JPH07282412A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 情報信号の高密度化や磁気記録媒体の高抗磁
力化に対応可能で、記録出力の良好な磁気ヘッドを提供
し、該磁気ヘッドを容易に製造する。 【構成】 基板３，４上に、基板３，４と同一組成とさ
れる酸化物磁性材料を、該基板３，４の成膜面より磁気
ギャップｇに近づくに従い、その膜厚方向で徐々に飽和
磁束密度が高くなるように成膜し、磁性体膜５，６を形
成して一対の磁気コア半体１，２を形成し、該磁性体膜
５，６を突き合わせ面としてこれら一対の磁気コア半体
１，２をギャップ接合する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー（以下、ＶＴＲと称する。）に搭載されて好適
な磁気ヘッド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に
おいては、情報信号の高密度化や使用する磁気記録媒体
の高抗磁力化が進められており、これに搭載される磁気
ヘッドにおいては、ギャップ部が飽和しやすくなり、十
分な記録が困難となってきている。

【０００３】そこで、これに対処するために磁気ヘッド
の分野においても研究が進められており、磁気コアに飽
和磁束密度の高い磁性金属材料を用いた磁気ヘッドが種
々開発されている。このような磁気ヘッドの代表的なも
のとしては、磁性フェライト材等の酸化物磁性材料を主
コアとし、磁性金属材料を磁気ギャップ近傍部に配した
メタル・イン・ギャップヘッド（いわゆるＭＩＧヘッ
ド）が挙げられる。

【０００４】上記ＭＩＧヘッドは、一対の磁気コア半体
をギャップ接合したものである。上記磁気コア半体は磁
性フェライト材等よりなる基板に磁性金属材料よりなる
金属磁性膜が被着形成されたものであり、磁気ギャップ
は上記金属磁性膜の突き合わせ面間に形成されることと
なる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なＭＩＧヘッドにおいては、基板を構成する磁性フェラ
イト材等の酸化物磁性材料と金属磁性膜を構成する磁性
金属材料の物理的特性の差から、製造工程が複雑となる
といった不都合が生じている。また、上記のような物理
的特性の差から電気抵抗が小さく、透磁率が小さくなる
という不都合も生じている。

【０００６】さらに、基板と金属磁性膜の界面が擬似ギ
ャップとして動作する可能性が高く、これを防ぐために
は、上記金属磁性膜を磁気ギャップに対して非平行に成
膜する必要があり、ＭＩＧヘッドの製造工程を一層煩雑
なものとしている。

【０００７】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、情報信号の高密度化や使用する磁気
記録媒体の高抗磁力化に対応可能であり、電気抵抗が大
きく、透磁率も良好で、擬似ギャップの発生が抑えら
れ、記録出力の良好な磁気ヘッド及び該磁気ヘッドを容
易に製造することを可能とする磁気ヘッドの製造方法を
提供する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者等が鋭意検討した結果、飽和磁束密度の高
い金属磁性膜の代わりに飽和磁束密度を調整した酸化物
磁性材料よりなる磁性体膜を用いれば、ＭＩＧヘッドと
同様の機能を有する磁気ヘッドを形成できることを見い
出した。

【０００９】すなわち、本発明は、少なくとも一方の磁
気コア半体が磁性体膜と酸化物磁性材料よりなる基板と
からなり、該磁性体膜を突き合わせ面としてこれら一対
の磁気コア半体をギャップ接合した磁気ヘッドにおい
て、上記磁性体膜が、基板と同一組成とされる酸化物磁
性材料を、該基板の成膜面よりギャップ部に近づくに従
い、その膜厚方向で徐々に飽和磁束密度が高くなるよう
に成膜したものであることを特徴とするものである。

【００１０】なお、上記磁気ヘッドにおいては、酸化物
磁性材料が磁性フェライト材であることが好ましい。

【００１１】また、本発明の磁気ヘッドを製造するに
は、少なくとも一方の磁気コア半体を酸化物磁性材料よ
りなる基板上に磁性体膜を形成したものとし、上記磁性
体膜を突き合わせ面として一対の磁気コア半体をギャッ
プ接合する磁気ヘッドの製造方法において、磁性体膜を
基板上に形成するに際し、該基板と同一組成を有する酸
化物磁性材料を、該基板の成膜面よりギャップ部に近づ
くに従い、その膜厚方向で除々に飽和磁束密度が高くな
るように成膜すれば良い。

