JPS61227206A - 磁気ヘツド製造方法 - Google Patents
磁気ヘツド製造方法Info
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- JPS61227206A JPS61227206A JP6956185A JP6956185A JPS61227206A JP S61227206 A JPS61227206 A JP S61227206A JP 6956185 A JP6956185 A JP 6956185A JP 6956185 A JP6956185 A JP 6956185A JP S61227206 A JPS61227206 A JP S61227206A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気記録再生に用いられる磁気ヘッドの製造方
法に関する。
法に関する。
従来の技術
従来では、記録密度向上を目的としてＦｅあるいはＣＯ
系合金粉末テープが実用に供されているが、合金粉末テ
ープの抗磁力は１３００〜１５０００ ｃという高抗磁
力になっている。このような高抗磁力テープに信号を記
録再生するには、センダストやアモルファス材を用いた
金属ヘッドが有効であり、従来より第６図、第７図構成
の金属ヘッドが考案されている。第６図はセンダストあ
るいは７モルフ７スの薄片２７の両側をフェライト２８
で挾み、左右のコアの付き合せ部を研磨してギャップ３
０を形成する１ＩＴ１のものである。なお、２９はガラ
ス等の非磁性材である。この構成はヘッド！！Ｊ造工程
が複雑であるため、第７図に示されるような暖造工程が
比較的容易な構成も提案されている。第７図では、フェ
ライト基板３２の一部にアモルファス等をスパッターに
より付着形成して＾磁束密度の磁性１３１ｉ３１を形成
し、この磁性１ｉ１１１３１の面を研磨し、かつガラス
等をギャップ材として２つの磁性５ｉｎ３１の園に所定
厚みに形成してヘッドギャップ３３を構成したものであ
る。
系合金粉末テープが実用に供されているが、合金粉末テ
ープの抗磁力は１３００〜１５０００ ｃという高抗磁
力になっている。このような高抗磁力テープに信号を記
録再生するには、センダストやアモルファス材を用いた
金属ヘッドが有効であり、従来より第６図、第７図構成
の金属ヘッドが考案されている。第６図はセンダストあ
るいは７モルフ７スの薄片２７の両側をフェライト２８
で挾み、左右のコアの付き合せ部を研磨してギャップ３
０を形成する１ＩＴ１のものである。なお、２９はガラ
ス等の非磁性材である。この構成はヘッド！！Ｊ造工程
が複雑であるため、第７図に示されるような暖造工程が
比較的容易な構成も提案されている。第７図では、フェ
ライト基板３２の一部にアモルファス等をスパッターに
より付着形成して＾磁束密度の磁性１３１ｉ３１を形成
し、この磁性１ｉ１１１３１の面を研磨し、かつガラス
等をギャップ材として２つの磁性５ｉｎ３１の園に所定
厚みに形成してヘッドギャップ３３を構成したものであ
る。
発明が解決しようとする問題点
しかし、これらの従来構成よりなる磁気ヘッドを、より
安定にかつ磁気ヘッドとしての性能を十分に発揮できる
ような製造方法はまだ確立されていない。
安定にかつ磁気ヘッドとしての性能を十分に発揮できる
ような製造方法はまだ確立されていない。
本発明はフェライトとアモルファス磁性材を接１ 合
するに際し、両材料を強固に、かつ接合時の材料変形が
少なく、しかも磁気ヘッドとしての性能が記録・再生と
も良好な特性を有する磁気ヘッド製造方法を提供するこ
とを目的とする。
するに際し、両材料を強固に、かつ接合時の材料変形が
少なく、しかも磁気ヘッドとしての性能が記録・再生と
も良好な特性を有する磁気ヘッド製造方法を提供するこ
とを目的とする。
問題点を解決するための手段
本発明の磁気ヘッド製造方法は、フェライト材の一面を
ｖＡ磨仕上げした後、この研磨面を酸性溶液中でエツチ
ングし更にエツチング後の研磨面の表面粗さを１μ−以
上に調整してこの研磨面にスパッタ法により合金を付着
