JPH0457204A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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Publication number
JPH0457204A
JPH0457204A JP16480290A JP16480290A JPH0457204A JP H0457204 A JPH0457204 A JP H0457204A JP 16480290 A JP16480290 A JP 16480290A JP 16480290 A JP16480290 A JP 16480290A JP H0457204 A JPH0457204 A JP H0457204A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
core
core half
welding
groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP16480290A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuaki Koyama
和昭 小山
Isao Yasuda
安田 伊佐雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP16480290A priority Critical patent/JPH0457204A/ja
Publication of JPH0457204A publication Critical patent/JPH0457204A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は高周波信号を効率良く記録、再生するのに好適
な磁気ヘッドに関する。
(ロ)従来の技術 従来、VTR等の高周波信号を記録再生する装置におい
ては、ビデオヘッド用磁性材料として高周波損失の少な
いフェライト材料が用いられている。しかし、近年にな
って高品位VTRやデジタル〜’TRのように更に広帯
域の信号を取り扱うシステムの開発が盛んになってきて
おり、記録媒体もこのような大量の情報を記録する為の
高密度化の流れの中で酸化鉄系から合金粉末媒体や金属
蒸着媒体等の高抗磁力媒体へ移行しつつある。これに対
してフェライトヘッドではその最大磁束密度が高々50
00ガウス程度であり、又短波長信号を効率良く再生す
る為には狭ギャップにする必要があり、上述のような保
磁力Hcが10000e以上の高抗磁力媒体ではギャッ
プ先端部のフェライトコアが飽和し、十分な記録が出来
ない。そこで最大磁束密度の高いセンダストやアモルフ
ァス磁性合金等の金属磁性材料を用いた磁気へ7ドの開
発が行われている。
従来、このような欠点を解消するため、例えば特開昭6
2−11970’9号公報(G11B5/127)等に
開示されているような高周波用積層型磁気ヘッドが提案
されている。
第7図は従来の高周波用積層コア型磁気ヘッドの外観を
示す斜視図である。
この磁気ヘッドの第1、第2コア半体(la)(lb)
は夫々、結晶化ガラス、非磁性セラミック等よりなる非
磁性基板(201)(201)上にセンダスト等の強磁
性金属薄膜とSin、等の絶縁薄膜との積層薄膜(3)
(3)よりなる主コアが被着形成されており、該主コア
上には前記非磁性基板(201)(201)と同一材料
よりなる主コア補強用の非磁性基板(202)(202
)がガラス層(16)(16)により接合固定されてい
る。前記第1、第2コア半体(la)(lb)は第1、
第2の溶着溝(8a)(8b)(9)及び巻線溝(4)
の上端に充填された溶着ガラス(10)(10)により
接合され、該接合部には磁気ギャップ(11)が形成さ
れている。また、媒体摺接部(12)の両側には切欠溝
(13)(13)が設けられており、媒体との当りを良
好にしている。
次に、上記従来の高周波用積層コア型磁気ヘッドの製造
方法について説明する。
先ず、第8図に示すように結晶化ガラス等よりなる非磁
性基板(2)の上面に溝(15)を形成すると共に下面
に高融点ガラス(例えばN a 10− B r 0=
−3iO,系ガラス、軟化点540℃)のペーストを塗
布焼成(焼成温度700’C以上)してガラス層(16
)を形成する。
次に、第9図に示すように前記非磁性基板(2)の上面
にセンダスト等よりなる2〜7μm厚の強磁性金属薄膜
とSIO!等よりなる0、1−0.5am厚の絶縁薄膜
とを交互に被着形成して3〜6層構造の積層薄膜(3)
を有する積層基板(17)を形成する。
次に、前記積層基板(L2)を第10図に示すように複
数個積み重ね、前記ガラス層(16)により溶着してコ
アブロック化する。尚、このコアブロック化の際、最上
部には非磁性基板(2′)が接合固定され、最下部には
積層基板(17’)が接合固定される。前記非磁性基板
(2′)は下面にガラス層(16)が形成され、上面に
は何も形成されていない。前記積層基板q二)は上面に
溝(15)及び積層薄膜(3)が形成されており、下面
には何も形成されていない。また、前述のコアブロック
化の際、ガラス層(16)は加熱雰囲気中で加圧される
ことにより接合境界のガス及び余分なガラスは前記溝(
15)に逃げ込み、積層薄膜(3)と非磁性基板(2)
との境界には1am厚以下の均質なガラス層(16)が
形成され、前記積層基板(■)(2□)及び非磁性基板
(2°)は強固に接合固定される。
次に、前述の工程により形成されたコアブロックを第1
