JPH01118206A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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Publication number
JPH01118206A
JPH01118206A JP27653687A JP27653687A JPH01118206A JP H01118206 A JPH01118206 A JP H01118206A JP 27653687 A JP27653687 A JP 27653687A JP 27653687 A JP27653687 A JP 27653687A JP H01118206 A JPH01118206 A JP H01118206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
magnetic
core
magnetic head
magnetic thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP27653687A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Nakada
正宏 中田
Kazuaki Koyama
和昭 小山
Isao Yasuda
安田 伊佐雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP27653687A priority Critical patent/JPH01118206A/ja
Publication of JPH01118206A publication Critical patent/JPH01118206A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は高周波信号を効率良く記録再生するのに好適な
磁気ヘッドに関する。
(ロ) 従来の技術 従来、VTR等の高周波信号を記録再生する装置におい
ては、ビデオヘッド用磁性材料として高周波損失の少な
い7ヱライト材料が用いられている。しかし、近年にな
って高品位VTRやディジタルVTRのように更に広帯
域の信号を収り扱うシステムの開発が盛んになってきて
おり、記録媒体もこのような大量の情報を記録する為の
高密度化の流れの中で酸化鉄糸から合金粉末媒体や金嬌
蒸#媒体等の高抗磁力媒体へ移行しつつある。これに対
してフェライトヘッドではその最大磁束4度が高々5o
ooガクス程度であり、又短波長13号を効率良く再生
する為には狭ギャップにする必ががあり、上述のような
Hcがl ooo06以上の高抗磁力媒体ではギャップ
先端部のフェライトコアが飽和し、十分な記録が出来な
い。そこで最大磁束密度の高いセンダストやアモルファ
ス磁性合金等の金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの開発
が行なわれているが、バルク状の金層磁性材料を用いた
のではうず電流による高目波損失が大きく上記システム
には適していない。
従来、このような欠点を解消するために、例えば特開昭
62−137711号公報(G11B5/127)等に
開示されているような磁気ヘッドが提案されている。
第8図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。
図中、tll+2)は夫々一対の複合基板半体(3a)
(3b)(4a)(4b)金浦強ガラス+51t5+に
より接合してなる複合基板であり、該複合基板fl!f
21の間にはトラック幅に相等する暎厚を有するセンダ
スト等の金層磁性環11#(7a)(7b)が挾持され
ている。111J記金層磁性薄膜(7a)(7b)の接
合面には作動ギャップ(8)が形成されている。
前記複合基板半休(3aH3b)(4a)(4b)フェ
ライト等の酸化物磁性材料よりなる基部(9a)(9b
)と、結晶化ガラス、非磁性セラミック等の非磁性材料
よりなる媒体摺接部(10a)(10b)とをm看して
なる。尚、(lりは巻線(図示せず)が巻回されるコイ
ル窓である。
しかし乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、基部(9a)
(10a)と媒体摺接部(9b)(10好な金層磁性薄
膜(7a)(7b)を被着形成するため、該複合基板(
1)の被着面が十分な平面度と表面粗度を有するように
該複合基板(1)を両面研磨するが、前記複合基板11
!f21を構成する基部(9a)(9b)と媒体摺接部
(10a)(10b)との硬度の虚いにより、前記被着
面に十分な平面度と表面粗度とを持たせることが困難で
ある。また前記基部(9a)(9b)と媒体摺接部(1
0a)(10b)との熱膨張係数の逮いによりお互いの
熱融着接合部に生じる歪も−そのW、因の一つである0 (ハ)発明が解決しようとする問題点 本発明は上記従来例の欠点に鑑みなさ扛たものであり、
金層磁性薄膜が破着される複合基板の基部と媒体摺接部
との物理的特性の遣いにより製造が困難になるのを防止
した磁気ヘッドと提供することを目的とするものである
に)問題点を解決する之めの手段 本発明の磁気ヘッドは、非磁性材料からなる一対の補強
コア間に、該補強コアのうち一方の補強コアの内面に被
着形成された金層磁性薄膜と絶縁4膜との一対の積層体
を接合してなる作動ギャップを有する主コアと、該主コ
アの前記一方の補強コアとは反対側の面に被着形成され
た非磁性薄膜の媒体摺接部と酸化物磁性薄膜の基部とか
らなる補助コアとを挾持したことを特徴とする。
(ホ)作 用 上記構成に依れば、十分な平面度及び表面粗度を容易に
得ることが出来る補強コアの内面に金層磁性薄膜、絶縁
4模、非磁性4膜及び酸化物磁性薄膜を連続的に被着し
て主コア及び補強コアを形成することが出来る。
(へ)実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
第1図は木実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
る。
図中、α2)(IIは夫々感光性結晶化ガラス、非磁性
セラミック等よりなる一対の非磁性基板半休(14a)
(14b)(15a)(15b)を接合してなる補強コ
アであり、一方の補強コアα乃の内面には、センダスト
等の磁性金属薄膜OQと5ill!等の絶R4模αηと
が交互に積層された積層体(18a)(18b)を接合
してなる主コア四が形成されている。前記主コγα鴫の