積層してアモルファス磁性層を形成し、該アモルファス
磁性層の一部に前記フェライト材まで達する深さの切込
溝を形成した後、アモルファス面にＣｒをスパッターし
、このＣｒをスパッターした面及び前記切込溝中にガラ
スを溶融して充填し、しかる後アモルファス面に前記フ
ェライトに達する深さの巻線用の溝を形成し、かつ該ア
モルファス面を鏡面に研磨して第１の磁気コアを形成し
、また前記と同様にして前記巻線用溝のない第２の磁気
コアを形成し、第１、第２の磁気コアのうちの少なくと
も一方の磁気コアのアモルファス面にガラス材をスパッ
ター法にて所定厚みのｉＷ膜として形成し、前記第１、
ｉ１２のｌｉｍ気コアを前記ガラス薄膜層を介して、か
つ両コアの切込溝の位置を一致させるようにして接合し
加熱することで両コアを接着してヘッドギャップを形成
し、前記切込溝のほぼ中央部を前記ギ１ｒツブに対し所
定の角度で切断して磁気ヘッドを製造することを特徴と
する。
ｖＡ磨仕上げした後、この研磨面を酸性溶液中でエツチ
ングし更にエツチング後の研磨面の表面粗さを１μ−以
上に調整してこの研磨面にスパッタ法により合金を付着
積層してアモルファス磁性層を形成し、該アモルファス
磁性層の一部に前記フェライト材まで達する深さの切込
溝を形成した後、アモルファス面にＣｒをスパッターし
、このＣｒをスパッターした面及び前記切込溝中にガラ
スを溶融して充填し、しかる後アモルファス面に前記フ
ェライトに達する深さの巻線用の溝を形成し、かつ該ア
モルファス面を鏡面に研磨して第１の磁気コアを形成し
、また前記と同様にして前記巻線用溝のない第２の磁気
コアを形成し、第１、第２の磁気コアのうちの少なくと
も一方の磁気コアのアモルファス面にガラス材をスパッ
ター法にて所定厚みのｉＷ膜として形成し、前記第１、
ｉ１２のｌｉｍ気コアを前記ガラス薄膜層を介して、か
つ両コアの切込溝の位置を一致させるようにして接合し
加熱することで両コアを接着してヘッドギャップを形成
し、前記切込溝のほぼ中央部を前記ギ１ｒツブに対し所
定の角度で切断して磁気ヘッドを製造することを特徴と
する。
作用
このように、付き合せて接合される第１、第２の磁気コ
アは、フェライト材の表面を１μ亀以上の表面粗さに調
整した後にアモルファス磁性層をスパッタ法により形成
したため、フェライト材の反り聞を小さくでき、ギャッ
プ精度を向上ならびに磁気特性の劣化をなくすることが
できる。
アは、フェライト材の表面を１μ亀以上の表面粗さに調
整した後にアモルファス磁性層をスパッタ法により形成
したため、フェライト材の反り聞を小さくでき、ギャッ
プ精度を向上ならびに磁気特性の劣化をなくすることが
できる。
また、フェライト材の表面を１μ濡以上にした後にアモ
ルファス磁性層を形成すると、ギャップ部では、フェラ
イトコアとアモルファス磁性層との境界部は正規のギャ
ップとは平行でなく、１μ−前後の凹凸が生じており、
境界部で拾う不要信号を微小にできる。
ルファス磁性層を形成すると、ギャップ部では、フェラ
イトコアとアモルファス磁性層との境界部は正規のギャ
ップとは平行でなく、１μ−前後の凹凸が生じており、
境界部で拾う不要信号を微小にできる。
実施例
以下、本発明による磁気ヘッド製造方法を具体的な一実
施例に基づいて説明する。
施例に基づいて説明する。
第１図は完成した磁気ヘッドを示す。１．２ｔよそれぞ
れＭｎ−Ｚｎフェライト材よりなる磁気コア、３．４は
例えばＧｏ −Ｎｂ−Ｚｒを主成分とするアモルファス
磁性材である。アモルファス磁性材３．４の間にはＳｉ
Ｏ２等のガラス材の薄膜５が形成され、磁気ヘッドのギ
ャップを形成している。６および６′は磁気コア１．２
を接合する接着剤の役目をするガラスである。また、７
は巻線である。このような構成よりフェライト材よりな
る磁気コア１，２と、アモルファス磁性材３゜４をそれ
ぞれ強固に接合し、かつ、この接合部が信号の記録再生
時にヘッド特性に悪影響を及ぼすことのない新規構造の
磁気ヘッドである。
れＭｎ−Ｚｎフェライト材よりなる磁気コア、３．４は
例えばＧｏ −Ｎｂ−Ｚｒを主成分とするアモルファス
