JPH03222109A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH03222109A JPH03222109A JP1660090A JP1660090A JPH03222109A JP H03222109 A JPH03222109 A JP H03222109A JP 1660090 A JP1660090 A JP 1660090A JP 1660090 A JP1660090 A JP 1660090A JP H03222109 A JPH03222109 A JP H03222109A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度磁気記録再生を行なうために、高透磁
率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面に形
成された磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面に形
成された磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
従来の磁気ヘッドの製造手順を第5図(a)ないし第5
図N)に基づいて以下に説明する。
図N)に基づいて以下に説明する。
先ず、第5図(a)に示すように、高透磁率を有する強
磁性酸化物材料の一方のコアブロック21に外部巻き線
用溝22とガラス充填用溝23と内部巻線用溝24とを
形成する。次いで、第5図(b)に示すように、同じく
酸化物磁性材料の他方のコアブロック25に外部巻線用
溝26とガラス充填用溝27とを形成する。
磁性酸化物材料の一方のコアブロック21に外部巻き線
用溝22とガラス充填用溝23と内部巻線用溝24とを
形成する。次いで、第5図(b)に示すように、同じく
酸化物磁性材料の他方のコアブロック25に外部巻線用
溝26とガラス充填用溝27とを形成する。
そして、上記のコアブロック21・25におけるそれぞ
れのギャップ対向面28・28を鏡面状に研磨した後、
第5図(C)及び第5図(d)に示すように、所定のト
ラック幅を得るためのトラック溝29・・・を形成する
。
れのギャップ対向面28・28を鏡面状に研磨した後、
第5図(C)及び第5図(d)に示すように、所定のト
ラック幅を得るためのトラック溝29・・・を形成する
。
次に、第5図(e)および第5図(f)に示すように、
高透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜3
0・30をスパッタ法等によりギャップ対向面28上に
形成する。その後、合金磁性材料8wl!30・30上
にギャップ材としてSiO2等の非磁性材料層を形成す
る。
高透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜3
0・30をスパッタ法等によりギャップ対向面28上に
形成する。その後、合金磁性材料8wl!30・30上
にギャップ材としてSiO2等の非磁性材料層を形成す
る。
続いて、第5図(g)に示すように、上記のコアブロッ
ク21・25同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充
填用溝23・27および内部巻線溝24と巻線溝対向面
24aとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス31
・31を載置して加熱溶着する。
ク21・25同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充
填用溝23・27および内部巻線溝24と巻線溝対向面
24aとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス31
・31を載置して加熱溶着する。
この後、第5図(h)に示すように、上記のコアブロッ
ク21・25におけるテープ摺動面32に、曲面を形成
した後、2点鎖線aに沿って切断して、第5図(i)に
示すヘッドチップ33を得る。さらに、このヘッドチッ
プ33を、第5図(j)に示すように、ヘッドベース3
4に接着した後、テープ摺動面32を研磨テープ等によ
り鏡面研磨し、巻き線35・35を施すことにより、磁
気ヘッド36を得る。
ク21・25におけるテープ摺動面32に、曲面を形成
した後、2点鎖線aに沿って切断して、第5図(i)に
示すヘッドチップ33を得る。さらに、このヘッドチッ
プ33を、第5図(j)に示すように、ヘッドベース3
4に接着した後、テープ摺動面32を研磨テープ等によ
り鏡面研磨し、巻き線35・35を施すことにより、磁
気ヘッド36を得る。
ところが、上記従来の方法により磁気ヘッドを作製する
と、第6図に示すような割れ37が発生する。また、チ
ップ切断工程において、第5図(i)に示すような、そ
の切断面の酸化物磁性材料コア21′ ・25′と合金
磁性材料薄膜30との界面にも同様の割れが発生すると
いう問題点を有している。
と、第6図に示すような割れ37が発生する。また、チ
ップ切断工程において、第5図(i)に示すような、そ
