JPS60202506A - Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS60202506A JPS60202506A JP5921584A JP5921584A JPS60202506A JP S60202506 A JPS60202506 A JP S60202506A JP 5921584 A JP5921584 A JP 5921584A JP 5921584 A JP5921584 A JP 5921584A JP S60202506 A JPS60202506 A JP S60202506A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高保磁力磁気媒体に対し、すぐれた性能を発
揮する狭トラツクのＶＴＲ用磁気ヘッドを精度良くかつ
容易に製作する製造方法に関する。
揮する狭トラツクのＶＴＲ用磁気ヘッドを精度良くかつ
容易に製作する製造方法に関する。
（従来技術）
ＶＴＲ用磁気記録再生用のヘッドにおいては、近年の記
録密度の向上に伴ない、例えば第１図に示すように、フ
ェライト等でなるコアｌａ、ｌｂの先端部両側を溶着ガ
ラス２で溶着することにより、トラック幅Ｗを小さくす
ることが行なわれている。
録密度の向上に伴ない、例えば第１図に示すように、フ
ェライト等でなるコアｌａ、ｌｂの先端部両側を溶着ガ
ラス２で溶着することにより、トラック幅Ｗを小さくす
ることが行なわれている。
このような磁気ヘッドは、第２図に示すように、コアの
素材となるブロックＩＡ、ＩＢの先端部に溝４Ａ 、４
Ｂを設けて溶着ガラス５Ａ 、 ５Ｂを充填した後、該
充填面を含む対向面を鏡面に仕上げた後、ギャップ材３
Ａ、３Ｂを被着し、ギャップ材３Ａ、３Ｂの溶着ガラス
５Ａ、５Ｂを充填した部分を除去して両ブロックＩＡ、
１Ｂを重ね合わせ、加熱して溶着ガラス５Ａ、５Ｂを互
いに溶融させることにより、両ブロックＩＡ、１Ｂを結
合し、その後溶着ガラスの充填面をテープ摺動面に研摩
し、線６に沿って切断することにより製造している。
素材となるブロックＩＡ、ＩＢの先端部に溝４Ａ 、４
Ｂを設けて溶着ガラス５Ａ 、 ５Ｂを充填した後、該
充填面を含む対向面を鏡面に仕上げた後、ギャップ材３
Ａ、３Ｂを被着し、ギャップ材３Ａ、３Ｂの溶着ガラス
５Ａ、５Ｂを充填した部分を除去して両ブロックＩＡ、
１Ｂを重ね合わせ、加熱して溶着ガラス５Ａ、５Ｂを互
いに溶融させることにより、両ブロックＩＡ、１Ｂを結
合し、その後溶着ガラスの充填面をテープ摺動面に研摩
し、線６に沿って切断することにより製造している。
このような従来の製造方法によると、ブロックＩＡ、Ｉ
Ｂを突合わせて溶着ガラス５Ａ、５Ｂにより結合してい
るので、第３図に示すように、先端部でＧで示すような
トラックずれや、ギヤ”／ブ幅の広がりを生じることが
あり、高精度の磁気ヘッドを得ることが難しいという問
題点がある。
Ｂを突合わせて溶着ガラス５Ａ、５Ｂにより結合してい
るので、第３図に示すように、先端部でＧで示すような
トラックずれや、ギヤ”／ブ幅の広がりを生じることが
あり、高精度の磁気ヘッドを得ることが難しいという問
題点がある。
また、コアｌａ、ｌｂの尾端側にもギャップ（いわゆる
バックキャップ）が生じて磁気特性が低下するという問
題点がある。また、溶融ガラス５Ａ、５Ｂを２度溶かす
必要があるので、結晶化点以上に加熱すると結晶化して
硬度の大きいものが得られる結晶化ガラスを接着剤とし
て用いることができず、硬度の低いガラスしか用いるこ
とはできないため、テープ摺動面が摩耗しやすいという
問題点もある。
バックキャップ）が生じて磁気特性が低下するという問
題点がある。また、溶融ガラス５Ａ、５Ｂを２度溶かす
必要があるので、結晶化点以上に加熱すると結晶化して
硬度の大きいものが得られる結晶化ガラスを接着剤とし
て用いることができず、硬度の低いガラスしか用いるこ
とはできないため、テープ摺動面が摩耗しやすいという
問題点もある。
（発明の目的）
本発明は、上述の点に鑑み、トラックずれやギャップの