磁性材である。アモルファス磁性材３．４の間にはＳｉ
Ｏ２等のガラス材の薄膜５が形成され、磁気ヘッドのギ
ャップを形成している。６および６′は磁気コア１．２
を接合する接着剤の役目をするガラスである。また、７
は巻線である。このような構成よりフェライト材よりな
る磁気コア１，２と、アモルファス磁性材３゜４をそれ
ぞれ強固に接合し、かつ、この接合部が信号の記録再生
時にヘッド特性に悪影響を及ぼすことのない新規構造の
磁気ヘッドである。
第２図と第３図は第１図の磁気ヘッドの製造過程を示す
。
。
先ず、第２図ａに示すように！ｙｌｎ−７ｎフェライト
材８の一部に切欠き部９を形成する。次に切欠き部９を
設けた面ＩをＧ Ｃ＃ ２０００パウダーを用いてラッ
プし、続いてリン酸溶液中で前記ラップ面の表層部を１
μ慴エツチングにより除去する。
材８の一部に切欠き部９を形成する。次に切欠き部９を
設けた面ＩをＧ Ｃ＃ ２０００パウダーを用いてラッ
プし、続いてリン酸溶液中で前記ラップ面の表層部を１
μ慴エツチングにより除去する。
エツチング後のフェライト表面Ｉを電子線回折法で観察
したところ、はぼフェライト材表面の加工歪層は除去さ
れていた。またエツチング後のフェライト表面１の表面
粗さを測定したところ１．５μｍの表面粗さになってい
た。次に第２図すのようにフェライト表面Ｉにスパッタ
ー法によりＣＧ−Ｎｂ−Ｚｒ７モル７７７層１０を厚さ
Ｔに形成する。アモルファス層１０の厚さＴは磁気ヘッ
ドの使用目的により適当な値が存在するが、家庭用のビ
デオヘッドとして使用する場合には後述の加工工程も考
慮して４０μ−前後に設定することが望ましい。次に第
２図Ｃに示すごとく、切欠き部９とは反対側の磁気コア
端部に前記アモルファス材１０とフェライト材８の両方
に跨がるように、例えばワイヤーソーを用いて満１１を
形成する。残された部分１２の幅Ｗは磁気ヘッドのトラ
ック幅と同一になるように満１１を順次形成し、続いて
スパッター法によりアモルファス層１０上に薄いＣｒＪ
Ｉを形成する。これは次の工程で溝１１中にガラスを充
填する場合にガラスの流れを良好にするためである。
したところ、はぼフェライト材表面の加工歪層は除去さ
れていた。またエツチング後のフェライト表面１の表面
粗さを測定したところ１．５μｍの表面粗さになってい
た。次に第２図すのようにフェライト表面Ｉにスパッタ
ー法によりＣＧ−Ｎｂ−Ｚｒ７モル７７７層１０を厚さ
Ｔに形成する。アモルファス層１０の厚さＴは磁気ヘッ
ドの使用目的により適当な値が存在するが、家庭用のビ
デオヘッドとして使用する場合には後述の加工工程も考
慮して４０μ−前後に設定することが望ましい。次に第
２図Ｃに示すごとく、切欠き部９とは反対側の磁気コア
端部に前記アモルファス材１０とフェライト材８の両方
に跨がるように、例えばワイヤーソーを用いて満１１を
形成する。残された部分１２の幅Ｗは磁気ヘッドのトラ
ック幅と同一になるように満１１を順次形成し、続いて
スパッター法によりアモルファス層１０上に薄いＣｒＪ
Ｉを形成する。これは次の工程で溝１１中にガラスを充
填する場合にガラスの流れを良好にするためである。
Ｃｒ１ｌの形成が終ると、第２図ｄに示すように切欠き
部９にアモルファス層１０の結晶化温度より低い軟化温
度のガラス材１３を載せ、適当な雰囲気中にて加熱溶融
し、溝１１中へ前記ガラス材１３を流し込む。この状態
が第２図ｅに示されている。続いて余分なガラス材を除
去し、アモルファス層１０の表面を鏡面に研磨し、第２
図ｆのように巻線用の満１４を形成する。この場合、ア
モルファス１Ｉ１１０の表面は下地となっている。フェ
ライト材８の表面粗度の影響により、かなりの凹凸を有
しており、鏡面状に仕上げるためにはアモルファス表層
部を３〜５μ−程度端層する必要がある、このため、前
述のアモルファス層１０の厚みは、この研Ｊｅｆｆｉを
見込んである程度の厚さ、すなわら、４０μ−前後にし
ておくことが必要である。次に第２図りに示すように、
研磨されたアモルファス１１１１０の表面にスパッター
法により５ｉＯｚ等のギャップ材１５を所定の圧さに形
