係
止溝（７）（８）と、コア（３）の内側面に凹溝を形成
したコア（２）（３）の接合一体化により設けられた巻
線挿通穴（９）とを利用してコア（２）（３）にコイル
を形成するための線材（10）を所定ターンずつ巻回す
る。
図を参照しながら説明する。同図において、（１）は単
結晶フェライト等の強磁性体からなるバルク型コアチッ
プで、一対のコア（２）（３）をガラス（４）及び
（６）（６）で接合一体化したものである。上記コアチ
ップ（１）の頂端部では、コア（２）（３）の接合面間
にギャップスペーサとなるSiO2等の非磁性体薄膜（５）
を介在させて磁気ギャップｇが形成され、この磁気ギャ
ップｇをガラス（６）（６）でその両側方から保護す
る。また、コア（２）（３）の外側面に形成した巻線係
止溝（７）（８）と、コア（３）の内側面に凹溝を形成
したコア（２）（３）の接合一体化により設けられた巻
線挿通穴（９）とを利用してコア（２）（３）にコイル
を形成するための線材（10）を所定ターンずつ巻回す
る。
次に上記磁気ヘッドの製造方法の従来例を第７図
（ａ）〜（ｅ）乃至第９図に示す製造工程に基づいて説
明する。まず第７図（ａ）に示すように鏡面仕上げされ
た一対の直方体形状のヘッドコア母材（11）（12）を用
意する。そして第７図（ｂ）に示すように一方のヘッド
コア母材（11）の内方側面にその長手方向に沿ってＶ溝
（13）を、且つ、外方側面に巻線係止溝（14）を切削加
工する。また他方のヘッドコア母材（12）の外方及び内
方側面にその長手方向に沿って巻線係止溝及び凹溝（1
5）（16）を切削加工する。次に上記ヘッドコア母材（1
1）（12）の接合面の内方エッジ部に、短手方向に沿っ
て所定のトラック幅を残して複数のトラック溝（17）
（17）…を切削形成する。そして第７図（ｃ）に示すよ
うにこのヘッドコア母材（11）（12）のトラック溝（1
7）（17）…及びＶ溝（13）にガラス（18）（18）…（1
9）をモールドする。更にこのガラスモールドされたヘ
ッドコア母材（11）（12）の接合面を鏡面加工し、その
接合面の上下縁部のみにギャップスペーサとなるSiO2等
の非磁性体薄膜（20）（21）を形成する。この非磁性体
薄膜（20）（21）の形成は、第８図に示すように、ヘッ
ドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁部を除く部
分、即ち中央部をマスク（22）（22）で被覆する。そし
てこの状態でSiO2をスパッタリングすることにより行わ
れる。その後第７図（ｄ）及び第９図に示すようにヘッ
ドコア母材（11）（12）の接合面を突き合わせ、ヘッド
コア母材（11）（12）の加熱により、モールドしたガラ
ス（18）（18）…（19）を溶融させ、ヘッドコア母材
（11）（12）の接合面間に形成された間隙Ｇに浸透させ
てヘッドコア母材（11）（12）を接合一体化し、その頂
端部に磁気ギャップｇを形成する。次に第７図（ｅ）に
示すように上記ヘッドコア母材（11）（12）の頂端部を
曲面研磨加工し、更に図示の鎖線（ｌ）（ｌ）…で示す
ようにヘッドコア母材（11）（12）の短手方向に対して
アジマス角度だけ傾斜した方向にヘッドコア母材（11）
（12）を所定の厚さ毎にスライスし、更にラップ仕上げ
及び巻線作業を経て第５図及び第６図に示す磁気ヘッド
を得る。
（ａ）〜（ｅ）乃至第９図に示す製造工程に基づいて説
明する。まず第７図（ａ）に示すように鏡面仕上げされ
た一対の直方体形状のヘッドコア母材（11）（12）を用
意する。そして第７図（ｂ）に示すように一方のヘッド
コア母材（11）の内方側面にその長手方向に沿ってＶ溝
（13）を、且つ、外方側面に巻線係止溝（14）を切削加
工する。また他方のヘッドコア母材（12）の外方及び内
方側面にその長手方向に沿って巻線係止溝及び凹溝（1
5）（16）を切削加工する。次に上記ヘッドコア母材（1
1）（12）の接合面の内方エッジ部に、短手方向に沿っ
て所定のトラック幅を残して複数のトラック溝（17）
（17）…を切削形成する。そして第７図（ｃ）に示すよ
うにこのヘッドコア母材（11）（12）のトラック溝（1
7）（17）…及びＶ溝（13）にガラス（18）（18）…（1
9）をモールドする。更にこのガラスモールドされたヘ
ッドコア母材（11）（12）の接合面を鏡面加工し、その
接合面の上下縁部のみにギャップスペーサとなるSiO2等
の非磁性体薄膜（20）（21）を形成する。この非磁性体
薄膜（20）（21）の形成は、第８図に示すように、ヘッ
ドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁部を除く部
分、即ち中央部をマスク（22）（22）で被覆する。そし
てこの状態でSiO2をスパッタリングすることにより行わ
れる。その後第７図（ｄ）及び第９図に示すようにヘッ
