JPH0775053B2 - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH0775053B2 JPH0775053B2 JP63194093A JP19409388A JPH0775053B2 JP H0775053 B2 JPH0775053 B2 JP H0775053B2 JP 63194093 A JP63194093 A JP 63194093A JP 19409388 A JP19409388 A JP 19409388A JP H0775053 B2 JPH0775053 B2 JP H0775053B2
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- Japan
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- head
- core
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTR等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘ
ッド及びその製造方法に関するものである。
ッド及びその製造方法に関するものである。
従来の技術 従来から磁気ヘッド用コア材として、フェライト材料が
用いられているが、近年の高密度記録化、高画質化の要
求にともない、高飽和磁束密度を有するパーマロイ、セ
ンダスト、アモルファス合金等の金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが脚光をあびている。その中でアモルファス合
金は、耐食性、耐摩耗性等の点で優れており、高性能磁
気ヘッドとして時に有望な材料である。
用いられているが、近年の高密度記録化、高画質化の要
求にともない、高飽和磁束密度を有するパーマロイ、セ
ンダスト、アモルファス合金等の金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが脚光をあびている。その中でアモルファス合
金は、耐食性、耐摩耗性等の点で優れており、高性能磁
気ヘッドとして時に有望な材料である。
磁気ヘッドの組立てにおいて、ギャップ面における両コ
ア半体の接合は、従来から信頼性の点で、ガラスの融着
により行なわれている。第３図は従来のアモルファス合
金を用いたヘッドの斜視図を示すもので、ヘッドコア11
はアモルファス合金により構成され、ヘッドコアの両側
を基板12で挟持した構造になっている。磁気ギャップは
非磁性材14と低融点ガラス15で構成され、両コア半体の
ギャップ面での接合は低融点ガラス15の融着により行な
われている。
ア半体の接合は、従来から信頼性の点で、ガラスの融着
により行なわれている。第３図は従来のアモルファス合
金を用いたヘッドの斜視図を示すもので、ヘッドコア11
はアモルファス合金により構成され、ヘッドコアの両側
を基板12で挟持した構造になっている。磁気ギャップは
非磁性材14と低融点ガラス15で構成され、両コア半体の
ギャップ面での接合は低融点ガラス15の融着により行な
われている。
アモルファス合金はその磁気特性を考慮すると従来のフ
ェライトヘッドで用いたように高融点ガラスを用いるこ
とはできない。アモルファス合金は一般的には第４図に
示すように、キュリー温度Tcで磁化が零となり、結晶化
温度Tx付近より再び磁化が出て来る。磁気ヘッドとして
の特性を考慮すると透磁率が高い程望ましく、高透磁率
を得るためには、Tc以上,Tx以下の温度領域で熱処理し
て磁性膜中の磁気異方性を取り除く必要がある。またTX
以上の温度になると、アモルファス合金は結晶化して、
透磁率が低下する。実用的には通常Txは500℃付近であ
り、Tcは磁気ヘッド材料としての飽和磁束密度を考慮す
れば、450℃付近以上となる。従って、アモルファス合
金を用いた両ヘッドコア半体のギャップ面における接合
に用いるガラスは、軟化点の低い低融点鉛ガラスしかな
い。軟化点を下げるにはガラス中の鉛の含有量を多くす
れば良いが、これを多くすればガラス自身が不安定にな
り、また機械的強度が低下するなどの問題が起こる。こ
のため現在のところ、軟化温度が350゜〜450℃付近の低
融点ガラスが実用に供されている。
ェライトヘッドで用いたように高融点ガラスを用いるこ
とはできない。アモルファス合金は一般的には第４図に
示すように、キュリー温度Tcで磁化が零となり、結晶化
温度Tx付近より再び磁化が出て来る。磁気ヘッドとして
の特性を考慮すると透磁率が高い程望ましく、高透磁率
を得るためには、Tc以上,Tx以下の温度領域で熱処理し
て磁性膜中の磁気異方性を取り除く必要がある。またTX