の切断面の酸化物磁性材料コア21′ ・25′と合金
磁性材料薄膜30との界面にも同様の割れが発生すると
いう問題点を有している。
これらの現象は、共に酸化物磁性材料と合金磁性材料の
熱膨張係数の差等により生じる応力が原因であることは
知られている。そこで、合金磁性材料薄膜を形成した後
にトラック溝を切削し、トラック溝部分における合金磁
性材料薄膜を除けば応力は発生しない。
熱膨張係数の差等により生じる応力が原因であることは
知られている。そこで、合金磁性材料薄膜を形成した後
にトラック溝を切削し、トラック溝部分における合金磁
性材料薄膜を除けば応力は発生しない。
しかしこの場合J第7図に示すような、ギャップ対向面
28′ ・28′上の合金磁性材料薄膜30′における
膜はがれ38が起こるという問題点を有している。
28′ ・28′上の合金磁性材料薄膜30′における
膜はがれ38が起こるという問題点を有している。
また、合金磁性材料は酸化物磁性材料に比べ溶着用ガラ
スとの接合性が悪いため、トラック溝29に合金磁性材
料薄膜30を形成した場合、ヘッドテンプ33の強度が
低下するという問題点をも併せて有している。
スとの接合性が悪いため、トラック溝29に合金磁性材
料薄膜30を形成した場合、ヘッドテンプ33の強度が
低下するという問題点をも併せて有している。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、酸化物磁性材料
の2個のコアブロックにおける対応位置に、それぞれ複
数のトランク溝を形成した後、両コアブロックのギャッ
プ対向面に合金磁性材料薄膜を形成する工程を含む磁気
ヘッドの製造方法において、合金磁性材料薄膜の形成後
に、上記トラック溝における底傾斜部分に形成された合
金磁性材料薄膜を除くことを特徴としている。
の2個のコアブロックにおける対応位置に、それぞれ複
数のトランク溝を形成した後、両コアブロックのギャッ
プ対向面に合金磁性材料薄膜を形成する工程を含む磁気
ヘッドの製造方法において、合金磁性材料薄膜の形成後
に、上記トラック溝における底傾斜部分に形成された合
金磁性材料薄膜を除くことを特徴としている。
上記の構成によれば、トラック溝における合金磁性材料
811が除かれた部分において、酸化物磁性材料と溶着
用ガラスとが直接接合するため、ヘッドチップの強度が
向上する。またへラドチップのテープ摺動面におけるチ
ップ切断面側部分およびチップ切断面に、酸化物磁性材
料と合金磁性材料薄膜との接合部が現れないため、割れ
の原因となる応力の発生を防ぎ割れを防止することが可
能となる。
811が除かれた部分において、酸化物磁性材料と溶着
用ガラスとが直接接合するため、ヘッドチップの強度が
向上する。またへラドチップのテープ摺動面におけるチ
ップ切断面側部分およびチップ切断面に、酸化物磁性材
料と合金磁性材料薄膜との接合部が現れないため、割れ
の原因となる応力の発生を防ぎ割れを防止することが可
能となる。
本発明の一実施例を第1図ないし第4図に基づいて説明
すれば以下の通りである。
すれば以下の通りである。
第2図に示すように、磁気ヘッド15は、高透磁率を有
する酸化物磁性材料からなる一対のコアト2が、これら
の酸化物磁性材料コアト2の各ギャップ対向面3・3が
向かい合うように、溶着用ガラス5により接着されてい
る。また、外部巻線用溝8と内部巻線用溝10との間お
よび外部巻線用溝9と巻線溝対向面10aとの間には、
それぞれ巻線6・6が巻回されている。
する酸化物磁性材料からなる一対のコアト2が、これら
の酸化物磁性材料コアト2の各ギャップ対向面3・3が
向かい合うように、溶着用ガラス5により接着されてい
る。また、外部巻線用溝8と内部巻線用溝10との間お
よび外部巻線用溝9と巻線溝対向面10aとの間には、
それぞれ巻線6・6が巻回されている。
また、第1図に示すように、コアト2には、所定幅を有
し、かつギャップに対し平行な面を有する突出部1a・
2aが形成されている。さらにこれらの突出部1a・2
aの端面となるギャップ対向面3・3、および突出部1
a・2aの両側面には合金磁性材料薄膜4が形成されて
いる。
し、かつギャップに対し平行な面を有する突出部1a・
2aが形成されている。さらにこれらの突出部1a・2
aの端面となるギャップ対向面3・3、および突出部1
a・2aの両側面には合金磁性材料薄膜4が形成されて
いる。
以下、上記の磁気へラド15の製造手順を説明する。
従来例と同様に、先ず、第3図(a)に示すように、高
透磁率を有する強磁性酸化物材料の一方のコアブロック
11に外部巻線用溝8とガラス充填用溝13と内部巻線
用溝10とを形成する。次いで、第3図(b)に示すよ
うに、同しく酸化物磁性材料の他方のコアブロック12
に外部巻線用溝9とガラス充填用溝■4とを形成する。
透磁率を有する強磁性酸化物材料の一方のコアブロック
11に外部巻線用溝8とガラス充填用溝13と内部巻線
用溝10とを形成する。次いで、第3図(b)に示すよ
うに、同しく酸化物磁性材料の他方のコアブロック12
に外部巻線用溝9とガラス充填用溝■4とを形成する。
そして、上記のコアブロック11・12における、それ