成して第１の磁気コア１６が完成する。
部９にアモルファス層１０の結晶化温度より低い軟化温
度のガラス材１３を載せ、適当な雰囲気中にて加熱溶融
し、溝１１中へ前記ガラス材１３を流し込む。この状態
が第２図ｅに示されている。続いて余分なガラス材を除
去し、アモルファス層１０の表面を鏡面に研磨し、第２
図ｆのように巻線用の満１４を形成する。この場合、ア
モルファス１Ｉ１１０の表面は下地となっている。フェ
ライト材８の表面粗度の影響により、かなりの凹凸を有
しており、鏡面状に仕上げるためにはアモルファス表層
部を３〜５μ−程度端層する必要がある、このため、前
述のアモルファス層１０の厚みは、この研Ｊｅｆｆｉを
見込んである程度の厚さ、すなわら、４０μ−前後にし
ておくことが必要である。次に第２図りに示すように、
研磨されたアモルファス１１１１０の表面にスパッター
法により５ｉＯｚ等のギャップ材１５を所定の圧さに形
成して第１の磁気コア１６が完成する。
次の第１の磁気コア１６と同様の手順により、第２図ｆ
における溝１４を設けていない第２の磁気コア１７を作
る。
における溝１４を設けていない第２の磁気コア１７を作
る。
第１と第２の磁気コア１６．１７が完成すると第３図の
ように第１第２の磁気コア１６と１７とを互いに突きあ
わだ状態にして、これを適当なる雰囲気中−で溝１１あ
るいは切欠き部９内のガラス材１３が軟化結合する温度
で加熱する。２０はギャップである。
ように第１第２の磁気コア１６と１７とを互いに突きあ
わだ状態にして、これを適当なる雰囲気中−で溝１１あ
るいは切欠き部９内のガラス材１３が軟化結合する温度
で加熱する。２０はギャップである。
次に前記１＃！１１１のほぼ中央を前記ギャップ２０に
対し所定の角度をもって切断線２１で切断し、個々の磁
気ヘッド片を得る。そして巻線用′Ｎ１４に巻線を起す
ことにより、第１図のような磁気ヘッドが完成する。
対し所定の角度をもって切断線２１で切断し、個々の磁
気ヘッド片を得る。そして巻線用′Ｎ１４に巻線を起す
ことにより、第１図のような磁気ヘッドが完成する。
上記の磁気ヘッドでは、第４図にも示すようにフエライ
［・材８の表面■にアモルファス層１０をスパッタ法に
より形成しているため、通常ではアモルファス層側が凸
に反りが生じる。例えば、長ざＬが２０＋ａｍ１厚さＨ
が１．５ｍｍのＭｎ−Ｚｎフェライトの表面Ｉの粗さを
約０．０５μｍに仕上げた後、リン酸溶液中でエツチン
グしてフェライト表層を約１μｍ除去したところ、前記
仕上げ面の粗さは０．４μ腸になった。次にその表面に
４０μ謬の厚さにアモルファスをスパッタしたところ反
りａｄは約７μ園であった。またフェライト表面■を０
．５μ−の表面粗さに仕上げた後、リン酸溶液中でエツ
チングによりアモルファス表層を約１μｍ除去したとこ
ろ、表面粗さは約１．５μｍであった。この表面に前記
と同様アモルファスをスパッタしたところ反りａｄは２
μｍであった。エツチング後のフェライト表面粗さを種
々変えて前記反りｆｆ１ｄを測定したところ、表面粗さ
が１μｍよりも小さくなると急に反り量が増大すること
がわかった。
［・材８の表面■にアモルファス層１０をスパッタ法に
より形成しているため、通常ではアモルファス層側が凸
に反りが生じる。例えば、長ざＬが２０＋ａｍ１厚さＨ
が１．５ｍｍのＭｎ−Ｚｎフェライトの表面Ｉの粗さを
約０．０５μｍに仕上げた後、リン酸溶液中でエツチン
グしてフェライト表層を約１μｍ除去したところ、前記
仕上げ面の粗さは０．４μ腸になった。次にその表面に
４０μ謬の厚さにアモルファスをスパッタしたところ反
りａｄは約７μ園であった。またフェライト表面■を０
．５μ−の表面粗さに仕上げた後、リン酸溶液中でエツ
チングによりアモルファス表層を約１μｍ除去したとこ
ろ、表面粗さは約１．５μｍであった。この表面に前記
と同様アモルファスをスパッタしたところ反りａｄは２
μｍであった。エツチング後のフェライト表面粗さを種
々変えて前記反りｆｆ１ｄを測定したところ、表面粗さ
が１μｍよりも小さくなると急に反り量が増大すること
