JPS61258311A - 磁気ヘツド - Google Patents

磁気ヘツド

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Publication number
JPS61258311A
JPS61258311A JP9986785A JP9986785A JPS61258311A JP S61258311 A JPS61258311 A JP S61258311A JP 9986785 A JP9986785 A JP 9986785A JP 9986785 A JP9986785 A JP 9986785A JP S61258311 A JPS61258311 A JP S61258311A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystallized glass
ferrite
gap
magnetic
glass
Prior art date
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Pending
Application number
JP9986785A
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English (en)
Inventor
Shunsaku Muraoka
俊作 村岡
Terumasa Sawai
瑛昌 沢井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP9986785A priority Critical patent/JPS61258311A/ja
Publication of JPS61258311A publication Critical patent/JPS61258311A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録再生装置に用いる磁気ヘッドに関する
ものである。
従来の技術 従来より磁気ヘッド材料として、センダストやパーマロ
イなどの金属磁性材料、あるいはフェライトが用いられ
てきたが、近年登場してきた高抗磁力、高密度記録媒体
の使用においては、高飽和磁束密度を有する金属磁性材
料が適している。しかし、耐摩耗性の点でフェライトに
劣るので、近年では耐摩耗性の優れた金属磁性材料とし
て、アモルファス合金が脚光をあびている。ところで、
アモルファス合金はその製造法上厚いものを作るのが困
難なため、その両側を基板で挾み機械的強度を得る構造
としている。従来はその基板材料として、非磁性であり
且熱膨張係数が比較的アモルファス合金のそれに近くま
た耐摩耗性の良好な結晶化ガラスが用いられていた。第
2図とに従来の結晶化ガラス基板アモルファスヘッドの
構造を示す。1はアモルファス層であシ、結晶化ガラス
基板2に挾まれている。このサンドイッチ構造を有する
複合体コアはその半休ごとに作成されてその一方に巻線
溝3が形成され、ギャップ4を構成して低融点ガラス5
によりは接合されている。
この結晶化ガラス基板アモルファスヘッドの製造法は、
第2図b−dに示すとおりである。まず第2図すに示す
ように結晶化ガラス基板2上にトラック幅に応じた厚み
のアモルファス層1をスパッタリングにより形成した後
、その両側を結晶化ガラス基板2で挾んだ構造のプレー
トを形成する。
そのときの接合はガラス融着によりなされる。その後、
第2図Cに示すようにそのプレートを適当な間融で切断
し、一対のコアバーesa、ebを形成し、その一方に
巻線溝3を形成する。それらのギャップ面7に51o2
等のギャップ材をスパッタした後、巻線溝3内の低融点
ガラス5を溶融させて、ギャップ形成を行なう。その後
第2図dに示すように、必要なコア幅8に切断してヘッ
ドチップにする。
発明が解決しようとする問題点 従来の結晶化ガラス基板アモルファスヘッドでは、その
製造において、第2図中c、  dに示すように結晶化
ガラスを切断する工程があるが、結晶化ガラスは従来の
フェライトなどに比べ加工性が悪く、その結果、ヘッド
の製造能率が極めて悪いという問題があった。
問題点を解決するだめの手段 金属磁性材料の両側を結晶化ガラスと結晶化ガラスに比
べ加工性の良好な材料との複合材料から成る基板で挾持
したコア材を用い、前記金属磁性材料により磁路及び作
動ギャップを形成した。
作  用 金属磁性材料は、従来通り結晶化ガラスで挾持される構
成になっているので、ヘッドの特性やギャップ形成にお
けるギャップ幅の精度、およびテープとのインターフェ
ース上の関係は、従来の結晶化ガラス基板アモルファス
ヘッドと同等に保ち、かつ主として加工性の良好な材料
部を加工することにより作成できるため、従来に比べ加
工能率を数段向上させることができる。
実施例 第1図は本発明による結晶化ガラスと結晶化ガラスに比
べ、加工性の良好な材料との複合材料基板でアモルファ
スコアを挾持した構造の磁気ヘッドの実施例を示す。本
実施例では結晶化ガラスに比べ、加工性の良い材料とし
てフェライトを用いた。フェライトを用いた理由として
は、その他セラミック材料の中でフェライトが加工性上
として研削性の優れた材料のひとつであることが実験に
より確められたからである。1はアモルファス層であり
、結晶化ガラス2とフェライト9との複合基板により挾
持されている。結晶化ガラス2とフェライト9との接合
は、ギャップ形成時にギャップ面4が動かないように、
ギャップ形成温度(480℃)以上の軟化点を持つ高融
点ガラス10による融着で行なわれる。第3図にこのヘ
ッドの製造実施例を示す。第3図とに示すように、まず
フェライト基板9の両側を結晶化ガラス基板2で挾んだ
構造の基板を作成した。この時の結晶化ガラス基板2と
フェライト基板9との接合は高融点ガラス10による融
着により行なわれた。次に第3図すに示すように、この
基板の両側に、トラック幅に相当する厚みのアモルファ
ス層1をスパッタリングにより形成してアモルファス基
板11とした。本実施例でのアモルファス磁性合金とし
