JPH01109504A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気ヘッドに関し、より具体的には、ＶＴＲ
等の磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関する
ものである。

従来の技術 従来から磁気ヘッド用コア材として、フェライト材料が
用いられているが、近年の高密度記録化、高画質化の要
求にともない、高飽和磁束密度を有するパーマロイ、セ
ンダスト、アモルファス合金等の金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが脚光をあびている。この中でアモルファス合
金は、耐食性、耐磨耗性等の点で優れており、高性能磁
気ヘッドとして特に有望な材料である。

磁気ヘッドの組立てにおいて、ギャップ面における両コ
アの接合は、従来から信顆性の点で、ガラスの融着によ
り行われている。第３図（ａ）は、従来におけるフェラ
イトを用いた磁気ヘッドの斜視図を示すもので、ヘッド
コア２１全体はフェライトから構成されており、ヘッド
両コア半休のギャップ２２面における接合は、ヘッドコ
ア２１のギャップ２２面内に設けた溝中のガラス２３の
融着により行われている。また、ヘッド摺動面に設けた
消は、ヘッドのトラック幅を規制している。この場合、
用いられているガラス２３は、フェライトが熱的に非常
に安定な材料であるため、軟化点が７００℃付近の高融
点ガラスが用いられており、機械的強度が大きいので、
機械加工に耐え得る安定なギャップ２２面での接合が実
現できている。

しかし高性能磁気ヘッド材料として有望なアモルファス
合金は、その磁気特性を考慮すると、フエライトヘッド
で用いたような高融点ガラスを用いることはできない、
アモルファス合金は一般的には第４図に示すように、キ
ュリー温度Ｔｃで磁化が零となり、結晶化温度Ｔｘ付近
より再び磁化が出て来る。磁気ヘッドとしての特性を考
慮すると透磁率が高い程望ましく、高透磁率を得るため
には、Ｔｃ以上Ｔｘ以下の温度領域で熱処理して磁性膜
中の磁気異方性を取り除く必要がある。またＴｘ以上の
温度になると、アモルファス合金は、結晶化して、透磁
率が低下する。

また、上記ＴＣとＴｘが逆転した材料もあるが、この材
料の場合は、通常の熱処理では、高透磁率は得られず、
磁場中熱処理などの特殊な熱処理が必要で、実用上問題
があり、通常は第４図に示した特性のアモルファス合金
が使用される。実用的には通常Ｔｘは５００℃付近であ
り、Ｔｃは磁気ヘッド材料としての飽和磁束密度を考慮
すれば、４５０°Ｃ付近以上となる。従って、アモルフ
ァス合金を用いたヘッド両コア半休のギャップ面におけ
る接合に用いるガラスは、軟化点の低い低融点鉛ガラス
しかない、軟化点を下げるにはガラス中の鉛の含有量を
多くすれば良いが、これを多くすればガラス自身が不安
定になり、また機械的強度が低下するなどの問題が起こ
る。このため現在のところ、軟化温度が４００〜５００
℃付近のガラスが実用に供されている。第３図（ｂ）は
、従来におけるアモルファス合金を用いた磁気ヘッドの
斜視図を示す、磁気ヘッド２４はアモルファス合金ヘッ
ドコア２５の両側を基板２６で挟持した構造になってお
り、ヘッド両コア半休のギャップ２７面での接合は、フ
ェライトヘッドと同様に、ヘッドコアのギャップ２７面
内に設けた溝中の低融点ガラス２８の融着により行われ
ている。またヘッド摺動面に現われる溝は、フェライト
ヘッドの場合と異なり、ヘッドのトラック幅を規制しな
い。

発明が解決しようとする問題点 このように、従来におけるアモルファス合金を用いた磁
気ヘッド２４のギャップ２７面における接合は、アモル
ファス合金の結晶化度Ｔｘが５００℃程度という点から
、低融点ガラス２８を用いなければならず、低融点ガラ
ス２８の機械的強度の弱さの点より、機械加工中にギャ
ップ２７面で割れが発生し、ヘッド歩留りを低下させた
り、ヘッドのギヤ・ツブ２７での強度が弱いことから、
ヘッドの信頼性を欠く等の問題点が多く発生していた。

本発明は、このような問題点を解決した磁気へ・ソドを
提供することを目的とする。

問題を解決するための手段 本発明は、例えばアモルファス合金からなるヘッドコア
のギャップ面における接合を、ヘッドコアのギャップ面
内に設けた溝中の結晶化ガラスによって行なうものであ
る。

作用 ２つのヘッドコア半休をギャップ面で接合させる熱処理
工程において、ギャップ面内の溝中に設けた結晶化ガラ
スは、まず溶融して２つのヘッドコア半休を接合させた
後に、結晶化が進行し、ガラスの強度が増大する。した
がって、非晶質ガラスと同一の温度で、ギャップ接合を
行なうことができるとともに、接合後は結晶化によって
強度が増大し、ヘッドコアのギャップ面での接合力が高
まり、ヘッド歩留り、およびヘッドの信頼性が飛躍的に
向上する。

実施例 以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。

磁気ヘッド１０は、アモルファス合金からなるヘッドコ
ア１の両側を接着ガラス層３を介して基板２で挟持した
構造で、ヘッド両コア半休のギャップ５面での接合は、
ヘッドコアのギャップ５面内に設けたガラスモールド涌
８中の結晶化ガラス４の融着、結晶化によって行われて
いる。なお、図中６は従来と同様に設けた巻線漬、７は
同じく補強講である。また本実施例では基板２は４１！
磁性基板を用いているので、ヘッド摺動面に現れるガラ
スモールド？１ｌＩ８はヘッドのトラック幅を規制して
いない。