広がりを生じることがなく、かつパックギャップが生じ
るおそれのないＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることを目的とする。
広がりを生じることがなく、かつパックギャップが生じ
るおそれのないＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることを目的とする。
（発明の構成）
この目的を達成するため、本発明による第１の方法は、
少なくとも一方に巻線窓用溝を有する２つ°のブロック
を少なくとも先端側で接着剤により結合することにより
磁気ヘッドを得る製造方法において、一方のブロックの
対向面に、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁束密度で高
透磁率の第１の金属磁性薄膜を形成する工程と、該一方
のブロックに巻線窓形成部材を装着して接着剤により固
定する工程と、非磁性体でなるギャップ形成用薄膜を、
前記第１の金属磁性薄膜上のブロック先端側となる部分
、および前記巻線窓形成部材上の少なくとも一部にわた
って形成する工程と、該ギャップ形成用薄膜上、および
該ギャップ形成用薄膜が被着されていない前記第１の金
属磁性薄膜と前記巻線窓形成部材上に、薄膜形成技術を
用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の第２の金属磁性薄
膜を形成する工程と、該第２の金属磁性薄膜、あるいは
該薄膜とその上に形成される保護膜、前記ギャップ形成
用薄膜、前記第１の金属磁性薄膜および前記ブロックに
わたって複数個のトラック形成溝を切削加工する工程と
、前記第２の金属磁性薄膜あるいは前記保護膜に対して
、前記とは別のブロックを重ねて該ブロックと前記トラ
ック形成溝とにより形成される凹部に接着剤を充填して
両ブロックを結合する工程と、該充填面をトラックギャ
ップが露出するように研摩すると共に結合されたブロッ
クを切断して複数個のへラドチップを得る工程とを有す
ることを特徴とする。
少なくとも一方に巻線窓用溝を有する２つ°のブロック
を少なくとも先端側で接着剤により結合することにより
磁気ヘッドを得る製造方法において、一方のブロックの
対向面に、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁束密度で高
透磁率の第１の金属磁性薄膜を形成する工程と、該一方
のブロックに巻線窓形成部材を装着して接着剤により固
定する工程と、非磁性体でなるギャップ形成用薄膜を、
前記第１の金属磁性薄膜上のブロック先端側となる部分
、および前記巻線窓形成部材上の少なくとも一部にわた
って形成する工程と、該ギャップ形成用薄膜上、および
該ギャップ形成用薄膜が被着されていない前記第１の金
属磁性薄膜と前記巻線窓形成部材上に、薄膜形成技術を
用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の第２の金属磁性薄
膜を形成する工程と、該第２の金属磁性薄膜、あるいは
該薄膜とその上に形成される保護膜、前記ギャップ形成
用薄膜、前記第１の金属磁性薄膜および前記ブロックに
わたって複数個のトラック形成溝を切削加工する工程と
、前記第２の金属磁性薄膜あるいは前記保護膜に対して
、前記とは別のブロックを重ねて該ブロックと前記トラ
ック形成溝とにより形成される凹部に接着剤を充填して
両ブロックを結合する工程と、該充填面をトラックギャ
ップが露出するように研摩すると共に結合されたブロッ
クを切断して複数個のへラドチップを得る工程とを有す
ることを特徴とする。
また、本発明による第２の方法は、前記第２の金属磁性
薄膜を形成する場合、ブロックの先端部に所定の間隔を
有してトラック幅形成用金属磁性薄膜の非形成部を設け
、前記第２の金属磁性薄膜に対して、接着剤充填用欠除
部を有するブロックを重ねて該ブロックの前記欠除部と
前記金属磁性薄膜の非形成部とにより形成される凹部に
接着剤を充填して両ブロックを結合するようにしたこと
を特徴とするものである。