ぞれのギャップ対向面3・3を鏡面状に研磨した後、第
3図(C)及び第3図(d)に示すように、所定のトラ
ック幅を得るためのトランク溝16・・・を形成する。
ぞれのギャップ対向面3・3を鏡面状に研磨した後、第
3図(C)及び第3図(d)に示すように、所定のトラ
ック幅を得るためのトランク溝16・・・を形成する。
次に、第3図(e)及び第3図(f)に示すように、高
透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜4・
4をスパッタ法等によりギャップ対向面3上に形成する
。
透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜4・
4をスパッタ法等によりギャップ対向面3上に形成する
。
続いて、第4図に示すように、トラック溝16・・・に
おける底傾斜部16a・・・を研削し、底傾斜部16a
上の合金磁性材料薄膜4を除く。
おける底傾斜部16a・・・を研削し、底傾斜部16a
上の合金磁性材料薄膜4を除く。
その後、合金磁性材料薄膜4・4上にギャップ材として
SiO□等の非磁性材料層(図示せず)を形成する。
SiO□等の非磁性材料層(図示せず)を形成する。
この後、第3図(g)に示すように、上記のブロック1
1・12同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用
溝13・14および内部巻線用溝10、巻線溝対向面1
0aとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス5・5
を載置して加熱溶着する。
1・12同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用
溝13・14および内部巻線用溝10、巻線溝対向面1
0aとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス5・5
を載置して加熱溶着する。
そして、第3図(h)に示すように、上記のブロックに
おけるテープ摺動面17に、曲面を形成した後、2点鎖
線すに沿って切断して、第3図(i)に示すヘッドチッ
プ18を得る。更に、このヘントチツブ18を、第2図
に示すように、ヘッドベース7に接着した後、テープ摺
動面17を研磨テープ等により鏡面研磨し、巻線6・6
を施すことにより、磁気ヘンド15を得る。
おけるテープ摺動面17に、曲面を形成した後、2点鎖
線すに沿って切断して、第3図(i)に示すヘッドチッ
プ18を得る。更に、このヘントチツブ18を、第2図
に示すように、ヘッドベース7に接着した後、テープ摺
動面17を研磨テープ等により鏡面研磨し、巻線6・6
を施すことにより、磁気ヘンド15を得る。
なお、上記のトラック溝16における底傾斜部16a上
の合金磁性材料薄膜4を除く工程において、合金磁性材
料薄膜4を除く方法は上記研削に限らず、エツチング等
の方法を用いることが可能である。
の合金磁性材料薄膜4を除く工程において、合金磁性材
料薄膜4を除く方法は上記研削に限らず、エツチング等
の方法を用いることが可能である。
[発明の効果]
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
合金磁性材料薄膜の形成後に、トランク溝における底傾
斜部分に形成された合金磁性材料薄膜を除くので、除か
れた部分において酸化物磁性材料と溶着用ガラスとが直
接接合するため、ヘッドチップの強度が向上する。また
へラドチップのテープ摺動面におけるチンブ切断面側部
分およびチンプ切断面に、酸化物磁性材料と合金磁性材
料薄膜との接合部が現れないため、割れの原因となる応
力の発生を防ぎ割れを防止することが可能となる。その
結果、磁気ヘッドの歩留りを向上させることができると
いう効果を奏する。
合金磁性材料薄膜の形成後に、トランク溝における底傾
斜部分に形成された合金磁性材料薄膜を除くので、除か
れた部分において酸化物磁性材料と溶着用ガラスとが直
接接合するため、ヘッドチップの強度が向上する。また
へラドチップのテープ摺動面におけるチンブ切断面側部
分およびチンプ切断面に、酸化物磁性材料と合金磁性材
料薄膜との接合部が現れないため、割れの原因となる応
力の発生を防ぎ割れを防止することが可能となる。その
結果、磁気ヘッドの歩留りを向上させることができると
いう効果を奏する。
第1図ないし第4図は、本発明の一実施例示すものであ
る。 第1図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第2図は、磁気ヘッドの縦断面図である。 第3図は、磁気ヘッドの各製造過程を示す斜視図である
。 第4図は、コアブロックと合金磁性材料薄膜との状態を
示す説明図である。 第5図ないし第7図は、従来例を示すものである。 第5図(a)〜(i)は、磁気ヘッドの各製造過程を示
す斜視図である。 第5図(j)は、磁気ヘッドの製造過程を示す縦断面図
である。 第6図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第7図は、トラック溝上の合金磁性材料薄膜を除いた場
