JPH01125706A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）　産業上の利用分野 本発明は高周波信号を効率良く記録再生するのに好適な
磁気ヘッドに関する。

（ロ）　従来の技術 従来、ＶＴＲ等の高周波信号を記録再生する装置におい
ては、ビデオヘッド用磁性材料として高周波損失の少な
いフェライト材料が用いられている。しかし、近年にな
って高品位ＶＴＲやディジタルＶＴＲのように更に広帯
域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになってさて
おり、記録媒体もこのような大量の情報を記録する為の
高密度化の流れの中で酸化鉄系から合金粉末媒体や金属
蒸着媒体等の高抗磁力媒体へ移行しつつある。これに対
してフェライトヘッドではその最大磁束密度が高々５０
００ガウス程度であり、又短波長信号を効率良く再生す
る為には狭ギャップにする必要があり、上述のような保
磁力Ｈａが１００００ｅ以上の高抗磁力媒体ではギヤ、
プ先端部のフェライトコアが飽和し、十分な記録が出来
ない。そこで最大磁束密度の高いセンダストやアモルフ
ァス磁性合金等の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開
発が行なわれているが、バルク状の金層磁性材料を用い
たのでけうず電流による高周波損失が大きく上記システ
ムには適していない。

従来、このような欠点を解消するために、例えば特開昭
６２−１：５７７１１号公報（Ｇ１１Ｂ５／１２７）等
に開示されているような磁気ヘッドが提案されている。

第８図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。

ｍｉｄ’　（ＩＸ２）ａ夫や一対。複合基５半体（３，
）（ａｂ）（４ａ）（４’ｂ）をガラＸ　（５）（５）
により接合してなる補強コアであり、該補強コア（１）
（２）の間にはトラック幅に相等する膜厚を有するセン
ダスト等の金属磁性薄膜（７ａ）（７１））が挾持され
ている。前記金属磁性薄膜（ｙａ）（７ｂ）の接合面に
は作動ギャップ（８）が形成されている。前ε複合基板
半体（３ａ）（３１））（４ａ）（４１））＄１７！９
４　）等の酸化物磁性材料よりなる基部（ｔａ）（ｖｂ
）と、結晶化ガラス、非磁性セラミック等の非磁性材料
よりなる媒体摺接部（ｌｏａ）（１ｏｂ）とを融着して
なる。尚ａ５は巻線（図示せず）が巻回されるコイル窓
である。

しかし乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、基部（ｖａ）
　（ｔ’ｂ）と媒体摺接部（１ｏａ）（ｉｏｂ）とを熱
融着プロセスによって融着して複合基板半体（３ａ）（
３１））（４ａ）（４ｂ）を作製する必要があり、製造
工程が複雑になる。また、上述の熱融着プロセスの際、
前記媒体摺接部（１０ａ）（１０ｂ）を形成する非磁性
材料の原子が前記基部（ｖａ）（ｔｂ）Ｋ浸入して拡散
層を形成し、該基部（ｙａ）（ｗｂ）を形成すゐ酸化物
磁性材料の磁気特性が劣化する。更に、複合基板半体（
ａａ）（ａｂ）（４ａ）（４ｂ）　上ｉ良好な金属磁性
薄膜（ｙａ）（ｙｂ）を被着形成するため該複合基板単
体（４ａ）（４ｂ）の被着面が十分な平面度と表面粗度
を有するように該複合基板半体（４ａ）（４″ｂ）を両
面研磨するが、前記複合基板半体（４ａ）（４１））を
構成する基部（ｔａ）（ｖｂ）と媒体摺接部（１ｏａ）
（１０ｂ）との硬度の違いにより、前記被着面一十分な
平面度と表面粗度とを持たせることが困難である。また
前記基部（ｖａ）（ｔｂ）と媒体摺接部（ｌｏａ）（１
ｏ’ｂ）との熱膨張係数の違いによりお互いの熱融着接
合部に生じる歪もその原因の一つである。