薄膜を形成する場合、ブロックの先端部に所定の間隔を
有してトラック幅形成用金属磁性薄膜の非形成部を設け
、前記第２の金属磁性薄膜に対して、接着剤充填用欠除
部を有するブロックを重ねて該ブロックの前記欠除部と
前記金属磁性薄膜の非形成部とにより形成される凹部に
接着剤を充填して両ブロックを結合するようにしたこと
を特徴とするものである。
（実施例）
以下本発明の詳細を図面に示す実施例により説明する。
第４図は前記本発明の第１の方法の一実施例を説明する
工程図であり、まず（Ａ）に示すように、直方体状の非
磁性体、またはフェライト等の磁性体よりなるブロック
６の１つの面６ａに巻線窓となる溝６ｂをグイシングン
ー等により加工すると共に、該面６ａを鏡面に加工する
。次に（Ｂ）に示すように、スパッタ、蒸着、イオンブ
レーティング等の薄膜形成技術を用いて、前記鏡面部６
ａおよび溝６ｂ部の全域に高飽和磁束密度で゛高透磁率
の非晶質磁性合金（Ｆｅ−Ｇｏ −Ｂ −Ｓｉ系、Ｇｏ
−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｔｉ系、Ｇｏ−Ｔｉ−Ｎｂ系等）でな
る第１の金属磁性画＠７を被着する０次に（Ｃ）に示す
ように、溝６ｂに硬質樹脂や非磁性金属等の非磁性体で
なる巻線窓形成部材としての中空パイプ８を嵌め込み、
（Ｄ）に示すように１、溶着ガラ°ス等の接着剤９を用
いて該中空パイプ８をブロック６に固定する。この場合
、中空ノでイブ８は、後工程における巻線用窓として用
いられるものならば、例えば蓋状等、他の種々の形状が
採用しうる。また、該中空パイプ８等でなる巻線窓形成
部材は、鏡面部６ａよりも下に埋め込まれる必要はない
が、接着剤９がギャップ材被着部となるデップス部７ａ
にかからぬように注意することは当然のことである。
工程図であり、まず（Ａ）に示すように、直方体状の非
磁性体、またはフェライト等の磁性体よりなるブロック
６の１つの面６ａに巻線窓となる溝６ｂをグイシングン
ー等により加工すると共に、該面６ａを鏡面に加工する
。次に（Ｂ）に示すように、スパッタ、蒸着、イオンブ
レーティング等の薄膜形成技術を用いて、前記鏡面部６
ａおよび溝６ｂ部の全域に高飽和磁束密度で゛高透磁率
の非晶質磁性合金（Ｆｅ−Ｇｏ −Ｂ −Ｓｉ系、Ｇｏ
−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｔｉ系、Ｇｏ−Ｔｉ−Ｎｂ系等）でな
る第１の金属磁性画＠７を被着する０次に（Ｃ）に示す
ように、溝６ｂに硬質樹脂や非磁性金属等の非磁性体で
なる巻線窓形成部材としての中空パイプ８を嵌め込み、
（Ｄ）に示すように１、溶着ガラ°ス等の接着剤９を用
いて該中空パイプ８をブロック６に固定する。この場合
、中空ノでイブ８は、後工程における巻線用窓として用
いられるものならば、例えば蓋状等、他の種々の形状が
採用しうる。また、該中空パイプ８等でなる巻線窓形成
部材は、鏡面部６ａよりも下に埋め込まれる必要はない
が、接着剤９がギャップ材被着部となるデップス部７ａ
にかからぬように注意することは当然のことである。
次に（Ｅ）に示すように、ギャップ幅を決めるための例
えは２酸化ケイ素等の非磁性体でなるギャップ形成用薄
膜ｌＯを、前記第１の金属磁性画１１ｉ７’Ｊ：のヘッ
ド先端側となる部分（デツプス部７ａ）、および前記中
空パイプ８上の少なくとも一部にわたって、スパッタ等
の薄膜形成技術を用いて形成する。この時、該薄膜１０
が、第１の金属磁性画Ｍ７の接着剤９より後部の部分に
被着されないようにする。
えは２酸化ケイ素等の非磁性体でなるギャップ形成用薄
膜ｌＯを、前記第１の金属磁性画１１ｉ７’Ｊ：のヘッ
ド先端側となる部分（デツプス部７ａ）、および前記中
空パイプ８上の少なくとも一部にわたって、スパッタ等
の薄膜形成技術を用いて形成する。この時、該薄膜１０
が、第１の金属磁性画Ｍ７の接着剤９より後部の部分に
被着されないようにする。
その後（Ｆ）に示すように、上面全域即ち、該ギヤツブ
形成用薄膜ｌＯ上、および該ギヤツブ形成用薄１ｌ１１
１０が被着されていない前記第１の金属磁性薄膜７と前