てはCo −Nb −Z rを主成分とする金属磁性材
料を用いた。次に第3図Cに示すように、そのアモルフ
ァス基板11の両側を、前記と同様のフェライト9と結
晶化ガラス2の複合材料からなる補助基板・12で、結
晶化ガラス2側がアモルファス層1側にくるように、挾
持した。この場合アモルファス基板11と補助基板12
との接合は、軟化点がギャップ形成温度(480℃)に
近い低融点ガラスで行なわれた。次に以上の工程により
作成されたプレートを第3図dに示すように、数個の短
冊状コアブロックに切断し、コア半休13aに巻線溝3
を設けた。この切断および巻線溝入れ工程は、第2図C
に示す従来ヘッドのこの工程と比較して、結晶化ガラス
部が薄く、フェライト部と一緒に切断するので、加工能
率は従来の結晶化ガラス部の切断に比べ、数段良くなっ
た。次にコア半休13a。
13bのギャップ面14にギャップ長に応じた厚みの5
iO2層をスパッタリングで形成した後、左右コア3を
付き合わせ、巻線溝3内の低融点ガラス5を溶融して、
ギャップ形成を行なった。その後第3図eに示すように
必要なコア幅16に切断してヘッドチップを完成させた
。この切断工程において、切断箇所14はフェライト部
であるので、第2図dに示すような従来の結晶化ガラス
部の切断に比べ、切断能率は著しく良くなった。
尚、補助基板に用いる加工性の良好な材料として磁性材
料であるフェライトを用いた場合、フェライト基板部に
もギャップができ、磁気コアとして作用してしまう問題
がある。そこで、以上の問題を防ぐため、第1図に示す
ように、フェライト基板9がテープ摺動面に接触しない
ように、フェライト基板9のテープ摺動部を研削して落
とした構造とすることが望ましい。
第4図は他の実施例を示し、結晶化ガラスとフェライト
との複合材料基板形成をギャップ近傍が結晶化ガラスと
なるように行なった場合である。
そのヘッドの構造を第4図aに示す1はアモルファス層
であり、ギャップ4近傍のアモルファス層は結晶化ガラ
ス基板2で、それ以外はフェライト基板9により挾持さ
れている。結晶化ガラス2とフェライト9との接合はギ
ャップ形成温度(48ac)以上の軟化点を持つ高融点
ガラス10による融着で行なわれる。このヘッドの製造
法を第4図b〜dに示す。まず第1のフェライト基板9
0両側に凹部を設けた後、その凹部内に結晶化ガラスブ
ロック2を高融点ガラス10による融着で組み込み、補
助基板を作成する。その後、第4図すに示すように両面
を平滑に研摩し、両面にアモルファス層をスパッタリン
グによシ形成し、その両側を前記補助基板で挾持した構
成のプレートを作製する。
以下磁気ヘッドへの加工工程は、前記実施例と同様であ
るが、第4図dに示すように、ヘッドチップへの切断は
、この実施例では結晶化ガラス部を通って行なわれた。
しかし、第2図dに示す従来の切断に比べ、本実施例で
は、結晶化ガラスとフェライトとを一緒に切断するので
、加工性は従来よりも向上した。この実施例での磁気ヘ
ッドは第4図aに示すように、ギャップ近傍の補助基板
が、非磁性の結晶化ガラスであるため、第1の実施例の
ようなテープ摺動面におけるフェライトの研削は必要と
しなかった。また結晶化ガラスとして、熱により結晶核
が成長し、結晶化する性質のガラスを用いると結晶化ガ
ラス2とフェライト9との接合を高融点ガラスで行なう
必要はなく、フェライト基板9の凹部に前記性質のガラ
スを溶かし込み、再加熱により結晶化させることにより
、フェライト基板内の凹部に結晶化ガラスを組み込むこ
とができた。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明により、磁気ヘッドの特
性は従来の結晶化ガラス基板アモルファスヘッドの特性
と変わらず、加工性は従来よりも極めて優れた構造の磁
気ヘッドを提供することができ、ヘッドの製産性を向上
させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視図
、第2図aは従来の磁気ヘッドの構造を示す斜視図、同
図b−dは従来ヘッドの製造工程を示す斜視図、第3図
は第1図実施例の磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図、
第4図は本発明の他の実施例の磁気ヘッド構成及び製造
工程を示す斜視図である。 1・・・・・・アモルファス層、2・・・・・・結晶化
ガラス、4・・・・・・磁気ギャップ、9・・・・・・
フェライト。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名リ 
                   −へ    
                梠、)(

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)金属磁性材料の両側を結晶化ガラスと結晶ガラス
    に比べ加工性の良好な材料との複合材料から成る基板で
    挾持したコア材を用い、前記金属磁性材料により磁路及
    び作動ギャップを形成した磁気ヘッド。 (2)金属磁性材料がアモルファス磁性材料であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッド。 (2)結晶化ガラスと加工性の良好な材料をガラスで接
    合したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁
    気ヘッド。 (4)加工性の良好な材料がフェライトであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッド。
JP9986785A 1985-05-10 1985-05-10 磁気ヘツド Pending JPS61258311A (ja)

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JPS61258311A true JPS61258311A (ja) 1986-11-15

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