がわかった。
反りの大きな状態で以後のヘッド製造工程を流すと、ギ
ャップ精度等の寸法精度が出ず、またフェライト材に機
械的応力がくねることになり磁気特性も劣化する。した
がって完成した磁気ヘッドの特性は不十分なものしか得
られない。しかし、本発明のようにエツチング後の表面
粗さを１μｍ１′ｌ。
ャップ精度等の寸法精度が出ず、またフェライト材に機
械的応力がくねることになり磁気特性も劣化する。した
がって完成した磁気ヘッドの特性は不十分なものしか得
られない。しかし、本発明のようにエツチング後の表面
粗さを１μｍ１′ｌ。
上にした場合は、ギャップ精度も良好で、ヘッド特性と
しても良好なものが得られた。
しても良好なものが得られた。
第５図ａは本発明により作られたヘッドのギャップ部を
示した図で、２２はフェライトコア、２３はアモルファ
ス層、２４はガラス、２５はギャップを示し、２６はフ
ェライト材とアモルファスとの境界を示す。本発明では
前述した通リフエライトの表面粗さを１μｍ以上に仕上
げた後、アモルファス層を形成しているため、境界部２
６はやはり１μ−以上の凹凸をもった線としてあられれ
る。一方、フェライト表面を鏡面状に仕上げた後、アモ
ルファス層を形成した場合には、両材料の境界部は第５
図すにおいて２６′で示されるごとく、ギャップ２５と
平行な直線状になり、例えばアモルファスとフェライト
のテープとの摺動による摩耗量に差があり、前記境界部
２６′ に多少の段差が生じた場合等、境界部２６′が
疑似的なギャップとなり、テープから不要な信号を再生
し、良好なる再生信号が得にくくなることがある。これ
に対し本発明の磁気ヘッドでは境界部２６は１μ−前後
の凹凸をなし、微指摘には正規のギャップ２５とは平行
になっていない。したがって、例え、この境界部２Ｂに
多少の段差が生じても、そこで拾う不要信号は極めて微
小なものになる。この点からも本発明の磁気ヘッドでは
良好なる記録再生特性を有する。
示した図で、２２はフェライトコア、２３はアモルファ
ス層、２４はガラス、２５はギャップを示し、２６はフ
ェライト材とアモルファスとの境界を示す。本発明では
前述した通リフエライトの表面粗さを１μｍ以上に仕上
げた後、アモルファス層を形成しているため、境界部２
６はやはり１μ−以上の凹凸をもった線としてあられれ
る。一方、フェライト表面を鏡面状に仕上げた後、アモ
ルファス層を形成した場合には、両材料の境界部は第５
図すにおいて２６′で示されるごとく、ギャップ２５と
平行な直線状になり、例えばアモルファスとフェライト
のテープとの摺動による摩耗量に差があり、前記境界部
２６′ に多少の段差が生じた場合等、境界部２６′が
疑似的なギャップとなり、テープから不要な信号を再生
し、良好なる再生信号が得にくくなることがある。これ
に対し本発明の磁気ヘッドでは境界部２６は１μ−前後
の凹凸をなし、微指摘には正規のギャップ２５とは平行
になっていない。したがって、例え、この境界部２Ｂに
多少の段差が生じても、そこで拾う不要信号は極めて微
小なものになる。この点からも本発明の磁気ヘッドでは
良好なる記録再生特性を有する。
発明の詳細
な説明のように本発明の磁気ヘッド製造方法は、フェラ
イト材の一面を研磨仕上げした後、この研磨面を酸性溶
液中でエツチングし、更にエツチング後の研磨面の表面
粗さを１μ−以上に調整してこの研磨面にスパッタ法に
より合金を付着積層してアモルファス磁性層を形成し、
該アモルファス磁性層の一部に前記フェライト材まで達
する深さの切込溝を形成した後、アモルファス面にＣｒ
をスパッターし、このＣｒをスパッターした面及び前記
切込溝中にガラスを溶融して充填し、しかる後アモルフ
ス面に前記フェライトに達する深さの巻線用の溝を形成
し、かつ該アモルファス面を鏡面にＴｉ４＊ｔ、、て第
１の磁気コアを形成し、また前記と同様にして前記巻線
用溝のない第２の磁気コアを形成し、第１、第２の磁気
コアのうちの少なくとも一方の磁気コアのアモルファス
面に゛ガラス材をスパッター法にて所定厚みの薄膜とし
て形成し、前記第１、第２の両磁気コアを前記ガラス薄