以上の温度になると、アモルファス合金は結晶化して、
透磁率が低下する。実用的には通常Txは500℃付近であ
り、Tcは磁気ヘッド材料としての飽和磁束密度を考慮す
れば、450℃付近以上となる。従って、アモルファス合
金を用いた両ヘッドコア半体のギャップ面における接合
に用いるガラスは、軟化点の低い低融点鉛ガラスしかな
い。軟化点を下げるにはガラス中の鉛の含有量を多くす
れば良いが、これを多くすればガラス自身が不安定にな
り、また機械的強度が低下するなどの問題が起こる。こ
のため現在のところ、軟化温度が350゜〜450℃付近の低
融点ガラスが実用に供されている。
発明が解決しようとする課題 このように、従来におけるアモルファス合金を用いた磁
気ヘッドのギャップ面における接合は、アモルファス合
金の結晶化温度Txが500℃程度という点から、低融点ガ
ラス５を用いなければならず、低融点ガラス５の機械的
強度の弱さの点より、機械加工中にギャップ面で割れが
発生し、ヘッドの歩留りを低下させたり、ヘッドのギャ
ップでの強度が弱いことから、ヘッドの信頼性を欠く等
の問題点が多く発生していた。本発明は、このような問
題点を解決した磁気ヘッド及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
気ヘッドのギャップ面における接合は、アモルファス合
金の結晶化温度Txが500℃程度という点から、低融点ガ
ラス５を用いなければならず、低融点ガラス５の機械的
強度の弱さの点より、機械加工中にギャップ面で割れが
発生し、ヘッドの歩留りを低下させたり、ヘッドのギャ
ップでの強度が弱いことから、ヘッドの信頼性を欠く等
の問題点が多く発生していた。本発明は、このような問
題点を解決した磁気ヘッド及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明の磁気ヘッドは、アモルファス合金からなるヘッ
ドコアの磁気ギャップを、前記アモルファス合金の結晶
化温度より低い結晶化温度を有する低融点結晶化ガラス
（以下結晶化ガラス）を非磁性材で挟持した構造のギャ
ップ材で構成し、ヘッドコアのギャップ面における接合
を前記低融点結晶化ガラスにより行うものである。ま
た、本発明の磁気ヘッドの製造方法としては、アモルフ
ァス合金からなるヘッドコア半体の磁気ギャップ面に、
非磁性材料を形成する工程と、前記非磁性材上に前記ア
モルファス合金の結晶化温度より低い結晶化温度を有す
る結晶化ガラスをスパッタリングで形成する工程と、両
コア半体を磁気ギャップ面で突き合わせ熱処理を施し、
前記低融点結晶化ガラスを溶融、結晶化させ、磁気ギャ
ップでの機械的強度を高めたコアバーを作成する工程
と、前記コアバーを所定のコア幅で切断し、磁気ヘッド
チップを完成させる工程とを有するものである。
ドコアの磁気ギャップを、前記アモルファス合金の結晶
化温度より低い結晶化温度を有する低融点結晶化ガラス
（以下結晶化ガラス）を非磁性材で挟持した構造のギャ
ップ材で構成し、ヘッドコアのギャップ面における接合
を前記低融点結晶化ガラスにより行うものである。ま
た、本発明の磁気ヘッドの製造方法としては、アモルフ
ァス合金からなるヘッドコア半体の磁気ギャップ面に、
非磁性材料を形成する工程と、前記非磁性材上に前記ア
モルファス合金の結晶化温度より低い結晶化温度を有す
る結晶化ガラスをスパッタリングで形成する工程と、両
コア半体を磁気ギャップ面で突き合わせ熱処理を施し、
前記低融点結晶化ガラスを溶融、結晶化させ、磁気ギャ
ップでの機械的強度を高めたコアバーを作成する工程
と、前記コアバーを所定のコア幅で切断し、磁気ヘッド
チップを完成させる工程とを有するものである。
作用 ２つのヘッドコア半体をギャップ面で接合させる熱処理
工程において、ギャップ面上の非磁性材上に形成した非
晶質状態の結晶化ガラスは、まず溶融して２つのヘッド
コア半体を接合させた後に、結晶化が進行し、ガラスの
強度が増大する。したがって、非晶質ガラスと同一の温
度で、ギャップ接合を行なうことができるとともに、接
合後は、結晶化によって強度が増大し、ヘッドコアのギ
ャップ面での接合力が高まり、ヘッド歩留り、およびヘ
ッドの信頼性が飛躍的に向上する。また結晶化ガラスと
ヘッドコア半体のギャップ面間の非磁性材は熱処理中に
結晶化ガラスとヘッドコア３を構成する磁性体とが反応
して、磁気特性を劣化させるのを防止する作用がある。
工程において、ギャップ面上の非磁性材上に形成した非
晶質状態の結晶化ガラスは、まず溶融して２つのヘッド
コア半体を接合させた後に、結晶化が進行し、ガラスの
強度が増大する。したがって、非晶質ガラスと同一の温
度で、ギャップ接合を行なうことができるとともに、接
合後は、結晶化によって強度が増大し、ヘッドコアのギ