合の磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明図であ
る。 3はギャップ対向面、4は合金磁性材料薄膜、11はコ
アブロック、12はコアブロック、15は磁気ヘッド、
16はトラック溝、16aは底傾斜部である。
る。 第1図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第2図は、磁気ヘッドの縦断面図である。 第3図は、磁気ヘッドの各製造過程を示す斜視図である
。 第4図は、コアブロックと合金磁性材料薄膜との状態を
示す説明図である。 第5図ないし第7図は、従来例を示すものである。 第5図(a)〜(i)は、磁気ヘッドの各製造過程を示
す斜視図である。 第5図(j)は、磁気ヘッドの製造過程を示す縦断面図
である。 第6図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第7図は、トラック溝上の合金磁性材料薄膜を除いた場
合の磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明図であ
る。 3はギャップ対向面、4は合金磁性材料薄膜、11はコ
アブロック、12はコアブロック、15は磁気ヘッド、
16はトラック溝、16aは底傾斜部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高透磁率を有する酸化物磁性材料の2個のコアブロ
ックにおける対応位置に、それぞれ複数のトラック溝を
形成し、両コアブロックのギャップ対向面に高透磁率、
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜を形成する工
程を含む磁気ヘッドの製造方法において、 合金磁性材料薄膜の形成後に、上記トラック溝における
底傾斜部分に形成された合金磁性材料薄膜を除くことを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1660090A JPH03222109A (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1660090A JPH03222109A (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03222109A true JPH03222109A (ja) | 1991-10-01 |
Family
ID=11920792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1660090A Pending JPH03222109A (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03222109A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990387A (en) * | 1988-01-30 | 1991-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical memory |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209705A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
JPS62236111A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
JPH01173306A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-10 | Sharp Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-01-25 JP JP1660090A patent/JPH03222109A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209705A (ja) * | 1986-03-11 | 1987-09-14 | Akai Electric Co Ltd | 磁気ヘツド |
JPS62236111A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
JPH01173306A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-10 | Sharp Corp | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990387A (en) * | 1988-01-30 | 1991-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical memory |
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