記中空パイプ８上に、薄膜形成技術を用いて、第１の金
属磁性薄膜７と同種または異種の高飽和磁束密度で高透
磁率の第２の金属磁性薄膜１１を形成する。
形成用薄膜ｌＯ上、および該ギヤツブ形成用薄１ｌ１１
１０が被着されていない前記第１の金属磁性薄膜７と前
記中空パイプ８上に、薄膜形成技術を用いて、第１の金
属磁性薄膜７と同種または異種の高飽和磁束密度で高透
磁率の第２の金属磁性薄膜１１を形成する。
次に（Ｇ）に示すように、ブロック６のデツプス側の側
面に対し、該第２の金属磁性画１ｌｌＪ１１、前記ギヤ
ツブ形成用薄膜ｌＯ１前記第１の金属磁性薄膜７および
前記ブロック６にわたって複数個のトラック形成溝１２
を切削加工する。この工程で前記トラック幅Ｗは決定さ
れる。
面に対し、該第２の金属磁性画１ｌｌＪ１１、前記ギヤ
ツブ形成用薄膜ｌＯ１前記第１の金属磁性薄膜７および
前記ブロック６にわたって複数個のトラック形成溝１２
を切削加工する。この工程で前記トラック幅Ｗは決定さ
れる。
次に（Ｈ）に示すように、前記第２の金属磁性画９４１
１１に対して、前記とは別の非磁性体または磁性体でな
るブロック１３を重ねて該ブロック１３と前記トラック
形成溝１２とにより形成される凹部に溶着ガラス等の接
着剤１４を充填して両ブロックを結合する。
１１に対して、前記とは別の非磁性体または磁性体でな
るブロック１３を重ねて該ブロック１３と前記トラック
形成溝１２とにより形成される凹部に溶着ガラス等の接
着剤１４を充填して両ブロックを結合する。
次に（Ｉ）に示すように、該接着剤１４の充填面をトラ
ックギャップ面が露出するまで研摩してヘッドブロック
１５を作る。この場合、ブロック６．１３間の接合強度
を上げるために、１７で示すように、両ブロックが接触
する部分に沿って接合用溝を設け、後に溶着ガラス等に
より接合するようにすることも可能である０次に仮想線
１６に沿って切断すれば、（Ｊ）に示すようなヘッドチ
ップ１８を複数測置ることができる。
ックギャップ面が露出するまで研摩してヘッドブロック
１５を作る。この場合、ブロック６．１３間の接合強度
を上げるために、１７で示すように、両ブロックが接触
する部分に沿って接合用溝を設け、後に溶着ガラス等に
より接合するようにすることも可能である０次に仮想線
１６に沿って切断すれば、（Ｊ）に示すようなヘッドチ
ップ１８を複数測置ることができる。
このように、薄膜形成技術を用いて第１の金属磁性薄膜
７、非磁性体でなるギヤツブ形成用薄膜ｌＯ１第２の金
属磁性薄膜１１を積層することにより、ギャップ幅のバ
ラツキを無くすることができ、また、第１、第２の金属
磁性薄膜７，１１の先端の相互の対向部でそれぞれ形成
されるトラックが切削加工により同時に形成されるので
、トラックのずれが生じることがない、また、第１、第
２の金属磁性画１１９７，１１は後側で固着されている
ので、パックギャップが生じることがなく、磁気特性が
良好となる。また、従来のように溶着ガラスを二度溶か
す作業が必要でなくなるので、製造が容易となる。また
、溶着ガラスを接着剤１４として用いた場合には、従来
は結晶化ガラスを用いることができなかった（なぜなら
ば、結晶化ガラスは一旦結晶化すると作業温度が著るし
く高くなるため）が、本発明による場合、一度の加熱溶
゛着を行、なえば良いので、所定温度に加熱することに
よって結晶化し、硬質化する結晶化ガラスを用いること
ができ、従来の溶着ガラス２のビッカース硬度２００〜
３００に比較し、８００〜７００程度の硬度を得ること
ができ、ヘッドの耐摩耗性が向とする。
７、非磁性体でなるギヤツブ形成用薄膜ｌＯ１第２の金
属磁性薄膜１１を積層することにより、ギャップ幅のバ
ラツキを無くすることができ、また、第１、第２の金属
磁性薄膜７，１１の先端の相互の対向部でそれぞれ形成
されるトラックが切削加工により同時に形成されるので
、トラックのずれが生じることがない、また、第１、第
２の金属磁性画１１９７，１１は後側で固着されている
ので、パックギャップが生じることがなく、磁気特性が
良好となる。また、従来のように溶着ガラスを二度溶か
す作業が必要でなくなるので、製造が容易となる。また