ドコア母材（11）（12）の接合面を突き合わせ、ヘッド
コア母材（11）（12）の加熱により、モールドしたガラ
ス（18）（18）…（19）を溶融させ、ヘッドコア母材
（11）（12）の接合面間に形成された間隙Ｇに浸透させ
てヘッドコア母材（11）（12）を接合一体化し、その頂
端部に磁気ギャップｇを形成する。次に第７図（ｅ）に
示すように上記ヘッドコア母材（11）（12）の頂端部を
曲面研磨加工し、更に図示の鎖線（ｌ）（ｌ）…で示す
ようにヘッドコア母材（11）（12）の短手方向に対して
アジマス角度だけ傾斜した方向にヘッドコア母材（11）
（12）を所定の厚さ毎にスライスし、更にラップ仕上げ
及び巻線作業を経て第５図及び第６図に示す磁気ヘッド
を得る。
発明が解決しようとする問題点 ところで、前述した従来の磁気ヘッドの製造方法で
は、ギャップスペーサとなる非磁性体薄膜（20）（21）
をヘッドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁部のみ
に形成してその接合面を突き合わせ接合一体化してい
る。上記ヘッドコア母材（11）（12）の接合時、ガラス
のフェライトに対するぬれ性が悪いため、ガラス（18）
（18）…（19）がヘッドコア母材（11）（12）の接合面
間に形成された間隙Ｇの全範囲に亘って溶出し難い。そ
の結果、上記ヘッドコア母材（11）（12）の接着強度が
大幅に低下するという問題点があった。
は、ギャップスペーサとなる非磁性体薄膜（20）（21）
をヘッドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁部のみ
に形成してその接合面を突き合わせ接合一体化してい
る。上記ヘッドコア母材（11）（12）の接合時、ガラス
のフェライトに対するぬれ性が悪いため、ガラス（18）
（18）…（19）がヘッドコア母材（11）（12）の接合面
間に形成された間隙Ｇの全範囲に亘って溶出し難い。そ
の結果、上記ヘッドコア母材（11）（12）の接着強度が
大幅に低下するという問題点があった。
問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点に鑑みて提案されたもので、強磁
性体からなる一対のヘッドコア母材の接合面にギャップ
スペーサとなる非磁性体薄膜を、その接合面の上下縁部
よりも中央部で低くなるように段差を設けて被着形成し
た後、上記ヘッドコア母材の接合面を突き合わせ、ガラ
スにて接合一体化したことにより前記問題点を解決した
磁気ヘッドの製造方法である。
性体からなる一対のヘッドコア母材の接合面にギャップ
スペーサとなる非磁性体薄膜を、その接合面の上下縁部
よりも中央部で低くなるように段差を設けて被着形成し
た後、上記ヘッドコア母材の接合面を突き合わせ、ガラ
スにて接合一体化したことにより前記問題点を解決した
磁気ヘッドの製造方法である。
作用 本発明方法によれば、ヘッドコア母材の接合面の中央
部にも非磁性体薄膜が存在するので、上記ヘッドコア母
材の接合時、接合面の上下縁部にあるガラスが中央部に
向かって浸透し易くなり、ヘッドコア母材の接合状態の
改善が図れる。
部にも非磁性体薄膜が存在するので、上記ヘッドコア母
材の接合時、接合面の上下縁部にあるガラスが中央部に
向かって浸透し易くなり、ヘッドコア母材の接合状態の
改善が図れる。
実施例 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の実施例を第１図
乃至第４図を参照しながら説明する。尚、第５図乃至第
９図と同一部分には同一参照符号を付してその説明は省
略する。
乃至第４図を参照しながら説明する。尚、第５図乃至第
９図と同一部分には同一参照符号を付してその説明は省
略する。
まず第７図（ａ）〜（ｃ）に示す従来方法と同様にヘ
ッドコア母材（11）（12）の内外方側面にＶ溝、巻線係
止溝及び凹溝（13）〜（16）を、またその内方エッジ部
に複数のトラック溝（17）（17）…を切削加工する。更
に上記ヘッドコア母材（11）（12）のトラック溝（17）
（17）…及びＶ溝（13）にガラス（18）（18）…（19）
をモールドした後、ヘッドコア母材（11）（12）の接合
面を鏡面加工する。
ッドコア母材（11）（12）の内外方側面にＶ溝、巻線係
止溝及び凹溝（13）〜（16）を、またその内方エッジ部
に複数のトラック溝（17）（17）…を切削加工する。更
に上記ヘッドコア母材（11）（12）のトラック溝（17）
（17）…及びＶ溝（13）にガラス（18）（18）…（19）
をモールドした後、ヘッドコア母材（11）（12）の接合
面を鏡面加工する。
本発明方法の特徴は、次の非磁性体薄膜の形成にあ
り、前記ヘッドコア母材（11）（12）の接合面にギャッ
プスペーサとなる非磁性体薄膜を、その接合面の上下縁
部よりも中央部で低くなるように段差を設けて被着形成