ャップ面での接合力が高まり、ヘッド歩留り、およびヘ
ッドの信頼性が飛躍的に向上する。また結晶化ガラスと
ヘッドコア半体のギャップ面間の非磁性材は熱処理中に
結晶化ガラスとヘッドコア３を構成する磁性体とが反応
して、磁気特性を劣化させるのを防止する作用がある。
又非磁性材に結晶化ガラスをスパッタリングで形成する
ので、前記ガラスを非品質状態にすることができる。
ので、前記ガラスを非品質状態にすることができる。
実 施 例 以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。
磁気ヘッドコアはアモルファス合金からなるヘッドコア
１の両側を基板２で挟持した構造で、両ヘッドコア半体
のギャップ面での接合は、ヘッドコア１のギャップ面上
の非磁性材４上に形成した結晶化ガラス３の融着、結晶
化によって行なわれている。本実施例では結晶化ガラス
としては、軟化点が440℃である鉛含有結晶化ガラスを
用いている。６は接着ガラス層である。
磁気ヘッドコアはアモルファス合金からなるヘッドコア
１の両側を基板２で挟持した構造で、両ヘッドコア半体
のギャップ面での接合は、ヘッドコア１のギャップ面上
の非磁性材４上に形成した結晶化ガラス３の融着、結晶
化によって行なわれている。本実施例では結晶化ガラス
としては、軟化点が440℃である鉛含有結晶化ガラスを
用いている。６は接着ガラス層である。
次に本実施例の磁気ヘッドの製造工程を第２図に基づい
て説明する。第２図ａに示すように、まず基板２の片面
上にヘッドコア１となるべきアモルファス合金をスパッ
タリング等の薄膜作製法により形成する。さらにその基
板２の反対側に接着ガラス層６を形成する。本実施例で
は接着ガラスとして結晶化ガラスを用いた。なお本実施
例でのアモルファス合金の特性は飽和磁束密度Bs＝8300
gauss、結晶化温度Tx＝575℃、キュリー温度Tc＝500℃
であった。
て説明する。第２図ａに示すように、まず基板２の片面
上にヘッドコア１となるべきアモルファス合金をスパッ
タリング等の薄膜作製法により形成する。さらにその基
板２の反対側に接着ガラス層６を形成する。本実施例で
は接着ガラスとして結晶化ガラスを用いた。なお本実施
例でのアモルファス合金の特性は飽和磁束密度Bs＝8300
gauss、結晶化温度Tx＝575℃、キュリー温度Tc＝500℃
であった。
次に第２図ｂに示すように各基板２を重ね合わせ、加圧
熱処理することにより積層ブロック７を作成する。この
時の熱処理によって、接着ガラス層６は結晶化し、軟化
点が非晶質時に比べ約100℃上昇するので、以降の熱処
理によっても、この接着層は、ゆるみやはがれを生じな
い。
熱処理することにより積層ブロック７を作成する。この
時の熱処理によって、接着ガラス層６は結晶化し、軟化
点が非晶質時に比べ約100℃上昇するので、以降の熱処
理によっても、この接着層は、ゆるみやはがれを生じな
い。
続いて、前記積層ブロック７を加工することにより第２
図ｃに示すような一対のコアバー8a,8bを作成する。
図ｃに示すような一対のコアバー8a,8bを作成する。
第２図ｄに示すように片方のコアバー8aのギャップ面9a
に巻線溝10を形成し、ギャップ面9a,9bを平滑に研摩
し、所定の厚みのSiO2等の非磁性材４をスパッタリング
等の薄膜作成法で形成する。次にSiO2上に所定の厚みの
結晶化ガラス３をスパッタリングで形成する。この時Si
O2上に形成された結晶化ガラスは、スパッタリング法に
よるため、非晶質状態にある。本実施例ではSiO2の厚み
を500Å以上、結晶化ガススの厚みを100Å以上としてい
る。しかる後、第２図ｅに示すように各コアバー8a,8b
のギャップ面9a,9bを突き合わせて加圧熱処理する。こ
の熱処理工程ではSiO2上の結晶化ガラス３はまず溶融
し、融着をおこす。その後、徐々に結晶化が起こり、そ
の結果、非常に強固で、機械的強度の大きなギャップ接
合が実現できる。また本実施例で用いた結晶化ガラス３
は熱処理によってアモルファス合金と反応をおこし、も
ろくなる性質を有している。したがって本実施例では、
SiO2層を結晶化ガラス３とギャップ面間に形成し、これ
により結晶化ガラス３とアモルファス合金との熱処理に
よる反応を防止することができた。その後、所定のコア
幅に第２図ｅに示した切断線F1,F2より切り出し、ヘッ
ド前面を研摩して第１図に示したようなヘッドチップが
完成する。このようにして得られた磁気ヘッドは従来の
ヘッドに比べ、加工歩留りがすぐれ、また良質の磁気ギ
ャップが実現でき、ヘッドチップとしての信頼性も向上
した。
に巻線溝10を形成し、ギャップ面9a,9bを平滑に研摩
し、所定の厚みのSiO2等の非磁性材４をスパッタリング
等の薄膜作成法で形成する。次にSiO2上に所定の厚みの