1図に示すように所定のアジマス角だけ傾けて切断して
一対のコアブロック半体(18a)(18!2)を形成
する。尚、前記コアブロックの寸法を太き(することに
より一対のコアブロック半体(18a)(18b)を多
数形成することが可能である。
次に、第12図に示すように一方のコアブロック半体(
18a)のギャップ形成面(19)上に前記積層薄[(
3’)を横切るように巻線溝(4)及び第1の溶着溝(
8a)(8b)(8c)を形成する。
次に、第13図に示すように前記巻線溝(4)のフロン
ト部及び前記第1の溶着溝(8a)(8b)(8c)全
域に溶着ガラス(10)(10)(10)(10)を充
填−1その後前記コアブロック半体(18a)のギャッ
プ形成面(19)上に鏡面研磨を施し、更にギヤンプス
ペーサ用のSiO,il膜(図示せず)を所定厚だけス
パッタリング等により被着形成する。
一方、第14図に示すように他方のコアブロック半体(
奥)のギャップ形成面(19)上には前記積層薄膜(3
)の両ff1llに第2の溶着溝(9)(9)を形成す
る。
次に、第15図に示すように前記第2のj6着溝(9)
(9)全域に溶着ガラス(10)(10)を充填し、そ
の後、前記コアブロック半体(18b)のギャップ形成
面(19)上に鏡面研磨を施す。
尚、前記巻線溝(4)、第1の溶着溝(8a)(8b)
(8C)及び第2の溶着溝(9)(9’I内に充填され
る溶着ガラス(10)は同一の組成であり、前記ガラス
層(16)の軟化点よJ)も低い軟化点をもつ低融点ガ
ラス(例えばPb0−B、O,−8in、系ガラス、軟
化点350℃)よりなる。
次に、前記一対のコアブロック半体(18a)(18b
)のギャップ形成面(19)(19)同士を第16図に
示すように前記積層薄膜(3)(3)同士が対向するよ
うに位置合わせした後、前記一対のコアブロック半体(
18a)(18b)のギャップ形成面(19)(19)
同士を衝き合わせ、前記溶着ガラス(lO)を溶融固化
することによりギャップ接合を行い溶着ブロック(20
)を形成する。
最後に、第17図に示すように前記溶着ブロック(20
)の上面にR付加工を施して媒体摺接面(12)を彩成
し、その後前記溶着ブロック(20)を破線A−A’に
沿ってスライスしてヘッドチップ化を行うことにより第
7図に示す磁気ヘッドが完成する。尚、このスライスに
より前記非磁性基板(2)は非磁性基板(201)(2
02)に分断される。
しかし乍ら、上記従来の製造方法では、第13図及び第
15図に示すようにギャップ形成面(19)(19)上
に鏡面研磨を施すと、非磁性基板(2)と溶着ガラス(
10)との摩耗量の差により前記溶着ガラス(10)(
10)は第18図に示すように前記非磁性基板(2)に
対して段差t (約0 、1 iIm)が生じる。
そして、このようにギャップ形成面(19)(19)が
鏡面研磨された一対のコアブロック半体(18a)(1
8b)を第16図に示すようにギャップ接合すると、夫
々のコアブロック半体(18a)(18b)の溶着ガラ
ス(10)(10)同士が対向する部分では、第19図
に示すように前記段差tにより空気が閉じ込められ気泡
(21)が発生し、前記コアブロック半体(18a)(
18b)の接合強度が弱くなり、媒体との接触によりコ
ア割れが生じるという虞れがある。
(ハ)発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
第1、第2コア半体間に閉じ込められた気泡により第1
、第2コア半体間の接合強度が低下するのを防止した磁
気ヘッドを提供することを目的とするものである。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明は第1コア半体と第2コア半体とをギャンブ形成
面同士が非磁性材料よりなるギャンプスペーサを介して
衝き合わされた状態で溶着ガラスにより接合固定した磁
気ヘッドであって、前記第1コア半体のギャップ形成面
上には、上記第2コア半体に向って開方向に傾斜してい
る上方側面と下方側面とを有する巻線溝が形成され、且
つ前記溶着ガラスが充填される溶着溝は形成されておら
ず、前記第2コア半体のギャップ形成面上には前記溶着
ガラスが充填される溶着溝が形成されていることを特徴
とする。
(ホ)作 用 上記構成に依れば、第1コア半体に溶着ガラスが充填さ
れる溶着溝が形成されていないため、前記第1コア半体
のギャップ形成面にはガラスによる段差は生じず、しか
も巻線溝の上方側面及び下方側面が開方向に傾斜してい
るため、第1、第2コア半体のガラス接合時、溶着ガラ
スは表面張力により前記上方側面及び下方側面に沿って
巻線溝内に浸透する。
(へ)実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
第1図は本実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であ
り、第7図と同一部分には同一符号を付し、その説明は
割愛する。
本実施例の磁気ヘッドでは、第1コア半体(1a)のギ
ャップ形成面上に設けられた巻線溝(22)は、その内
面が上方側面(22a)、底面(22b)及び下方側面
(22c)で構成されている。前記上方側面(22a)
及び下方側面(’22c)は夫々第2コア半体(1b)
に向って開方向に傾斜している。また、前記第1コア半
体(la)のギャップ形成面上には従来の第7図に示す
ような第1の溶着溝(8a)(8b)は形成されていな
い。前記第1コア半体(1a)と第2コア半体(1b)
とは第2の溶着溝(9)から前記巻線溝(22)の上方
側面(22a)の端部と下方側面(22c)の端部に亘