する。
り、前記ヘッドコア母材（11）（12）の接合面にギャッ
プスペーサとなる非磁性体薄膜を、その接合面の上下縁
部よりも中央部で低くなるように段差を設けて被着形成
する。
第１図及び第２図に示す実施例では、まず第１図に示
すようにヘッドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁
部を除く部分、即ち中央部を、スリットか或いは格子を
有するか、又はメッシュ状のマスク（23）（23）で被覆
した状態でSiO2をスパッタリングする。これにより上記
マスク（23）（23）をSiO2が若干量透過するため、接合
面の全面に亘って非磁性体薄膜（20）（21）（24）を被
着形成する。この時、上記接合面の上下縁部には従来と
同様ギャップスペーサとなり得る厚みの非磁性体薄膜
（20）（21）を形成し、その中央部には上下縁部よりも
膜厚の薄い非磁性体薄膜（24）を形成してこの非磁性体
薄膜（20）（21）（24）表面の上下縁部と中央部との間
で段差（Ａ）（Ａ）を設ける。その後、第２図に示すよ
うにヘッドコア母材（11）（12）の接合面を突き合わせ
て接合一体化する。
すようにヘッドコア母材（11）（12）の接合面の上下縁
部を除く部分、即ち中央部を、スリットか或いは格子を
有するか、又はメッシュ状のマスク（23）（23）で被覆
した状態でSiO2をスパッタリングする。これにより上記
マスク（23）（23）をSiO2が若干量透過するため、接合
面の全面に亘って非磁性体薄膜（20）（21）（24）を被
着形成する。この時、上記接合面の上下縁部には従来と
同様ギャップスペーサとなり得る厚みの非磁性体薄膜
（20）（21）を形成し、その中央部には上下縁部よりも
膜厚の薄い非磁性体薄膜（24）を形成してこの非磁性体
薄膜（20）（21）（24）表面の上下縁部と中央部との間
で段差（Ａ）（Ａ）を設ける。その後、第２図に示すよ
うにヘッドコア母材（11）（12）の接合面を突き合わせ
て接合一体化する。
また第３図及び第４図に示す他の実施例では、第３図
に示すように例えばガラスモールド後、接合面の中央部
にエッチング等で凹溝（25）（25）を予め形成したヘッ
ドコア母材（11）（12）を用意する。そして前述した実
施例とは異なり、まずマスク（23）（23）を用いずに上
記ヘッドコア母材（11）（12）の接合面の全面にSiO2を
スパッタリングして非磁性体薄膜（20）（21）（26）を
被着形成する。この時、接合面の上下縁部と中央部とで
は非磁性体薄膜（20）（21）（26）の膜厚が同一である
が、ヘッドコア母材（11）（12）の中央部に凹溝（25）
（25）を設けているため、上記非磁性体薄膜（20）（2
1）（26）の表面の上下縁部と中央部との間で前記実施
例と同一な段差（Ａ）（Ａ）ができる。その後第４図に
示すようにヘッドコア母材（11）（12）の接合面を突き
合わせて接合一体化する。
に示すように例えばガラスモールド後、接合面の中央部
にエッチング等で凹溝（25）（25）を予め形成したヘッ
ドコア母材（11）（12）を用意する。そして前述した実
施例とは異なり、まずマスク（23）（23）を用いずに上
記ヘッドコア母材（11）（12）の接合面の全面にSiO2を
スパッタリングして非磁性体薄膜（20）（21）（26）を
被着形成する。この時、接合面の上下縁部と中央部とで
は非磁性体薄膜（20）（21）（26）の膜厚が同一である
が、ヘッドコア母材（11）（12）の中央部に凹溝（25）
（25）を設けているため、上記非磁性体薄膜（20）（2
1）（26）の表面の上下縁部と中央部との間で前記実施
例と同一な段差（Ａ）（Ａ）ができる。その後第４図に
示すようにヘッドコア母材（11）（12）の接合面を突き
合わせて接合一体化する。
上述した二つの実施例におけるヘッドコア母材の突合
わせ時、第２図及び第４図に示すようにヘッドコア母材
（11）（12）の接合面中央部間に形成された間隙Ｇ′に
非磁性体薄膜（24）（26）が存在する。従って上記ヘッ
ドコア母材（11）（12）加熱による接合時、ガラスのSi
O2に対するぬれ性が良いため、モールドしたガラス（1
8）（18）…（19）が非磁性体薄膜（24）（26）に浸透
して前記間隙Ｇ′の全範囲に亘って溶出し易くなり、ヘ
ッドコア母材（11）（12）を強固に接着する。その後、
従来方法と同様にヘッドコア母材（11）（12）を曲面研
磨及びスライスして磁気ヘッドコアを得る。
わせ時、第２図及び第４図に示すようにヘッドコア母材
（11）（12）の接合面中央部間に形成された間隙Ｇ′に
非磁性体薄膜（24）（26）が存在する。従って上記ヘッ
ドコア母材（11）（12）加熱による接合時、ガラスのSi
O2に対するぬれ性が良いため、モールドしたガラス（1
8）（18）…（19）が非磁性体薄膜（24）（26）に浸透