、溶着ガラスを接着剤１４として用いた場合には、従来
は結晶化ガラスを用いることができなかった（なぜなら
ば、結晶化ガラスは一旦結晶化すると作業温度が著るし
く高くなるため）が、本発明による場合、一度の加熱溶
゛着を行、なえば良いので、所定温度に加熱することに
よって結晶化し、硬質化する結晶化ガラスを用いること
ができ、従来の溶着ガラス２のビッカース硬度２００〜
３００に比較し、８００〜７００程度の硬度を得ること
ができ、ヘッドの耐摩耗性が向とする。
第４図の実施例においては、第２の金属磁性薄膜１１に
直接別のブロック１３を結合するこつととしたが、第５
図に示すように、保護膜１９を第２の金属磁性薄膜ｌｌ
上に一体に形成して平滑に研摩するようにすることによ
り、ｗ４２の金属磁性画１１１１１に凹凸が存在するこ
とによる空隙部の発生を防止することができる。
直接別のブロック１３を結合するこつととしたが、第５
図に示すように、保護膜１９を第２の金属磁性薄膜ｌｌ
上に一体に形成して平滑に研摩するようにすることによ
り、ｗ４２の金属磁性画１１１１１に凹凸が存在するこ
とによる空隙部の発生を防止することができる。
また、第４図の実施例は、巻線窓用溝を有するブロック
６上に第１、第２の金属磁性薄膜７．１１およびギャッ
プ形成用薄膜ｌＯを積層し形成した例について示したが
、第６図に示すように、前記溝を有しない直方体状のブ
ロック２１の鏡面上に第１の金属磁性画８１２１を形成
しくＡ）、該第１の金属磁性薄膜２１上に巻線窓形成部
材としての中空パイプ２２を接着剤２３．２４（なお接
着剤２４はなくてもよい）により固定しくＢ）、次に接
着剤２４、中空パイプ２２の一部、第１の金属磁性薄膜
２１上のディ−２プ部分２１ａ上にギヤツブ形成用薄Ｍ
２５を形成しくＣ）、次に全域にわたって第２の金属磁
性画１ｌＩ２６を形成した（Ｄ）後、トラック形成溝２
７を切削加工しくＥ）、前記中空パイプ２２の部分に合
致する溝を有するブロック２８をブロック２０に重ね合
わせ、溶着ガラス等の接着剤２９を溝２７により形成さ
れる凹部に充填して接合しくＦ）、前記同様に研摩し切
断することにより、ヘッドチップを製造することができ
る。
６上に第１、第２の金属磁性薄膜７．１１およびギャッ
プ形成用薄膜ｌＯを積層し形成した例について示したが
、第６図に示すように、前記溝を有しない直方体状のブ
ロック２１の鏡面上に第１の金属磁性画８１２１を形成
しくＡ）、該第１の金属磁性薄膜２１上に巻線窓形成部
材としての中空パイプ２２を接着剤２３．２４（なお接
着剤２４はなくてもよい）により固定しくＢ）、次に接
着剤２４、中空パイプ２２の一部、第１の金属磁性薄膜
２１上のディ−２プ部分２１ａ上にギヤツブ形成用薄Ｍ
２５を形成しくＣ）、次に全域にわたって第２の金属磁
性画１ｌＩ２６を形成した（Ｄ）後、トラック形成溝２
７を切削加工しくＥ）、前記中空パイプ２２の部分に合
致する溝を有するブロック２８をブロック２０に重ね合
わせ、溶着ガラス等の接着剤２９を溝２７により形成さ
れる凹部に充填して接合しくＦ）、前記同様に研摩し切
断することにより、ヘッドチップを製造することができ
る。
本実施例によっても、第４図の実施例と同様の効果をあ
げることができる。
げることができる。
第７図は本発明の第２の方法の実施例を示す工程図であ
り、第４図における（Ａ）〜（Ｅ）までの工程は第４図
の場合と同様とし、その後、第７図（Ａ）に示すように
、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の
第２の金属磁性薄膜１１を形成する際に、メタルマスク
やフォトリングラフィ法を用いて、ブロックの先端側に
所定の間隔を有してトラック幅形成用金属磁性薄膜の非
形成部１１ａを設け、（Ｂ）に示すように、該第２の金
属磁性薄膜１１に対して、前記金属磁性薄膜の非形成部
１１ａにそれぞれ対応する複数個の欠除部３０ａを有す
る磁性体または非磁性体でなるブロック３０を、（Ｃ）
に示すように、該各欠除部３０ａがそれぞれ前記各金属
磁性薄膜の非形成部１１ａにそれぞれ対応するように重