膜層を介して、かつ両コアの切込溝の位置を一致させる
ようにして接合し加熱することで両コアを接着してヘッ
ドギャップを形成し、前記切込溝のほぼ中央部を前記ギ
ャップに対し所定の角度で切断して磁気ヘッドを製造す
るため、次のような効果が得られる。
イト材の一面を研磨仕上げした後、この研磨面を酸性溶
液中でエツチングし、更にエツチング後の研磨面の表面
粗さを１μ−以上に調整してこの研磨面にスパッタ法に
より合金を付着積層してアモルファス磁性層を形成し、
該アモルファス磁性層の一部に前記フェライト材まで達
する深さの切込溝を形成した後、アモルファス面にＣｒ
をスパッターし、このＣｒをスパッターした面及び前記
切込溝中にガラスを溶融して充填し、しかる後アモルフ
ス面に前記フェライトに達する深さの巻線用の溝を形成
し、かつ該アモルファス面を鏡面にＴｉ４＊ｔ、、て第
１の磁気コアを形成し、また前記と同様にして前記巻線
用溝のない第２の磁気コアを形成し、第１、第２の磁気
コアのうちの少なくとも一方の磁気コアのアモルファス
面に゛ガラス材をスパッター法にて所定厚みの薄膜とし
て形成し、前記第１、第２の両磁気コアを前記ガラス薄
膜層を介して、かつ両コアの切込溝の位置を一致させる
ようにして接合し加熱することで両コアを接着してヘッ
ドギャップを形成し、前記切込溝のほぼ中央部を前記ギ
ャップに対し所定の角度で切断して磁気ヘッドを製造す
るため、次のような効果が得られる。
Ｏ突き合せて接合される第１、第２の磁気コアは、フェ
ライト材の表面を１μ−以上の表面粗さに調整した後に
アモルファス磁性層をスパッタ法により形成したため、
フェライト材の反り畿を小さくでき、ギャップ精度を向
上ならびに磁気特性の劣化をなくすることができる。
ライト材の表面を１μ−以上の表面粗さに調整した後に
アモルファス磁性層をスパッタ法により形成したため、
フェライト材の反り畿を小さくでき、ギャップ精度を向
上ならびに磁気特性の劣化をなくすることができる。
・また、フェライト材の表面１μ醜以上にした後にアモ
ルファス磁性層を形成すると、ギャップ部では、フェラ
イトコアとアモルファス磁性層との境界部は正規のギャ
ップとは平行でなく、１μ鶴前後の凹凸が生じており、
境界部で拾う不要信号を微小にできる。
ルファス磁性層を形成すると、ギャップ部では、フェラ
イトコアとアモルファス磁性層との境界部は正規のギャ
ップとは平行でなく、１μ鶴前後の凹凸が生じており、
境界部で拾う不要信号を微小にできる。
Ｏまた本発明のヘッド製造方法にしたがえば、アモルフ
ァスとフェライトとの接触面積が広くなり、両者間の接
着強度が大きく、加工中に境界部に剥離を生じることが
極めて少なくなった。その結果ヘッドの製造歩留りの向
上に有効であることが明らかになった。
ァスとフェライトとの接触面積が広くなり、両者間の接
着強度が大きく、加工中に境界部に剥離を生じることが
極めて少なくなった。その結果ヘッドの製造歩留りの向
上に有効であることが明らかになった。
第１図〜第３図は本発明の磁気ヘッド製造方法の具体的
な実施例を示し、第１図は本発明の製造方法により完成
した磁気ヘッドの斜視図、第２図と第３図は製造過程の
説明図、第４図はフェライト材の反り量の説明図、第５
図はギャップ部の説明図、第６図と第７図はそれぞれ従
来の磁気ヘッドの要部斜視図である。 ８・Ｍｎ−Ｚｎフェライト材、１０・Ｇｏ −Ｊｌｂ−
Ｚ「アモルファス層、１１・・・溝、１３・・・ガラス
材、１４・・・巻線用の溝、１５・・・ギャップ材、１
６・・・第１の磁気コア、１７・・・第２の磁気コア、
２０・・・ギャップ、２１・・・切断線、２６・・・境
界部 第１図 ／、 ２−−一石庇気フ了 ３．４−一−アＬルア１ス峯１社材 第２図 （Ｃ） （ｃｌ） （ｅ）（ｉ）
ｑノ 第３図 第４図 第４図 第７図
な実施例を示し、第１図は本発明の製造方法により完成
した磁気ヘッドの斜視図、第２図と第３図は製造過程の
説明図、第４図はフェライト材の反り量の説明図、第５
図はギャップ部の説明図、第６図と第７図はそれぞれ従