次に本実施例の磁気ヘッド１０の製造工程を第２図に基
づいて説明する。第２図（ａ）に示すように、まず基板
２の片面上にヘッドコア１となるべきアモルファス合金
をスパッタリング等の薄膜作製技術により形成する。さ
らにその基板２の反対側に、接着ガラス層３を形成する
。本実施例では接着ガラスとして結晶化ガラスを用いた
。接着ガラス層３の形成方法としては、結晶化ガラスの
粉末を所定の厚みに塗布しておき、結晶化が起こらない
ように比較的低温（４８０℃）で短時間焼付けておく（
グレーズ熱処Ｉり。従ってグレーズ熱処理後の接着ガラ
ス層３は非晶質状態である。なお本実施例でのアモルフ
ァス合金の特性は飽和磁束密度Ｂｓ　＝８０００　ｑａ
ｕｓｓ、結晶化温度Ｔｘ＝５６Ｑ℃、キュリー温度ＴＣ
＝４５０℃であった。

次に第２図（ｂ）に示すように各基板２を重ね合わせ、
加圧熱処理することにより、積層ブロック１１を作成す
る。この時の熱処理によって、接着ガラス層３は、結晶
化し、軟化点が非晶質時に比べ約１００℃上昇するので
、以降の熱処理によっても、この接着層は緩み、はがれ
を生じない。

続いて、前記積層ブロック１１を加工することに−よっ
て第２図（Ｃ）に示すような一対のコアパー１２ａ　、
　１２ｂを作成する。そして片方のコアパー１２ａのギ
ャップ面１３ａ内に巻線溝６、補強溝７、ガラスモール
ド溝８を形成し、他方のコアパー１２ｂのギャップ面１
３ｂ内にはガラスモールド溝８を形成する。そめ後上記
谷溝６，７．８中に結晶化ガラス粉を入れて、結晶化が
起こらないように、比較的低温（４８０℃）で短時間熱
処理する。このようにして、第２図（ｄ）に示したよう
に、谷溝６，７゜８中に非晶質状態の結晶化ガラス４を
形成する。

更に、巻線溝６を再加工して巻線溝６の先端だけにガラ
スが残るようにする。その後各コアパー１２ａ　、　１
２ｂのギャップ面１３ａ　、　１３ｂを平滑に研磨し、
所定の厚みの８１０２等のギャップ材をスパッタリング
等の手法で形成したうえ、第２図（ｅ）に示すように各
コアパー１２ａ　、　１２ｂのギャップ面１３ａ　、　
１３ｂを突き合わせて加圧熱処理する。この熱処理工程
では、各溝６，７．８中の非晶質状態の結晶化ガラス４
は、まず軟化し、融着をおこす。

その後、徐々に結晶化が起こり、その結果、非常に強固
で、機械的強度の大きなギャップ接合が実現できる。シ
、かる後、所定のコア幅に第２図（１３）に示した切断
Ｉｉ９，９′より切り出し、ヘッド前面を研磨して第１
図に示したようなヘッドチップが完成する。このように
して得られた磁気ヘッド１０は、従来のヘッドに比べ、
加工歩留りがすぐれ、ヘッドチップとしての信頼性も向
上した。

本実施例でのアモルファス合金の形成はスパッタリング
によるものであったが、スパッタリングに限定されるも
のではなく、蒸着、あるいは超急冷によるリボンアモル
ファスでも良い、また結晶化ガラス４の性質は主として
析出結晶の種類によって決定され、結晶化ガラス４の用
途に対して望ましい結晶が得られるように組成、熱処理
温度を決めれば良い。

なお本実施例では、アモルファス合金が単相のものにつ
いて述べたが、合金膜の渦を流損失を防いで、更に高周
波領域での特性を良くするために、合金膜と、層間絶縁
材料を交互に形成した積層コアを使用しても良い、また
本発明は、アモルファス合金を用いた磁気へラド１０だ
けに限定されるものではなく、他の金属磁性体や、フェ
ライト等の酸化物磁性体を用いた磁気ヘッドに応用して
も良い。

発明の効果 ヘッドコアのギャップ面における接合を、ヘッドコアの
ギャップ面内に設けた講中の結晶化ガラスによって行な
うことにより、ヘッドコアのギャップ面での接合力が高
まり、またガラス自身の強度も大きいことから、磁気ヘ
ッド加工時に生じていたギャップ割れ等の不良が減少し
、磁気ヘッドＩＪｌ！遺の歩留りが飛躍的に向上するほ
か、ヘッドチップとしての信頼性をも高めることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明磁気ヘッドの実施例の斜視図、第２図（
ａ）、　（ｂ）、　（ｃ）、　（ｄ）、　（ｅ）は本発
明磁気ヘッドの実施例の製造工程を示す斜視図、第３図
（ａ）。 （ｂ）は従来の磁気ヘッドの斜視図、第４図はアモルフ
ァス合金の温度に対する磁化を示す特性図である。 １・・・ヘッドコア　２・・・基板　３・・・接着ガラ
ス層４・・・結晶化ガラス　５・・・ギャップ　６・・
・巻ｉ渭７・・・補強溝　８・・・ガラスモールド清特
許出願人　　松下電器産業株式会社 第１図 （ａ） （ｂ） 第３図 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ヘッドコアのギャップ面が、前記ギャップ面内に
   設けた溝中の結晶化ガラスによって接合されていること
   を特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）前記ヘッドコアが、アモルファス合金により形成
   されていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
   に記載の磁気ヘッド。