ねて該ブロック３０の前記欠除部３０ａと前記金属磁性
薄膜の非形成部１１ａとにより形成される凹部に溶着ガ
ラス等の接着剤１４を充填して両ブロック６．３０を結
合する。その後の工程は第４図の場合と同様である。
り、第４図における（Ａ）〜（Ｅ）までの工程は第４図
の場合と同様とし、その後、第７図（Ａ）に示すように
、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の
第２の金属磁性薄膜１１を形成する際に、メタルマスク
やフォトリングラフィ法を用いて、ブロックの先端側に
所定の間隔を有してトラック幅形成用金属磁性薄膜の非
形成部１１ａを設け、（Ｂ）に示すように、該第２の金
属磁性薄膜１１に対して、前記金属磁性薄膜の非形成部
１１ａにそれぞれ対応する複数個の欠除部３０ａを有す
る磁性体または非磁性体でなるブロック３０を、（Ｃ）
に示すように、該各欠除部３０ａがそれぞれ前記各金属
磁性薄膜の非形成部１１ａにそれぞれ対応するように重
ねて該ブロック３０の前記欠除部３０ａと前記金属磁性
薄膜の非形成部１１ａとにより形成される凹部に溶着ガ
ラス等の接着剤１４を充填して両ブロック６．３０を結
合する。その後の工程は第４図の場合と同様である。
なお、ブロック３０に設ける欠除部は、第７図（Ｂ）の
仮想線３０ｂに示すように、ギャップの長子方法に長い
形状に形成してもよい。
仮想線３０ｂに示すように、ギャップの長子方法に長い
形状に形成してもよい。
このように、第２の金属磁性薄膜１１に非形成部１１ａ
を設けるようにすれば、トラック幅をより正確に設定す
ることが可能となる。また、前記ｗ４１の方法による場
合と同様の効果も上げられることは言うまでもない。ま
た、第２の金属磁性薄膜に非形成部を形成する第２の方
法は、第４図の工程の変更としてのみではなく、第６図
の方法の変更として実施することもできる。
を設けるようにすれば、トラック幅をより正確に設定す
ることが可能となる。また、前記ｗ４１の方法による場
合と同様の効果も上げられることは言うまでもない。ま
た、第２の金属磁性薄膜に非形成部を形成する第２の方
法は、第４図の工程の変更としてのみではなく、第６図
の方法の変更として実施することもできる。
（発明の効果）
以上述べたように、本発明の製造方法は、薄膜形成技術
を用いて磁性層を非磁性層を介して積層し、これらの層
を同時に切除する際、あるいは第２の金属磁性薄膜形成
時に同時にトラック幅が形成されるようにしたので、ギ
ャップ形成やトラック幅の決定に対し、従来のようなヘ
ッドブロックの突合わせによってブロック結合を行なう
方法のように、トラックずれやギャップ幅の広がりを生
じることがなく、高精度の磁気ヘッドを製作するころが
できる。また、溶着ガラスを接着剤として用いる場合に
は、従来方法によれば溶着ガラスを溶かす工程を二度設
けなければならず、かつブロックの突合わせを高精度に
行なわなければならないが、本発明の方法においては、
前記切削加工や薄膜形成によってトラック幅やギャップ
形成を行なえるので、ブロック突合わせ精度を用せず、
かつ溶着ガラスは一度溶かせば良いため、工程が簡略化
され、製作が容易化されると共に、結晶化ガラスを用い
ることができ、硬度の高い耐摩耗性に優れた磁気ヘッド
を実現することができる。また、本発明によれば、第１
、第２の金属磁性薄膜を薄膜形成技術で積層することに
より、バックギャップが発生するおそれが無く、磁気特
性が向上する。またこれらの理由から、本発明によれば
、ヘッドチップの歩留りを高めることができる。
を用いて磁性層を非磁性層を介して積層し、これらの層
を同時に切除する際、あるいは第２の金属磁性薄膜形成
時に同時にトラック幅が形成されるようにしたので、ギ
ャップ形成やトラック幅の決定に対し、従来のようなヘ
ッドブロックの突合わせによってブロック結合を行なう
方法のように、トラックずれやギャップ幅の広がりを生
じることがなく、高精度の磁気ヘッドを製作するころが
できる。また、溶着ガラスを接着剤として用いる場合に
は、従来方法によれば溶着ガラスを溶かす工程を二度設