【００１２】さらに、本発明の磁気ヘッドを製造する磁
気ヘッドの製造方法としては、酸化物磁性材料よりなる
基板の一主面に、膜厚方向に飽和磁束密度が除々に高く
なるように該基板と同一組成を有する酸化物磁性材料を
成膜し、磁性体膜を形成する工程と、上記基板の主面に
磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝
を形成し、一対の磁気コア半体ブロックを形成する工程
と、上記一対の磁気コア半体ブロックを、トラック幅規
制溝同士の位置合わせを行った上でギャップ接合する工
程と、上記接合一体化された磁気コア半体ブロックを磁
気ヘッド毎にチップ切断する工程を有するものが挙げら
れる。

【００１３】さらにまた、本発明の磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッドの製造方法としては、酸化物磁性材料より
なる基板の一主面に、磁気ギャップのトラック幅を規制
するトラック幅規制溝を形成する工程と、上記基板の主
面にトラック幅規制溝内を含めて膜厚方向に飽和磁束密
度が除々に高くなるように該基板と同一組成を有する酸
化物磁性材料を成膜して磁性体膜を形成し、一対の磁気
コア半体ブロックを形成する工程と、上記一対の磁気コ
ア半体ブロックを、トラック幅規制溝同士の位置合わせ
を行った上でギャップ接合する工程と、上記接合一体化
された磁気コア半体ブロックを磁気ヘッド毎にチップ切
断する工程を有するものも挙げられる。

【００１４】なお、これらの磁気ヘッドの製造方法にお
いては、酸化物磁性材料が磁性フェライト材であること
が好ましい。

【００１５】

【作用】本発明の磁気ヘッドにおいては、少なくとも一
方の磁気コア半体を磁性体膜と酸化物磁性材料よりなる
基板とからなるものとし、上記磁性体膜を、基板と同一
組成とされる酸化物磁性材料が、該基板の成膜面よりギ
ャップ部に近づくに従い、その膜厚方向で徐々に飽和磁
束密度が高くなるように成膜されたものとしているた
め、上記磁性体膜がＭＩＧヘッドの金属磁性膜と同様の
機能を果たす。従って、上記磁性体膜を突き合わせ面と
してこれら一対の磁気コア半体をギャップ接合した本発
明の磁気ヘッドは、ＭＩＧヘッドと同様の機能を有する
ものとなる。

【００１６】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、基
板と磁性体膜を同一組成の酸化物磁性材料により構成
し、磁性体膜の飽和磁束密度を膜厚方向に除々に高めて
いることから、基板と磁性体膜間に物理的特性の差が生
じ難く、電気抵抗が大きくなり、透磁率が良好となる。
さらに、基板と磁性体膜の界面が擬似ギャップとして機
能しにくい。

【００１７】また、本発明の磁気ヘッドを製造するに
は、基板の上に磁性体膜を形成するべく、該基板と同一
組成を有する酸化物磁性材料を、該基板の成膜面よりギ
ャップ部に近づくに従い、その膜厚方向で除々に飽和磁
束密度が高くなるように成膜することとなるが、これら
の間には物理的特性の差が生じ難いことから、その製造
工程は簡略化される。さらに、本発明の磁気ヘッドを製
造するにあたっては、基板と磁性体の界面が擬似ギャッ
プとして機能し難いことから、磁性体膜を磁気ギャップ
に対して非平行に形成する必要もなく、製造工程が簡略
化される。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図１に示すように、一対の磁気コア半体
１，２がその突き合わせ面１ａ，２ａを突き合わせ、ギ
ャップ接合されたものである。

【００１９】上記一対の磁気コア半体１，２は、Ｍｎ−
Ｚｎ系或いはＮｉ−Ｚｎ系の磁性フェライト材等の酸化
物磁性材料よりなる基板３，４の各々の対向面３ａ，４
ａ上に上記基板３，４と同一組成を有する酸化物磁性材
料よりなる磁性体膜５，６が形成されてなるものであ
る。すなわち、磁性体膜５，６間に磁気ギャップｇが形
成されることとなり、本実施例においては上記磁気ギャ
ップｇがアジマス角を有するものとなされている。な
お、本実施例においては、基板３，４及び磁性体膜５，
６をＭｎ−Ｚｎ系の磁性フェライト材により構成した。