ｅｌ　　発明が解決しようとする問題点本発明は上記従
来例の欠点に鑑みなされたものであり、補強コアの媒体
摺接部を形成する非磁性材料の原子が前ε補強コアの基
部に浸入して該基部を形成する酸化物磁性材の磁気特性
が劣化するのを防止し、しかも簡単に製造される磁気ヘ
ッドを提供することを目的とするものである。

に）間′照点を解決するための手段 本発明の磁気ヘッドは、媒体摺接部側と反対側に酸化物
磁性薄膜が被着された溝を有する第１の非磁性基板半体
の内面と、第２の非磁性基板半体の内面に被着形成され
た金属磁性薄膜と絶縁薄膜との積層体とを接合して一対
のコア半体を形成し該一対のコア半体のギャップ衝き合
わせ面同士をギャップスペーサを介して接合し、前ε一
対の積層体間に作動ギャップを形成してなる。

（ホ）作　用 上記構成に依れば、補強コアの一部を形成する酸化物磁
性材料に非磁性材料の拡散層が形成されず、しかも補強
コアの非磁性材料の部分と酸化物磁性材料の部分とが熱
融着プロセスなしに容易に一体化される。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。

第１図は本実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
る。

図中ａ２（１３＃ｉ夫々感光性結晶化ガラス、非磁性セ
ラミック等よりなる一対の第１、第２の非磁性基板半体
（１４ａ）　（１４ｔ））　（１５ａ）　（迅ｂ）を接
合してなる補強コアであり、一方の補強コアＱ３の内面
下方にけ溝αｅが形成されている。αηは前ε湾口ｅ内
此被着形成されたフェライト等の酸化物磁性薄膜である
。

また、他方の補強コア側の内面には、センダスト等の金
属磁性薄膜α旺Ｓ　ｉ、　Ｏ，等、絶縁薄膜α優とが交
互に被着された積層体（２０ａ）（２０ｂ）を接合して
なる主コア（社）が形成されており、該主コア（社）の
補強コア（至）と反対側の面は前記補強コアａりの内面
及び前記酸化物磁性薄膜αりに高融点ガラスにより接合
されてい石。また、前記積層体（２０ａ）（ｚｂ）同士
の接合面には作動ギャップのが形成されてｈる。

（２１Ｆｉ巻線（図示せず）が巻回される巻線溝である
。

尚、前記第１の非磁性基板半体（１４ａ）と（１４Ｎ）
）、前記積層体（２０ａ）と（ｚｂ）　　及び前記第２
の非磁性基板半体（１５ａ）と（１５１））　　＃ｉ夫
々、溶着溝−に充填された低融点ガラス器及び巻線溝の
上端に充填された低融点ガラス■により接合されている
。

次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず、第２図に示すように感光性結晶化ガラスや非磁性
セラミック等の非磁性材料（例えばホーヤ（株）製のＰ
Ｅ０３１３０Ｇ、熱膨張係数１３０×１０　７℃）より
なる第１の非磁性基板−の上面に溝αｅを形成する。尚
、前記溝αｅは前記第１の非磁性基板の上面の溝形成部
にのみマスクを用いて紫外線を露光し、酸でエツチング
す石ことにより形成される。尚、エツチング時間は前記
溝αｅの深さが後で述べる積層薄膜■の厚みの１．５〜
２倍程度になるように調整されている。

次に、前記第１の非磁性基板■上面を研磨した後、第３
図に示すように前記溝αＱ内にフェライト等よりなる３
０〜４０μｍ厚の酸化物磁性薄膜αりをＣＶＤ法（化学
的気相成長法）、スパッタリング、蒸着等によりマスク
を用いて形成する。

一方、第４図に示すように前記第１の非磁性基板面と同
一材料よりなる第２の非磁性基板（至）の上面に研磨を
施した後、センダスト等の厚さ５μｍの金属磁性薄膜と
Ｓ１０！等の厚さ０．１μｍの絶縁薄膜とをスパッタリ
ングにより交互に被着して厚さ約２０μｍの積層薄膜■
を形成する。尚、前記積層薄膜■の膜厚は所望するトラ
ック幅に略等しい。