来の磁気ヘッドの要部斜視図である。 ８・Ｍｎ−Ｚｎフェライト材、１０・Ｇｏ −Ｊｌｂ−
Ｚ「アモルファス層、１１・・・溝、１３・・・ガラス
材、１４・・・巻線用の溝、１５・・・ギャップ材、１
６・・・第１の磁気コア、１７・・・第２の磁気コア、
２０・・・ギャップ、２１・・・切断線、２６・・・境
界部 第１図 ／、 ２−−一石庇気フ了 ３．４−一−アＬルア１ス峯１社材 第２図 （Ｃ） （ｃｌ） （ｅ）（ｉ）
ｑノ 第３図 第４図 第４図 第７図
Claims (1)
- １、フェライト材の一面を研磨仕上げした後、この研磨
面を酸性溶液中でエッチングし、更にエッチング後の研
磨面の表面粗さを１μｍ以上に調整してこの研磨面にス
パッタ法により合金を付着積層してアモルファス磁性層
を形成し、該アモルファス磁性層の一部に前記フェライ
ト材まで達する深さの切込溝を形成した後、アモルファ
ス面にＣｒをスパッターし、このＣｒをスパッターした
面及び前記切込溝中にガラスを溶融して充填し、しかる
後アモルァス面に前記フェライトに達する深さの巻線用
の溝を形成し、かつ該アモルファス面を鏡面に研磨して
第１の磁気コアを形成し、また前記と同様にして前記巻
線用溝のない第２の磁気コアを形成し、第１、第２の磁
気コアのうちの少なくとも一方の磁気コアのアモルファ
ス面にガラス材をスパッター法にて所定厚みの薄膜とし
て形成し、前記第１、第２の両磁気コアを前記ガラス薄
膜層を介して、かつ両コアの切込溝の位置を一致させる
ようにして接合し加熱することで両コアを接着してヘッ
ドギャップを形成し、前記切込溝のほぼ中央部を前記ギ
ャップに対し所定の角度で切断して磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッド製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6956185A JPS61227206A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 磁気ヘツド製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6956185A JPS61227206A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 磁気ヘツド製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61227206A true JPS61227206A (ja) | 1986-10-09 |
Family
ID=13406289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6956185A Pending JPS61227206A (ja) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | 磁気ヘツド製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61227206A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7928347B2 (en) * | 2006-04-12 | 2011-04-19 | Rohm Co., Ltd. | Heating unit and method of making the same |
-
1985
- 1985-04-01 JP JP6956185A patent/JPS61227206A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7928347B2 (en) * | 2006-04-12 | 2011-04-19 | Rohm Co., Ltd. | Heating unit and method of making the same |
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