JPH0264904A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 の１ 本考案はメタル媒体を用いて記録再生する８１■ＶＴＲ
やＲ−ＤＡＴ等に用いる磁気ヘッド、特にＭｅｔａｌ−
Ｉｎ−Ｇａｐ　（以下ＭＩＧと略す）ヘッドに関すもの
である。

従沫ｊＩＬ１ ＭＩＧヘッドはフェライトコア半体どうしをスペーサを
介して接合したギャップ対向面にメタル磁性膜が被着介
在している構造を有し、フェライトのみで構成されたヘ
ッドに比べ、ギャップ部の飽和磁束密度を大きくできる
ため高い抗磁力のメタル媒体にも、記録できる特徴を有
している。

しかし反面、フェライトコア部とメタル磁性膜の透磁率
を完全に一致させることがむずかしいことや、フェライ
トとメタル磁性膜の接合界面に、加工時の変質層が介在
すること等により、このフェライトとメタル磁性膜の接
合面があたかも磁気ギャップのように作用し、再生出力
に正規の信号以外の疑似信号が表れる。

従来この疑似信号を除するために、フェライトとメタル
磁気膜接合面をギャップ面に対して、非平行としたり（
特開昭５４−９８０１３や特開昭６Ｏ−２２９２１０）
　、この接合面形状をギザギザにしたり波形にする方法
をとっている。（特開昭６ｌ−２７３７０６）その製造
方法は従来、先ず、（第図３の（ａ））のように）フェ
ライトブロック１に斜めの断面形状もつ溝１５を入れる
か、エツチング等により凹凸状あるいは、波形の溝を形
成し、その上に、メタル磁性材Ｕを、スパッタリング等
により被着する。

（第３図（ｂ））次にトラック規制溝をダイサー等で形
成し、その溝に低融点ガラスを１６融点充填してから巻
線溝をダイサー等で形成する。（第３図（Ｃ））その後
メタル被着面を鏡面研磨し、ギャップスペーサをスパッ
タリング等により被着形成して、コア半体が完成する。

これが従来のＭＩＧヘッドの製造方法である。

このような、従来の製造方法では、次の３つの問題点が
ある。

（１）ギャップ面に非平行に溝を入れるとき、ダイサー
等の機械加工によるため、フェライト面に加工によるダ
メージが入り、フェライトとメタルの間に大きな磁気抵
抗が発生しやすく、記録再生効率の低下をきたす。

（２）エツチングにより、フェライト面に凹凸や波形の
溝を形成する場合、深さ方向と面内方向のエツチングレ
ートの選択に制限があり、疑似信号除去のための最適形
状を得るのが困難である。

（３）　メタル磁性材をフェライトに被着した後、ガラ
スモールドやギャップ衝合せ面の溶着等の加熱過程を１
回ないし２回経るため、メタル磁性膜とフェライトの熱
膨張係数の差による応力を受はメタル磁性膜の剥離が発
生しやすい。

の 本発明は、これ等の問題点を解決するために、先ず鏡面
研磨され、巻線窓用溝の形成されたコア半体どうしをギ
ャップスペーサを介して、耐酸性に優れた、比較的高融
点の溶着用ガラスで、接合溶着したフェライトブロック
を用意する。

このフェライトブロックの媒体摺接面となるフェライト
面に磁気キャップを中心とする所定の場所に所定の形状
でフォトリソグラフィ技術を用いてレジストパターンを
形成する。その後、フェライトをリン酸等のギャップス
ペーサはエツチングしない選択性の大きいエツチング液
で、所定の深さまでエツチングする。

次にレジストを除去後、エツチングにより形成された溝
内に、メタル磁性材をスパッタリング等により被着充填
し、溝以外に被着したメタル磁性膜はギャップ深さを決
定する研磨と同時に研磨除去することを特徴としている
。

１且 この様にして形成されたＭＩＧヘッドブロックは、メタ
ル磁性膜形成面が化学的にエツチング除去されたフェラ
イト表面であるため、機械的加工面のような粗面の損傷
が少ないため、メタル磁性膜とフェライトとの界面の磁
気抵抗が小さい。

また、メタル磁性膜形成後に、ガラス溶着等の加熱工程
を経ることがないため、フェライトとメタル磁性膜の熱
膨張係数の差による応力を受けることがなく、メタル磁
性膜が剥離することもない。