けなければならず、かつブロックの突合わせを高精度に
行なわなければならないが、本発明の方法においては、
前記切削加工や薄膜形成によってトラック幅やギャップ
形成を行なえるので、ブロック突合わせ精度を用せず、
かつ溶着ガラスは一度溶かせば良いため、工程が簡略化
され、製作が容易化されると共に、結晶化ガラスを用い
ることができ、硬度の高い耐摩耗性に優れた磁気ヘッド
を実現することができる。また、本発明によれば、第１
、第２の金属磁性薄膜を薄膜形成技術で積層することに
より、バックギャップが発生するおそれが無く、磁気特
性が向上する。またこれらの理由から、本発明によれば
、ヘッドチップの歩留りを高めることができる。
第１図は従来の磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第２図
は従来の磁気ヘッドの製造方法を説明する斜視図、第３
図は従来方法の問題点を説明する磁気ヘッド先端部の斜
視図、第４図（Ａ）〜（Ｊ）は本発明の第１の方法の一
実施例を示す工程図、第５図は第４図の方法の変形例を
示す中間製作物の斜視図、第６図（Ａ）〜（Ｆ）は本発
明の第１の方法の他の実施例を示す工程図、第７図は本
発明の第２の方法の一実施例を示す一部工程図である。 ６．１３，２０，２８．３０・・・ブロック、７゜２１
・・・第１の金属磁性薄膜、８，２２・・・中空パイプ
、９，１４，２３，２４．２９・・・接着剤、１０．２
５・・・ギャップ形成用薄膜、１１．２６・・・第２の
金属磁性薄膜、ｌｌａ・・・非形成部、１２・・・トラ
ック形成溝、１９・・・保護膜、３０ａ、３０ｂ・・・
欠除部 特許出願人 ティーディーケイ株式会社代理人 弁理士
若田勝− 第４図 （Ｃ） （Ｄ） 第６図
は従来の磁気ヘッドの製造方法を説明する斜視図、第３
図は従来方法の問題点を説明する磁気ヘッド先端部の斜
視図、第４図（Ａ）〜（Ｊ）は本発明の第１の方法の一
実施例を示す工程図、第５図は第４図の方法の変形例を
示す中間製作物の斜視図、第６図（Ａ）〜（Ｆ）は本発
明の第１の方法の他の実施例を示す工程図、第７図は本
発明の第２の方法の一実施例を示す一部工程図である。 ６．１３，２０，２８．３０・・・ブロック、７゜２１
・・・第１の金属磁性薄膜、８，２２・・・中空パイプ
、９，１４，２３，２４．２９・・・接着剤、１０．２
５・・・ギャップ形成用薄膜、１１．２６・・・第２の
金属磁性薄膜、ｌｌａ・・・非形成部、１２・・・トラ
ック形成溝、１９・・・保護膜、３０ａ、３０ｂ・・・
欠除部 特許出願人 ティーディーケイ株式会社代理人 弁理士
若田勝− 第４図 （Ｃ） （Ｄ） 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方に巻線窓用溝を有する２つのブロッ
クを少なくとも先端側で接着剤により結合することによ
りＶＴＲ用磁気ヘッドを得る製造方法において、一方の
ブロックの対向面に、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁
束密度で高透磁率の第１の金属磁性薄膜を形成する工程
と、該一方のブロックに巻線窓形成部材を装着して接着
剤により固定する工程と、非磁性体でなるギャップ形成
用薄膜を、前記第１の金属磁性薄膜上のヘッド先端側と
なる部分、および前記巻線窓形成部材上の少なくとも一
部にわたって形成する工程と、該ギャップ形成用薄膜上
、および該ギャップ形成用薄膜が被着されていない前記
第１の金属磁性薄膜と前記巻線窓形成部材上に、薄膜形
成技術を用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の第２の金
属磁性薄膜を形成する工程と、該第２の金属磁性薄膜、
あるいは該薄膜とその上に形成される保＃ＩＩＩ、ギャ
ップ形成用薄膜、前記第１の金属磁性薄膜および前記ブ
ロックにわたって複数個のトラック形成溝を切削加工す
る工程と、前記第２の金属磁性薄膜または前記保護膜に
対して、前記とは別のブロックを重ねて該ブロックと前
記トラック形成溝とにより形成される凹部に接着剤を充
填して両ブロックを結合する工程と、該充填面をトラッ