して前記間隙Ｇ′の全範囲に亘って溶出し易くなり、ヘ
ッドコア母材（11）（12）を強固に接着する。その後、
従来方法と同様にヘッドコア母材（11）（12）を曲面研
磨及びスライスして磁気ヘッドコアを得る。
尚、第３図及び第４図に示す実施例ではマスクを用い
ないため、SiO2のスパッタリング時、マスクを使用した
場合に生じるマスクの影でギャップスペーサとなる接合
面上下縁部の非磁性体薄膜（20）（21）の平坦部分が狭
くなるおそれがない。従って非磁性体薄膜（20）（21）
の平坦部を充分広く確保することができ、磁気ギャップ
ｇのギャップ長の精度向上が図れる利点もある。
ないため、SiO2のスパッタリング時、マスクを使用した
場合に生じるマスクの影でギャップスペーサとなる接合
面上下縁部の非磁性体薄膜（20）（21）の平坦部分が狭
くなるおそれがない。従って非磁性体薄膜（20）（21）
の平坦部を充分広く確保することができ、磁気ギャップ
ｇのギャップ長の精度向上が図れる利点もある。
発明の効果 本発明方法によれば、ヘッドコア母材の接合面中央部
間に非磁性体薄膜が存在するため、その間隙の全範囲に
亘ってガラスが浸透し易くなってヘッドコア母材の接着
強度が大幅に向上し、信頼性の高い良品質の磁気ヘッド
を提供できる。
間に非磁性体薄膜が存在するため、その間隙の全範囲に
亘ってガラスが浸透し易くなってヘッドコア母材の接着
強度が大幅に向上し、信頼性の高い良品質の磁気ヘッド
を提供できる。
第１図及び第２図は本発明方法の一実施例を説明するた
めのヘッドコア母材を示す各断面図、第３図及び第４図
は本発明方法の他の実施例を説明するためのヘッドコア
母材を示す各断面図である。 第５図はバルク型磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第６
図は第５図の一部断面部分を含む正面図、第７図（ａ）
〜（ｅ）は磁気ヘッドの製造工程を説明するためのヘッ
ドコア母材を示す各斜視図、第８図及び第９図は磁気ヘ
ッドの製造方法の従来例を説明するためのヘッドコア母
材を示す各断面図である。 （11）（12）……ヘッドコア母材、 （20）（21）（24）（26）……非磁性体薄膜、 （18）（19）……ガラス、 （Ａ）……段差。
めのヘッドコア母材を示す各断面図、第３図及び第４図
は本発明方法の他の実施例を説明するためのヘッドコア
母材を示す各断面図である。 第５図はバルク型磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第６
図は第５図の一部断面部分を含む正面図、第７図（ａ）
〜（ｅ）は磁気ヘッドの製造工程を説明するためのヘッ
ドコア母材を示す各斜視図、第８図及び第９図は磁気ヘ
ッドの製造方法の従来例を説明するためのヘッドコア母
材を示す各断面図である。 （11）（12）……ヘッドコア母材、 （20）（21）（24）（26）……非磁性体薄膜、 （18）（19）……ガラス、 （Ａ）……段差。
Claims (1)
- 【請求項１】強磁性体からなる一対のヘッドコア母材の
接合面にギャップスペーサとなる非磁性体薄膜を、その
接合面の上下縁部よりも中央部で低くなるように段差を
設けて被着形成した後、上記ヘッドコア母材の接合面を
突き合わせ、ガラスにて接合一体化したことを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1192587A JP2502299B2 (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1192587A JP2502299B2 (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63179411A JPS63179411A (ja) | 1988-07-23 |
| JP2502299B2 true JP2502299B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=11791260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1192587A Expired - Lifetime JP2502299B2 (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502299B2 (ja) |
-
1987
- 1987-01-20 JP JP1192587A patent/JP2502299B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63179411A (ja) | 1988-07-23 |
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