JPH03222109A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録再生を行なうために、高透磁
率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面に形
成された磁気ヘッドの製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の磁気ヘッドの製造手順を第５図（ａ）ないし第５
図Ｎ）に基づいて以下に説明する。

先ず、第５図（ａ）に示すように、高透磁率を有する強
磁性酸化物材料の一方のコアブロック２１に外部巻き線
用溝２２とガラス充填用溝２３と内部巻線用溝２４とを
形成する。次いで、第５図（ｂ）に示すように、同じく
酸化物磁性材料の他方のコアブロック２５に外部巻線用
溝２６とガラス充填用溝２７とを形成する。

そして、上記のコアブロック２１・２５におけるそれぞ
れのギャップ対向面２８・２８を鏡面状に研磨した後、
第５図（Ｃ）及び第５図（ｄ）に示すように、所定のト
ラック幅を得るためのトラック溝２９・・・を形成する
。

次に、第５図（ｅ）および第５図（ｆ）に示すように、
高透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜３
０・３０をスパッタ法等によりギャップ対向面２８上に
形成する。その後、合金磁性材料８ｗｌ！３０・３０上
にギャップ材としてＳｉＯ２等の非磁性材料層を形成す
る。

続いて、第５図（ｇ）に示すように、上記のコアブロッ
ク２１・２５同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充
填用溝２３・２７および内部巻線溝２４と巻線溝対向面
２４ａとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス３１
・３１を載置して加熱溶着する。

この後、第５図（ｈ）に示すように、上記のコアブロッ
ク２１・２５におけるテープ摺動面３２に、曲面を形成
した後、２点鎖線ａに沿って切断して、第５図（ｉ）に
示すヘッドチップ３３を得る。さらに、このヘッドチッ
プ３３を、第５図（ｊ）に示すように、ヘッドベース３
４に接着した後、テープ摺動面３２を研磨テープ等によ
り鏡面研磨し、巻き線３５・３５を施すことにより、磁
気ヘッド３６を得る。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記従来の方法により磁気ヘッドを作製する
と、第６図に示すような割れ３７が発生する。また、チ
ップ切断工程において、第５図（ｉ）に示すような、そ
の切断面の酸化物磁性材料コア２１′　・２５′と合金
磁性材料薄膜３０との界面にも同様の割れが発生すると
いう問題点を有している。

これらの現象は、共に酸化物磁性材料と合金磁性材料の
熱膨張係数の差等により生じる応力が原因であることは
知られている。そこで、合金磁性材料薄膜を形成した後
にトラック溝を切削し、トラック溝部分における合金磁
性材料薄膜を除けば応力は発生しない。

しかしこの場合Ｊ第７図に示すような、ギャップ対向面
２８′　・２８′上の合金磁性材料薄膜３０′における
膜はがれ３８が起こるという問題点を有している。

また、合金磁性材料は酸化物磁性材料に比べ溶着用ガラ
スとの接合性が悪いため、トラック溝２９に合金磁性材
料薄膜３０を形成した場合、ヘッドテンプ３３の強度が
低下するという問題点をも併せて有している。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、酸化物磁性材料
の２個のコアブロックにおける対応位置に、それぞれ複
数のトランク溝を形成した後、両コアブロックのギャッ
プ対向面に合金磁性材料薄膜を形成する工程を含む磁気
ヘッドの製造方法において、合金磁性材料薄膜の形成後
に、上記トラック溝における底傾斜部分に形成された合
金磁性材料薄膜を除くことを特徴としている。

〔作　用〕

上記の構成によれば、トラック溝における合金磁性材料
８１１が除かれた部分において、酸化物磁性材料と溶着
用ガラスとが直接接合するため、ヘッドチップの強度が
向上する。またへラドチップのテープ摺動面におけるチ
ップ切断面側部分およびチップ切断面に、酸化物磁性材
料と合金磁性材料薄膜との接合部が現れないため、割れ
の原因となる応力の発生を防ぎ割れを防止することが可
能となる。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第１図ないし第４図に基づいて説明
すれば以下の通りである。

第２図に示すように、磁気ヘッド１５は、高透磁率を有
する酸化物磁性材料からなる一対のコアト２が、これら
の酸化物磁性材料コアト２の各ギャップ対向面３・３が
向かい合うように、溶着用ガラス５により接着されてい
る。また、外部巻線用溝８と内部巻線用溝１０との間お
よび外部巻線用溝９と巻線溝対向面１０ａとの間には、
それぞれ巻線６・６が巻回されている。