しかも、フォトリングラフィ技術によりフェライトとメ
タルの磁性膜の界面の形状を任意に設計できるため、疑
似信号を、有効に除去できるのである。

実」１例− 本発明の磁気ヘッド製造方法の一実施例を図に基づき説
明する。

まず、第１図の（ａ）に示すような鏡面研磨された面に
、非磁性体のギャップスペーサ３、例えば５ＩＯ２をス
パッタリング等により被着し、巻線窓用溝４をダイサー
等により形成されたフェライトブロック１と、第１図（
ｂ）に示すような鏡面研磨された面に溶着用溝５をダイ
サー等により形成されたフェライトブロック２を第１図
（Ｃ）のように衝合わせる。つぎに、鉛等の含有料が少
く、耐酸性の強い溶着用ガラスファイバ６を巻線窓用溝
４及び溶着用溝５に挿入し、加熱して、フェライトブロ
ック１と２を第１図（ｄ）のとおりに溶着する。

このようにして、形成されたふぇらいとぶろっく７の記
録媒体との摺接面となるフェライト面８に第１図（ｅ）
のごとく、フォトリングラフィ技術を用いてレジストパ
ターン９を形成する。

このようにして得た構体Ａをフェライトとは反応するが
ギャップスペーサのｓｔｏｗ等とは反応しないリン酸等
のエツチング液に２、レジストのないフェライト面ｌＯ
を、深さ５〜３０μ−程度エツチングする。

その後レジスト９を除去すると第１図（ｆ）のごとくギ
ャップスペーサ３が残ってその近傍のフェライトが所定
の形状で除去された形状となる。

この除去されたフェライトの溝（Ｂ）を埋めるように第
１図（ｇ）のように、メタル磁性膜１１をスパッタリン
グ等により被着形成する。

次に、所定のギャップ深さになるように、円筒研削装置
や、テープラッピング装置を用いて、記録媒体摺接面と
なる■２を曲面研磨する。この時、不要な部分に被着し
た、メタル磁性膜も同時に研磨除去されて所定の摺接面
を有するＭＩＧヘッドブロックが第１図（ｈ）に示す通
りに完成する。

このＭＩＧヘッドブロックを、切り離し線１３に沿って
ワイアリー等によって切り離して、第１図（ｈ）に示す
ＭＩＧへラドチップ１４を得る。

第２図に他の実施例を示す。これは第１図（ｅ）に相当
する工程で、多数のフェライトブロック１を一括して溶
着した後、フォトリングラフィによりレジストパターン
を形成したものである。

光ｌしと透未− 本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、次のような効
果が有る。

先ず、疑似信号を除去するために形成したギャップ面に
非平行なフェライトとメタル界面形状をフォトリソグラ
フィと化学的エツチングで実現しているため、フェライ
トメタル界面に機械的加工による損傷がないため、磁気
抵抗が小さくなり記録再生効率がよい。

次に、フォトリソグラフィ技術を用いるため、任意のフ
ェライトメタル界面形状を形成でき、疑似信号除去の最
適形状を容易に得ることができる。

また、メタル磁性膜形状後に、ガラス溶着等の加熱過程
を経ることがないため、メタル磁性膜がフェライトとの
付着界面から剥離することもない。

更に本発明の製造方法によれば、アモルファス磁性膜を
用いても、膜形成後に高温に加熱する必要がないためア
モルファス膜の結晶化を防止できる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（１）は、本発明による磁気ヘッドの製
造方法の一実施例を示す、コアブロックの斜視図又は正
面図。第２図は他の実施例の主要工程示すコアブロック
斜視図。 第３図は、従来のＭＩＧヘッドの製造方法を示すコアブ
ロック斜視図である。 １・・・フェライトブロック、 ２・・・フェライトブロック、 ３・・・ギャップスペーサ、 ４・・・巻線窓用溝、 ６・・・溶着用ガラス、 ９・・・フォトレジスト、 ■・・・メタル磁性膜、 １５・・・斜め溝、 １Ｂ・・・トラック規制溝、 Ｂ・・・フェライト溝（エツチング除去溝）。 ′ゴ 昭和６２年 特 許 願 第３２６４５ε ２゜ 発明の名称 磁気ヘッドの製造方法 ３゜ 補正をする者 事件の関係　特許出願人 〒５２０滋賀県大津市晴嵐２丁目９番１号関西日本電気
株式会社 ５、 補正の対象 明細書に添付の図面 ６゜ 補正の内容

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. コア半体どうしをギャップスペーサを介してガラス溶着
   した後、その記録媒体摺接面となる面のコアの少なくと
   もギャップ形成部分のみを所定の形状で所定の深さエッ
   チング除去し、その除去した部分へスパッタリング等に
   より、高飽和磁束密度コア材を被着充填することを特徴
   とする磁気ヘッドの製造方法。