クイヤツブが露出するように研摩すると共に結合された
ブロックを切断して複数個のへラドチップを得る工程と
を有することを特徴とするＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方
法。 ２、少なくとも一方に巻線窓用溝を有する２つのブロッ
クを少なくとも先端側で接着剤により結合することによ
りＶＴＲ用磁気ヘッドを得る製造方法において、一方の
ブロックの対向面に、薄膜形成技術を用いて、高飽和磁
束密度で高透磁率の第１の金属磁性薄膜を形成する工程
と、該−カのブロックに巻線窓形成部材を装着！て接着
剤により固定する工程と、非磁性体でなるギャップ形成
用薄膜を、前記第１の金属磁性薄膜上のヘッド先端側と
なる部分、および前記巻線窓形成部材上の少なくとも一
部にわたって形成する工程と、該ギャップ形成用薄膜上
、および該ギャップ形成用薄膜が被着されていない前記
第１の金属磁性薄膜と前記巻線窓形成部材上に、薄膜形
成技術を用いて、高飽和磁束密度で高透磁率の第２の金
属磁性薄膜を形成すると同時に、該ブロックの先端側に
所定の間隔を有してトラック幅形成用金属磁性薄膜の非
形成部を設ける工程と、前記第２の金属磁性薄膜に対し
て、接着剤充填用欠除部を有するブロックを重ねて該ブ
ロックの前記欠除部と前記金属磁性薄膜の非形成部とに
より形成される凹部に接着剤を充填して両ブロックを結
合する工程と、該充填面をトラックギャップが露出する
ように研摩すると共に結合されたブロックを切断して複
数個のへラドチップを得る工程とを有することを特徴と
するＶＴＲ用磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5921584A JPS60202506A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5921584A JPS60202506A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60202506A true JPS60202506A (ja) | 1985-10-14 |
Family
ID=13106939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5921584A Pending JPS60202506A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60202506A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62146412A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS63211110A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-02 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6478408A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5921584A patent/JPS60202506A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62146412A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS63211110A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-02 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS6478408A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
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