また、第１図に示すように、コアト２には、所定幅を有
し、かつギャップに対し平行な面を有する突出部１ａ・
２ａが形成されている。さらにこれらの突出部１ａ・２
ａの端面となるギャップ対向面３・３、および突出部１
ａ・２ａの両側面には合金磁性材料薄膜４が形成されて
いる。

以下、上記の磁気へラド１５の製造手順を説明する。

従来例と同様に、先ず、第３図（ａ）に示すように、高
透磁率を有する強磁性酸化物材料の一方のコアブロック
１１に外部巻線用溝８とガラス充填用溝１３と内部巻線
用溝１０とを形成する。次いで、第３図（ｂ）に示すよ
うに、同しく酸化物磁性材料の他方のコアブロック１２
に外部巻線用溝９とガラス充填用溝■４とを形成する。

そして、上記のコアブロック１１・１２における、それ
ぞれのギャップ対向面３・３を鏡面状に研磨した後、第
３図（Ｃ）及び第３図（ｄ）に示すように、所定のトラ
ック幅を得るためのトランク溝１６・・・を形成する。

次に、第３図（ｅ）及び第３図（ｆ）に示すように、高
透磁率、高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜４・
４をスパッタ法等によりギャップ対向面３上に形成する
。

続いて、第４図に示すように、トラック溝１６・・・に
おける底傾斜部１６ａ・・・を研削し、底傾斜部１６ａ
上の合金磁性材料薄膜４を除く。

その後、合金磁性材料薄膜４・４上にギャップ材として
ＳｉＯ□等の非磁性材料層（図示せず）を形成する。

この後、第３図（ｇ）に示すように、上記のブロック１
１・１２同士を突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用
溝１３・１４および内部巻線用溝１０、巻線溝対向面１
０ａとにより形成される空洞部位に溶着用ガラス５・５
を載置して加熱溶着する。

そして、第３図（ｈ）に示すように、上記のブロックに
おけるテープ摺動面１７に、曲面を形成した後、２点鎖
線すに沿って切断して、第３図（ｉ）に示すヘッドチッ
プ１８を得る。更に、このヘントチツブ１８を、第２図
に示すように、ヘッドベース７に接着した後、テープ摺
動面１７を研磨テープ等により鏡面研磨し、巻線６・６
を施すことにより、磁気ヘンド１５を得る。

なお、上記のトラック溝１６における底傾斜部１６ａ上
の合金磁性材料薄膜４を除く工程において、合金磁性材
料薄膜４を除く方法は上記研削に限らず、エツチング等
の方法を用いることが可能である。

［発明の効果］ 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
合金磁性材料薄膜の形成後に、トランク溝における底傾
斜部分に形成された合金磁性材料薄膜を除くので、除か
れた部分において酸化物磁性材料と溶着用ガラスとが直
接接合するため、ヘッドチップの強度が向上する。また
へラドチップのテープ摺動面におけるチンブ切断面側部
分およびチンプ切断面に、酸化物磁性材料と合金磁性材
料薄膜との接合部が現れないため、割れの原因となる応
力の発生を防ぎ割れを防止することが可能となる。その
結果、磁気ヘッドの歩留りを向上させることができると
いう効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第４図は、本発明の一実施例示すものであ
る。 第１図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第２図は、磁気ヘッドの縦断面図である。 第３図は、磁気ヘッドの各製造過程を示す斜視図である
。 第４図は、コアブロックと合金磁性材料薄膜との状態を
示す説明図である。 第５図ないし第７図は、従来例を示すものである。 第５図（ａ）〜（ｉ）は、磁気ヘッドの各製造過程を示
す斜視図である。 第５図（ｊ）は、磁気ヘッドの製造過程を示す縦断面図
である。 第６図は、磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明
図である。 第７図は、トラック溝上の合金磁性材料薄膜を除いた場
合の磁気ヘッドのテープ摺動面の状態を示す説明図であ
る。 ３はギャップ対向面、４は合金磁性材料薄膜、１１はコ
アブロック、１２はコアブロック、１５は磁気ヘッド、
１６はトラック溝、１６ａは底傾斜部である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高透磁率を有する酸化物磁性材料の２個のコアブロ
   ックにおける対応位置に、それぞれ複数のトラック溝を
   形成し、両コアブロックのギャップ対向面に高透磁率、
   高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜を形成する工
   程を含む磁気ヘッドの製造方法において、 合金磁性材料薄膜の形成後に、上記トラック溝における
   底傾斜部分に形成された合金磁性材料薄膜を除くことを
   特徴とする磁気ヘッドの製造方法。