【００２０】そして、上記磁性体膜５，６は基板３，４
よりも飽和磁束密度が高いものとなされ、基板３，４と
同一組成を有する酸化物磁性材料が該基板３，４の成膜
面よりギャップ部に近づくに従い、その膜厚方向で徐々
に飽和磁束密度が高くなるように成膜されたものとなさ
れている。

【００２１】さらに、基板３，４には磁気ギャップｇの
トラック幅を規制するトラック幅規制溝７，８がそれぞ
れ設けられており、上記トラック幅規制溝７，８間の空
隙部には融着ガラス９が充填されて磁気コア半体１，２
を接合一体化している。

【００２２】本実施例の磁気ヘッドにおいては、磁性体
膜５，６がＭＩＧヘッドの金属磁性膜と同様の機能を果
たし、該磁気ヘッドはＭＩＧヘッドと同様の機能を有す
る。従って、信号情報の高密度化や使用する磁気記録媒
体の高抗磁力化に十分対応可能である。

【００２３】また、本実施例の磁気ヘッドにおいては、
基板３，４と磁性体膜５，６を同一組成の酸化物磁性材
料により構成し、磁性体膜５，６の飽和磁束密度を膜厚
方向に除々に高めていることから、基板３，４と磁性体
膜５，６間に物理的特性の差が生じ難く、電気抵抗が大
きくなり、透磁率が良好となる。さらに、基板３，４と
磁性体膜５，６の界面が擬似ギャップとして機能しにく
い。従って、本実施例の磁気ヘッドの記録出力は良好と
なる。

【００２４】次に、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
ついて述べる。先ず、図２及び図３に示すように、Ｍｎ
−Ｚｎ系磁性フェライト材よりなる基板１１の一主面１
１ａに、Ｍｎ−Ｚｎ系磁性フェライト材よりなる磁性体
膜１２をスパッタリング或いは蒸着等の真空薄膜形成技
術により形成する。

【００２５】このとき、上記磁性体膜１２は、Ｍｎ−Ｚ
ｎ系磁性フェライト材を、基板１１よりも飽和磁束密度
が高く、図３中矢印Ｔで示す膜厚方向に飽和磁束密度が
除々に高くなるように成膜して形成する。

【００２６】上記のような磁性フェライト材よりなる磁
性体膜１２の飽和磁束密度を高めるには、スパッタリン
グ或いは蒸着の際の投入電力を高め、磁性体膜１２中の
Ｆｅの含有量を高めれば良い。従って、磁性体膜１２を
形成する際、投入電力を除々に高めれば、磁性体膜１２
の飽和磁束密度を膜厚方向に除々に高めることができ
る。

【００２７】本実施例においては基板１１を構成するＭ
ｎ−Ｚｎ系磁性フェライト材の飽和磁束密度を０．４〜
０．４５Ｔ程度としているため、磁性体膜１２の膜厚方
向の飽和磁束密度の分布を図４に示すように、最下層の
飽和磁束密度が０．４Ｔ程度とされ、膜厚方向に徐々に
高まり、最上層の飽和磁束密度が０．６Ｔ程度とされる
ものとした。

【００２８】次に、図５に示すように磁性体膜１２の形
成された基板１１の磁性体膜１２側に該磁性体膜１２の
一部を切り欠くように、後工程で形成される磁気ギャッ
プのトラック幅を規制する複数のトラック幅規制溝１３
を形成し、磁気コア半体ブロック１４を形成する。

【００２９】続いて、上記磁気コア半体ブロック１４と
同様の磁気コア半体ブロックを形成する。そして、上記
一対の磁気コア半体ブロック１４の磁性体膜１２形成面
に、例えばＳｉＯ₂ 等のギャップ膜を形成する。次に、
上記一対の磁気コア半体ブロック１４のトラック幅規制
溝１３同士の位置合わせを行う。続いて、一対の磁気コ
ア半体ブロック１４のトラック幅規制溝１３同士の間の
空隙部に融着ガラスを充填し、ギャップ接合する。