って充填された溶着ガラス(10)によりギャップ接合
されている。
次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法について説明
する。
先ず、従来例と同様に第8図から第11図に示す工程を
行って一対のコアブロック半体(18a)(18b)を
形成する。
次に、第2図に示すように一方のコアブロック半体(1
8a)のギャップ形成面(19)上に前記積層薄膜(3
)を横切るように上方側面(22a)、底面(22b)
及び下方側面(22c)よりなる巻線溝(22)を形成
し、更に前記ギャップ形成面(19)上に鏡面研磨を施
した後、前記ギャップ形成面(19)上にギャップスペ
ーサ用のSin、薄膜(図示せず)を被着形成する。
一方、他方のコアブロック半体(18b)のギャップ形
成面(19)上には、第3図に示すように積層薄膜(3
)の両側に第2の溶着溝(9)(9)を形成し、該第2
の溶着溝(9)(9”)に溶着ガラス(鉛系のガラス)
 (10)(10)を充填した後、前記ギャップ形成面
(19)上に鏡面研磨を施す。尚、前記第2の溶着溝(
9)(9)の間隔Tは、後の工程での前記巻線溝(22
)へのガラス浸透量を十分にするため、50μm以上2
00μm以下とする。
次に、前記一対のコアブロック半体(18a)(18b
)のギャップ形成面(19)(19)同士を第4図に示
すように前記積層薄膜(3)(3)同士が対向するよう
に位置合わせした後、前記一対のコアブロック半体(1
8a)(18b)のギャップ形成面(19)(19)同
士を衝き合わせ、前記溶着ガラス(10)を溶融固化す
ることによりギャップ接合を行い溶着ブロック(23)
を形成する。
最後に、前記溶着ブロック(23)の上面にR付加工を
施して媒体摺接面(12)を形成し、その後前記溶着ブ
ロック(23)を破線A−A’に沿ってスライスしてヘ
ッドチップ化を行うことにより第1図に示す磁気ヘッド
が完成する。尚、このスライスにより前記非磁性基板(
2)は非磁性基板(201)(202)に分断される。
上述のような本実施例の磁気ヘッドでは、巻線溝(22
)を有する第1コア半体(1a)には溶着ガラスが充填
される溝が形成されていないため、ギャップ形成面上で
の溶着ガラスの段差はなく、前記コア半体(la)(l
b)間に閉じ込められる気泡が減少する。更に、前記巻
線溝(22)の上方側面(22a)及び下方側面(22
c )が第2コア半体(1b)に向って開方向に傾斜し
ているため、第5図(a)(b)に示すように第1、第
2コア半体(la)(lb)のガラス接合時、溶着ガラ
ス(10)は表面張力により前記上方側面(22a)及
び下方側面(22c)に沿って巻線溝(22)内に浸透
し、これにより前記巻線溝(22)内のガスは外部に放
出され前記第1、第2コア半体(la)(lb)間に閉
じ込められる気泡が減少する。
尚、巻線溝(22)の形状としては、第6図に示すよう
に上方側面(22a)及び下方側面(22c)の関口端
側の部分(221a)(221C)のみを開方向に傾斜
させても、上述の表面張力による効果は得られる。
(ト)発明の効果 本発明に依れば、第1、第2コア半体間に閉じ込められ
る気泡が減少し、第1、第2コア半体同士が強固に接合
固定され、機械的強度に優れた磁気ヘッドを提供し得る
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第6図は本発明に係り、第1図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第2図、第3図及び第4図は夫々
磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図、第5図は溶着ガラ
スの浸透を示す図、第6図は他の実施例の巻線溝を示す
図である。第7図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視
図、第8図、第9図、第10図、第11図、第12図、
第13図、第14図、第15図、第16図及び第17図
は夫々磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図、第18図は
溶着ガラスに生じる段差を示す斜視図、第】9図はコア
ブロック半体間の気泡を示す図である。 (1a)・・・第1コア半体、(1b)・・・第2コア
半体、(9)・・・第2の;8着溝、(10)・・・溶
着ガラス、(11)・磁気ギャップ、(22)・・・巻
線溝、(22a)・・・上方側面、(22c)・・・下
方側面。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1コア半体と第2コア半体とをギャップ形成面
    同士が非磁性材料よりなるギャップスペーサを介して衝
    き合わされた状態で溶着ガラスにより接合固定した磁気
    ヘッドであって、前記第1コア半体のギャップ形成面上
    には、上記第2コア半体に向って開方向に傾斜している
    上方側面と下方側面とを有する巻線溝が形成され、且つ
    前記溶着ガラスが充填される溶着溝は形成されておらず
    、前記第2コア半体のギャップ形成面上には前記溶着ガ
    ラスが充填される溶着溝が形成されていることを特徴と
    する磁気ヘッド。
JP16480290A 1990-06-22 1990-06-22 磁気ヘッド Pending JPH0457204A (ja)

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