結晶化ガラス３をスパッタリングで形成する。この時Si
O2上に形成された結晶化ガラスは、スパッタリング法に
よるため、非晶質状態にある。本実施例ではSiO2の厚み
を500Å以上、結晶化ガススの厚みを100Å以上としてい
る。しかる後、第２図ｅに示すように各コアバー8a,8b
のギャップ面9a,9bを突き合わせて加圧熱処理する。こ
の熱処理工程ではSiO2上の結晶化ガラス３はまず溶融
し、融着をおこす。その後、徐々に結晶化が起こり、そ
の結果、非常に強固で、機械的強度の大きなギャップ接
合が実現できる。また本実施例で用いた結晶化ガラス３
は熱処理によってアモルファス合金と反応をおこし、も
ろくなる性質を有している。したがって本実施例では、
SiO2層を結晶化ガラス３とギャップ面間に形成し、これ
により結晶化ガラス３とアモルファス合金との熱処理に
よる反応を防止することができた。その後、所定のコア
幅に第２図ｅに示した切断線F1,F2より切り出し、ヘッ
ド前面を研摩して第１図に示したようなヘッドチップが
完成する。このようにして得られた磁気ヘッドは従来の
ヘッドに比べ、加工歩留りがすぐれ、また良質の磁気ギ
ャップが実現でき、ヘッドチップとしての信頼性も向上
した。
発明の効果 アモルファス合金からなるヘッドコアのギャップ面にお
ける接合を、ヘッドコアのギャップ面上に形成した非磁
性材上の結晶化ガラスによって行なうことにより、ヘッ
ドコアのギャップ面での接合力が高まり、またガラス自
身の強度も大きいことから、磁気ヘッド加工時に生じて
いたギャップ割れ等の不良が減少し、磁気ヘッド製造の
歩留まりが飛躍的に向上するほか、ヘッドチップとして
の信頼性を高めることができる。また結晶化ガラスの中
の鉛の熱処理による磁性体中への拡散を、結晶化ガラス
とギャップ面間に設けた非磁性材により防止することに
より、良質のギャップが実現できる。このように、本発
明の製造方法により、従来量産化が非常に難しかったア
モルファス合金を用いた磁気ヘッドの量産化がはじめて
可能になった。
ける接合を、ヘッドコアのギャップ面上に形成した非磁
性材上の結晶化ガラスによって行なうことにより、ヘッ
ドコアのギャップ面での接合力が高まり、またガラス自
身の強度も大きいことから、磁気ヘッド加工時に生じて
いたギャップ割れ等の不良が減少し、磁気ヘッド製造の
歩留まりが飛躍的に向上するほか、ヘッドチップとして
の信頼性を高めることができる。また結晶化ガラスの中
の鉛の熱処理による磁性体中への拡散を、結晶化ガラス
とギャップ面間に設けた非磁性材により防止することに
より、良質のギャップが実現できる。このように、本発
明の製造方法により、従来量産化が非常に難しかったア
モルファス合金を用いた磁気ヘッドの量産化がはじめて
可能になった。
第１図は本発明の磁気ヘッドの実施例の斜視図、第２図
a,b,c,d,eは本発明方法の実施例における製造工程を示
す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第４図
はアモルファス合金の温度に対する磁化を示す特性図で
ある。 １……ヘッドコア、２……基板、３……結晶化ガラス、
４……非磁性材。
a,b,c,d,eは本発明方法の実施例における製造工程を示
す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第４図
はアモルファス合金の温度に対する磁化を示す特性図で
ある。 １……ヘッドコア、２……基板、３……結晶化ガラス、
４……非磁性材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−281111（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−54622（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−211317（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−108922（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】アモルファス合金からなるヘッドコアの磁
気ギャップが、前記アモルファス合金の結晶化温度より
低い結晶化温度を有する低融点結晶化ガラスを非磁性材
で挟持した構造のギャップ材から形成されていることを
特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】アモルファス合金からなるヘッドコア半体
の磁気ギャップ面に非磁性材を形成する工程と、前記非
磁性材上に前記アモルファス合金の結晶化温度より低い
結晶化温度を有する低融点結晶化ガラスをスパッタリン