次に、第５図に示すように前記ｆＪ１の非磁性基板面の
酸化物磁性薄膜αη側の面と前記第２の非磁性基板（至
）のｉＴＡ薄膜■とを高融点ガラス（例えば松浪ガラス
（株）製のソーダカリガラス７６２２、軟化点６７０℃
）等を溶融固化することにより接合してブロック■を形
成する。　　′ 次に、前記ブロック＠を点線Ａ−Ａ’に沿って切断して
、該切断面に溝加工を施した後、−点鎖線Ｅ−Ｂ’に沿
って切断することにより第６図に示すように一対のコア
半体（２９ａ）（２９ｂ）を形成する。

そして、前記コア半体のうち一方のコア半体（２９ａ）
のギャップ衝き合わせ面（３ｏａ）には巻線溝の及び溶
着溝■を形成すん。

次に、前記コア半体（２９ａ）（２９’ｂ）のギャップ
衝き合わせ面（３Ｄａ）（３ａ’ｂ）に研磨を施した後
、８１ｏｚ等のギャップスペーサを被着し、前記溶着溝
■及び前記巻線溝コの上端に低融点ガラス（例えば松浪
ガラス（株）製の５Ｇ−００８２ガラス、軟化点３０５
℃）＠（至）を充填し、その後前εコア半体（２９ａ）
　（２９’ｂ）　ノギヤｆｆプ衝き合わせ面（ａＯａ）
（ａｏｂ）を衝き合わせ前記低融点ガラスｃ！５１（イ
）を溶融固化することにより前記コア半体（２９ａ）（
２９ｂ）同士を接合し第７図に示すヘッドチップｅ１１
）を形成する。

そして最後に、前記ヘッドチップ０］）のテープ摺接面
側の端面（至）にＲ付研磨を施すことにより第１図に示
す本実施例の磁気ヘッドが完成する。

上述のような磁気ヘッドでは、主コア圓が飽和磁束密度
の大きい金属磁性薄膜α３と絶縁薄膜器とからなる積層
体（２０ａ）　（２０’ｂ）で形成されているので、メ
タルテープ等に適すると共に高周波領域においても渦電
流による透磁率の低下を抑え、しかも透磁率の高い酸化
物磁性薄膜Ｑ７１によりヘッド効率が改善される。また
、補強コア■（１３には酸化物磁性薄膜ＣＩ？＋が被着
により形成されているので、該酸化物磁性薄膜α９には
非磁性材料の拡散層が形成されず、前記酸化物磁性薄膜
α力の磁気特性は劣化しない。また、上述の磁気ヘッド
の製造工程では複雑な熱融着プロセスを必要としないの
で生産性も向上する。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、記録再生特性に優れ、しかも容易に製
造される磁気ヘッドを提供し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は本発明に係り、第１図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、第５図
、第６図及び第７図は夫々、上記磁気ヘッドの製造方法
を示す図である。第８図は従来の磁気ヘッドの外観を示
す斜視図である。 （１４ａ）　（１４’ｂ）−・・第１の非磁性基板半体
、（ｔ５ａ）（１５１））・・・第２の非磁性基板半体
、０口・・・溝、αり・・・酸化物磁性薄膜、ａｔＯ・
・・金属磁性薄膜、α９・・・絶縁薄膜、（２０ａ）（
２０ｂ）−・・積層体、■・・・作動ギａｒｙプ、（２
９ａ）（２９１））−・・コア半体、（至）・・・テー
プ摺接面側の端面。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）媒体摺接部側と反対側に酸化物磁性薄膜が被着さ
   れた溝を有する第１の非磁性基板半体の内面と、第２の
   非磁性基板半体の内面に被着形成された金属磁性薄膜と
   絶縁薄膜との積層体とを接合して一対のコア半体を形成
   し、該一対のコア半体のギャップ衝き合わせ面同士をギ
   ャップスペーサを介して接合し、前記一対の積層体間に
   作動ギャップを形成してなる磁気ヘッド。