【００３０】そして、上記接合一体化された磁気コア半
体ブロックを磁気ヘッド毎にチップ切断して図１に示す
ような磁気ヘッドを完成する。

【００３１】本実施例の磁気ヘッドの製造方法において
は、基板１１と磁性体膜１２を同一組成の磁性フェライ
ト材により構成し、磁性体膜１２の飽和磁束密度を膜厚
方向に除々に高めていることから、これらの間に物理的
特性の差が生じ難く、基板１１と磁性体膜１２の反応を
防止する下地膜等の形成が不要となり、従来よりも製造
工程が簡略化され、生産性が向上する。

【００３２】そして、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、基板３，４と磁性体膜５，６の界面が擬似ギャップ
として機能し難いことから、これを上記のような方法で
製造する際、磁性体膜１２を磁気ギャップに対して非平
行に成膜する必要もなく、製造工程が簡略化される。

【００３３】上述の磁気ヘッドの製造方法においては、
基板１１上に磁性体膜１２を形成した後に複数のトラッ
ク幅規制溝１３を形成して磁気コア半体ブロック１４を
形成したが、図６に示すように基板２１の一主面２１ａ
に複数のトラック幅規制溝２３を形成した後に、一主面
２１ａのトラック幅規制溝２３内も含めて磁性体膜２２
を形成して磁気コア半体ブロック２４を形成しても良
い。

【００３４】そして、上述の実施例と同様に、上記磁気
コア半体ブロック２４とこれと同様の磁気コア半体ブロ
ックを接合一体化し、磁気ヘッド毎にチップ切断する
と、図７に示すような磁気ヘッドが完成する。

【００３５】上記磁気ヘッドは上述の実施例の磁気ヘッ
ドと略同様の構成を有し、一対の磁気コア半体３１，３
２がその突き合わせ面３１ａ，３２ａを突き合わせ、ギ
ャップ接合されたものである。なお、重複する部分につ
いては説明を省略する。

【００３６】上記磁気ヘッドが、先に説明した磁気ヘッ
ドと大きく異なる点は、磁気コア半体３１，３２の基板
３３，３４のトラック幅規制溝３７，３８内にも磁性体
膜３５，３６が形成されている点である。

【００３７】このような磁気ヘッドにおいても、上述の
実施例の磁気ヘッドと同様の効果が期待される。また、
上記のような製造方法にも上述の実施例と同様の効果が
期待される。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、少なくとも一方の磁気コア半体が磁性体膜と酸化
物磁性材料よりなる基板とからなり、該磁性体膜を突き
合わせ面としてこれら一対の磁気コア半体をギャップ接
合した磁気ヘッドにおいて、上記磁性体膜を、基板と同
一組成とされる酸化物磁性材料が、該基板の成膜面より
ギャップ部に近づくに従い、その膜厚方向で徐々に飽和
磁束密度が高くなるように成膜されたものとしている。
従って、上記磁性体膜がＭＩＧヘッドの金属磁性膜と同
様の機能を果たし、本発明の磁気ヘッドはＭＩＧヘッド
と同様の機能を有することとなり、情報信号の高密度化
や使用する磁気記録媒体の高抗磁力化に十分対応可能と
なる。

【００３９】また、本発明の磁気ヘッドにおいては、基
板と磁性体膜を同一組成の酸化物磁性材料により構成
し、磁性体膜の飽和磁束密度を膜厚方向に除々に高めて
いることから、基板と磁性体膜間に物理的特性の差が生
じ難く、電気抵抗が大きくなり、透磁率が良好となる。
さらに、基板と磁性体膜の界面が擬似ギャップとして機
能しにくい。従って、本発明の磁気ヘッドの記録出力は
良好となる。

【００４０】また、本発明の磁気ヘッドを製造するに
は、少なくとも一方の磁気コア半体を酸化物磁性材料よ
りなる基板上に磁性体膜を形成したものとし、上記磁性
体膜を突き合わせ面として一対の磁気コア半体をギャッ
プ接合する磁気ヘッドの製造方法において、磁性体膜を
基板上に形成するに際し、該基板と同一組成を有する酸
化物磁性材料を、該基板の成膜面よりギャップ部に近づ
くに従い、その膜厚方向で除々に飽和磁束密度が高くな
るように成膜すれば良く、磁性体膜と基板間に物理的特
性の差が生じ難いことから、製造工程が簡略化され、生
産性が向上する。