他方の補強コアαm1)I!10面には、前記補強コア
Q乃と同−材料若しくは前記補強コア0匂と組成が似て
いるセラミック等よりなる非磁性薄膜(K体層接部)(
至)とフェライト等の酸化物磁性薄膜(基部)圓とが被
着形成された一対の補助コア半休(22m)(22b)
を接合することにより補助コア内が形成されている。前
記他方の補強コア圏と前記補助コア(]萄とは高融点ガ
ラスにより接合されている。また、前記積層体(18a
)(18b)の接合面には作動ギャップ(241が形成
されている。尚、25iは巻線(図示せず)が巻回され
る巻線溝である。また、前記非磁性基板半休(14a)
と(14b)、eIIi!、積+m体(18a)と(1
8b)、前記補助コア半休(22:a)と(22b)及
び前記非磁性基板半休(15a)と(15b)は夫々、
溶着溝(ロ)に充填された低融点ガラス(ハ)及び巻線
溝□□□上端に現われた低融点ガラス四により夫々接合
されている。
次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。
先ず、第2図に示すように感光性結晶化ガラスや非磁性
セラミック等の非磁性材料(例えばホーヤ(味)裂のP
G3130C,熱膨張係数130x1o−7/”c) 
 よりなる非磁性基板鵜の上面にセンダスト等の厚さ5
μmの磁性金層薄膜と5102等の厚さ0.1μmの絶
縁薄膜とをスパッタリングにより交互に被着して厚さ約
20μmの積層薄膜α樽を形成する。
次に、前記積層薄膜(!→上に第3図に示すようにフェ
ライト等よりなる厚さ30〜40μmの酸化物磁性薄膜
2+)2υ・・・をCVD法(化学的気相成長法)等に
よりマスクを用いて長方形状に複飲被着形成する。
次に、第4図に示すように前記積層薄膜端上の酸化物磁
性薄膜伐が形成されていない部分全域に面記非磁性基板
−と同−材料若しくは前記基板−と組成が似ているセラ
ミックよりなる非磁性薄膜囚四・・・を高速スパッタリ
ング等によりマスクを用いて長方形状に被着形成する。
尚、前記非磁性薄膜−のe!厚は1trJ記酸化物磁性
薄膜圓の膜厚に等しいう 次に、前記酸化物磁性薄膜(2υ及び非磁性薄膜−上に
高融点ガラス(例えば松浪ガラス(株)製のソーダカリ
ガラス7622.軟化点670℃)等により前記非磁性
基板間と同一材料の非磁性基板−を接合する。その後、
前述と同様にして第5図に示すように前記非磁性基板(
湾′上に積層薄喚賭、酸化物磁性薄膜伐り及び非磁性薄
膜−を形成し、その上に非磁性基板−を接合するという
工程を繰り返すととくよりブロック(3ηを形成する。
次に、前記ブロック3つを破線A −A’、−点鎖線B
 −B’、二点類#C−C’に沿ッテ順に917断じて
86図に示すような一対のコア半休(32a)(32b
)、を多数形成し、一方のコア半休(32a)のギャッ
プ衝き合わせ面(33a)に巻線溝(2F9(至)及び
溶着情動(財)を形成する。
次に、前記ギャップ衝き合わせ而(33a)(33b)
の一方若しくは両方に5f02等のギャップスペーサ(
図示せず)を被着した後、ltI記溶je 74 曲端
に低融点ガラス(例えば松浪ガラス(株)裂の5G−0
082ガラス、軟化点305℃)(至)シSを充填し、
該ガラス3へ鴨を軟化させることにより前記ギヤツブ所
き合わせ面(33a)(33b)同士を接合し、破線D
−汀に沿って9J所することにより第7図に示すヘッド
チップt34を形成する。
そして最後に、M記ヘッドチップ(至)のテープ摺接面
側の端面(至)にR付研磨を施すことにより第1図に示
す本実施例の磁気ヘッドが完成する。
尚、上述の製造工程において、第5図でブロック3のを
破線A−A’、−点鎖線B−B′に沿って切断して4つ
の小ブロック(31a)(31b)(31c)(31d
)を形成した後、各々のブロック(31a)(31b)
(31c)(31d)に対して第6図に相当する加工を
行い、その後、第5図の二点鎖点に相当する切+f!+
を行ってもよい。
上述のような磁気ヘッドでは、高い飽和磁束密度を有す
る磁性金Jr44膜と絶縁薄膜とからなる。
積層体(18a)(18b)、高い透磁率を有する酸化
物磁性f#膜圓とを有するので記録特性、再生特性が共
に優れている。しかも、上記磁気ヘッドは十分な平面度
と表面粗度とを容易に得ることが出来る非磁性基板−上
に金A凰粧41A、絶縁薄膜、非磁性薄膜−及び酸化物
磁性薄膜2υを連続的に形成することにより製造される
ので、生産性が向上する。
(ト)発明の効果 本発明に依れば、記録再生特性に優れ、しかも容易に製
造される磁気ヘッドを提供し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至g7図は本発明に係り、第1図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第2図、第3図、第4図、第5図
、第6図及び第7図は夫々、上記磁気ヘッドの製造方法
を示す図である。第8図は従来の磁気ヘッドの外観を示
す斜視図である。 脆 (1211尋・・・補強コア、+161−金層ご4模、
αη・・・絶縁薄#膜(基部)、(四・・・補助コア、
飢・・・作動ギャップ。 出頭式 三洋電機株式会社 代理人 弁理士 西野卓嗣(外1名) 第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 第7図 第8図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)非磁性材料からなる一対の補強コア間に、該補強
    コアのうち一方の補強コアの内面に被着形成された金属
    磁性薄膜と絶縁薄膜との一対の積層体を接合してなる作
    動ギャップを有する主コアと、該主コアの前記一方の補
    強コアとは反対側の面に被着形成された非磁性薄膜の媒
    体摺接部と酸化物磁性薄膜の基部とからなる補助コアと
    を挾持したことを特徴とする磁気ヘッド。
JP27653687A 1987-10-30 1987-10-30 磁気ヘッド Pending JPH01118206A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0386905A (ja) * 1989-07-24 1991-04-11 Nec Corp 磁気ヘッドおよび磁気ヘッドの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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