グで形成する工程と、両コア半体を磁気ギャップ面で突
き合わせ熱処理を施し、前記低融点結晶化ガラスを溶
融、結晶化させ、磁気ギャップでの機械的強度を高めた
コアバーを作成する工程と、前記コアバーを所定のコア
幅で切断し、磁気ヘッドチップを完成させる工程とを有
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194093A JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| DE1989612987 DE68912987T2 (de) | 1988-08-03 | 1989-08-01 | Magnetkopf. |
| EP89307819A EP0353998B1 (en) | 1988-08-03 | 1989-08-01 | Magnetic Head |
| US07/762,739 US5170301A (en) | 1988-08-03 | 1991-09-18 | Magnetic head having core parts joined by low-melting point crystallized glass with composite gap |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194093A JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244509A JPH0244509A (ja) | 1990-02-14 |
| JPH0775053B2 true JPH0775053B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=16318832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63194093A Expired - Lifetime JPH0775053B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0353998B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0775053B2 (ja) |
| DE (1) | DE68912987T2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108922A (en) * | 1979-02-09 | 1980-08-21 | Tdk Corp | Magnetic head |
| JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| NL8202059A (nl) * | 1982-05-19 | 1983-12-16 | Philips Nv | Glas gekitte magneetkop en werkwijze voor zijn vervaardiging. |
| JPS6288109A (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-22 | Hitachi Ltd | アモルフアス磁性合金磁気ヘツドおよびその製法 |
| JPS62281111A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Toshiba Corp | 磁気ヘツド |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP63194093A patent/JPH0775053B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-01 EP EP89307819A patent/EP0353998B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-01 DE DE1989612987 patent/DE68912987T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68912987D1 (de) | 1994-03-24 |
| EP0353998B1 (en) | 1994-02-09 |
| JPH0244509A (ja) | 1990-02-14 |
| DE68912987T2 (de) | 1994-05-19 |
| EP0353998A1 (en) | 1990-02-07 |
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