【００４１】さらに、本発明の磁気ヘッドを製造するに
あたっては、基板と磁性体の界面が擬似ギャップとして
機能し難いことから、磁性体膜を磁気ギャップに対して
非平行に形成する必要もなく、製造工程が簡略化され、
生産性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す要部
拡大平面図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、基板上に磁性体膜を形成す
る工程を示す斜視図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、基板上に磁性体膜を形成す
る工程を示す要部拡大側面図である。

【図４】磁性体膜の膜厚と飽和磁束密度の関係を模式的
に示す特性図である。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、基板にトラック幅規制溝を
形成する工程を示す要部拡大斜視図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法におい
て、基板にトラック幅規制溝を形成し、磁性体膜を形成
する工程を示す要部拡大斜視図である。

【図７】本発明を適用した磁気ヘッドの他の例を示す要
部拡大平面図である。

【符号の説明】

１，２，３１，３２ 磁気コア半体 １ａ，２ａ，３１ａ，３２ａ 突き合わせ面 ３，４，１１，２１，３３，３４ 基板 ３ａ，４ａ 対向面 ５，６，１２，２２，３５，３６ 磁性体膜 ７，８，１３，２３ トラック幅規制溝 １１ａ，２１ａ 一主面 １４，２４ 磁気コア半体ブロック ｇ 磁気ギャップ Ｔ 膜厚方向

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも一方の磁気コア半体が磁性体
   膜と酸化物磁性材料よりなる基板とからなり、該磁性体
   膜を突き合わせ面としてこれら一対の磁気コア半体をギ
   ャップ接合した磁気ヘッドにおいて、 上記磁性体膜は、基板と同一組成とされる酸化物磁性材
   料を、該基板の成膜面よりギャップ部に近づくに従い、
   その膜厚方向で徐々に飽和磁束密度が高くなるように成
   膜したものであることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 酸化物磁性材料が磁性フェライト材であ
   ることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 少なくとも一方の磁気コア半体を酸化物
   磁性材料よりなる基板上に磁性体膜を形成したものと
   し、上記磁性体膜を突き合わせ面として一対の磁気コア
   半体をギャップ接合する磁気ヘッドの製造方法におい
   て、 磁性体膜を基板上に形成するに際し、該基板と同一組成
   を有する酸化物磁性材料を、該基板の成膜面よりギャッ
   プ部に近づくに従い、その膜厚方向で除々に飽和磁束密
   度が高くなるように成膜することを特徴とする磁気ヘッ
   ドの製造方法。
4. 【請求項４】 酸化物磁性材料が磁性フェライト材であ
   ることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッドの製造方
   法。
5. 【請求項５】 酸化物磁性材料よりなる基板の一主面
   に、膜厚方向に飽和磁束密度が除々に高くなるように該
   基板と同一組成を有する酸化物磁性材料を成膜し、磁性
   体膜を形成する工程と、 上記基板の主面に磁気ギャップのトラック幅を規制する
   トラック幅規制溝を形成し、一対の磁気コア半体ブロッ
   クを形成する工程と、 上記一対の磁気コア半体ブロックを、トラック幅規制溝
   同士の位置合わせを行った上でギャップ接合する工程
   と、 上記接合一体化された磁気コア半体ブロックを磁気ヘッ
   ド毎にチップ切断する工程を有する磁気ヘッドの製造方
   法。
6. 【請求項６】 酸化物磁性材料が磁性フェライト材であ
   ることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドの製造方
   法。
7. 【請求項７】 酸化物磁性材料よりなる基板の一主面
   に、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規
   制溝を形成する工程と、 上記基板の主面にトラック幅規制溝内を含めて膜厚方向
   に飽和磁束密度が除々に高くなるように該基板と同一組
   成を有する酸化物磁性材料を成膜して磁性体膜を形成
   し、一対の磁気コア半体ブロックを形成する工程と、 上記一対の磁気コア半体ブロックを、トラック幅規制溝
   同士の位置合わせを行った上でギャップ接合する工程
   と、 上記接合一体化された磁気コア半体ブロックを磁気ヘッ
   ド毎にチップ切断する工程を有する磁気ヘッドの製造方
   法。
8. 【請求項８】 酸化物磁性材料が磁性フェライト材であ
   ることを特徴とする請求項７記載の磁気ヘッドの製造方
   法。