JPS63249913A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 ２ベー、・ 本発明はＶＴＲやＤＡＴ等に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。

従来の技術 近年、磁気記録の高密度化、高画質化に伴ない、磁気ヘ
ッドとして、高飽和磁束密度、狭トラツク化等が要求さ
れている。これらの要求を満たすものとして、センダス
トやアモルファスなどの金属磁性層を、蒸着やスパッタ
リング等の薄膜形成技術により基板上に形成し、磁気コ
アを形成する手法が多く用いられている。ところで金属
磁性層は、狭トラツクにすると機械的強度が弱く、また
耐摩耗性も悪くなるので、それらの特性の向上のため従
来から金属磁性層の両側を基板で挾持した構造として用
いられている。

第３図に従来の磁気ヘッドの構造を示す。金属磁性層１
の両側を基板２で挾持した構造である。

このヘッドの作製方法は、ガラスやセラミックス等の基
板２上に金属磁性層１をスパッタリング等の手法により
形成し、その金属磁性層１上に８１０２等の保護層６を
形成する。次に前記基板の金属磁３へ 性層の形成されていないもう片面に接着ガラス層３を形
成する。このようにして作製した基板を数枚重ね、接着
ガラスの融着により接着させ金属磁性層の両側を基板で
挾持した構造のブロックを作製する。次にこのブロック
を短冊状に切断し、巻線溝を形成し所定のギャップ長に
なるような非磁性材をギャップ面７に形成し、その後、
コアバーどおしを対向接着し、所定のコア中に切断して
ヘッドチップとする。

発明が解決しようとする問題点 第４図に従来の磁気ヘッドの摺動面の様子を示す。ヘッ
ド摺動面には、金属磁性層１、基板２、接着ガラス層３
、保護層６が現われている。その中で従来の磁気ヘッド
においては、接着ガラス層３内に数多くの気泡８が見ら
れるという欠点があった。この気泡の発生原因は、接着
ガラス３を基板２に焼付けた際に、基板と接着ガラスと
のぬれ性が悪いために接着ガラス表面の凹凸の大きさく
表面粗さ）が大きく、金属磁性層と基板とを接着する際
に接着ガラス内に空気を取り込み、気泡となると考えら
れる。このような気泡８が摺動面に発生すると、ヘッド
摺動時に、その気泡内に、ヘッドのけずり粉、媒体磁性
粉、潤滑材粉、あるいはゴミなどがたまり、いわゆる目
づまり現象となって、ヘッド出力の低下、あるいはヘッ
ド損傷等が引き起こされていた。

問題点を解決するだめの手段 少なくともギャップ近傍が非磁性体で構成された基板で
金属磁性層の両側を挾持し、前記金属磁性層と前記非磁
性基板との接合を接着ガラスで行なったコアであって、
前記非磁性基板と前記接着ガラスとの間に金属層を設け
る。

作用 基板上に金属層を成形し、その上に接着ガラスを焼付け
たものは、接着ガラスと金属層とのぬれ性が良好なため
に同じ焼付温度でも、非磁性基板上に直接、接着ガラス
を燃付けたものに比べ、焼付後の接着ガラス表面の凹凸
の大きさく表面粗さ）が小さく、金属磁性層と基板とを
接着する際に、接着ガラス層に空気をとり込みにくくな
る。したがって接着ガラス層内の気泡を減少させること
ができ、良好なヘッド製造が可能となる。

実施例 本発明の構成の実施例を第１図に示す。金属磁性層１０
両側を基板２で挾持し、基板２と接着ガラス層３との間
に金属層４を形成した構造になっている。本実施例では
基板としては非磁性基板を用いた。このヘッドの作製方
法は、まずガラスやセラミックス等の基板２０片面に金
属磁性層１をスパッタリングにより形成し、その金属磁
性層１上に５ｉ０２等の保護層６を形成する。この保護
層は接着ガラスによって金属磁性層が侵蝕されるのを防
ぐだめのものである。次に、基板２の金属磁性層のつい
ていないもう片面にＯｒ等の金属層をスパッタリングに
より形成し、その金属層上に接着ガラス層を形成する。

このようにして金属磁性層と接着ガラス層を形成した基
板を第６図に示すように数枚積み重ね、接着ガラスを溶
融させて、金属磁性層と基板とを接着し、金属磁性層の
両側を基板で挾持した構造のブロックを作製する。次に
このブロックを第７図に示すように短冊状に切６ベー） 断して一対のコアバーを作製し、一方のコアバーに巻線
溝８を形成し、ギャップ面７を平滑に研磨した後、所定
のギャップ長になるようなＳ：Ｌｏ２等の非磁性材を形
成し、その後、コアバーどおしをギャップ面で対向接着
し、所定のコア中に切断してヘッドチップを得る。本実
施例では、金属磁性層としてＧｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系のアモ
ルファス合金を用い、第２図に示すように磁気コアとな
る金属磁性層を５ｉ０２等の層間絶縁層９を介した積層
構造とした。これは積層構造にすることにより、渦電流
損失を少なくして高周波領域における磁気特性を良好に
するためである。またこのアモルファス合金の結晶化温
度は５６０℃であるために製造工程中に熱を加えられる
のは、４８０’Ｃ３時間以内という制約がある。したが
って接着ガラスとしては、４８０℃で作業できる鉛系ガ
ラスを用いた。金属層上に接着ガラスを形成する方法と
しては、本実施例では、まず接着ガラス粉を金属層上に
塗布し、その後４８０℃で焼付けする方法をとった。こ
のようにして作製されたヘッドは、従来のヘッドに７へ 比べ、接着ガラス層内の気泡がきわめて少なく、ヘッド
目づまり起こしにくいという結果を得た。

第５図は、本実施例で用いた基板−ヒに接着ガラスを焼
付けた際の接着ガラスの表面粗さδを各焼付温度別に°
示したものである。各焼付温度において、Ｏｒ上下地あ
るものの方が、ないものに比べ、表面粗さδが小さくな
っている。焼付温度Ｔｇ＝４８０℃では、表面粗さδが
基板上ではδ−０，７５μｍに対してＯｒ下地上ではδ
−０，３５μｍと約半分であった。このことから本実施
例では、基板上にＯｒ等の金属層を設けることによって
接着ガラスのぬれ性が良くなり、焼付状態での接着ガラ
ス表面の凹凸が小さくなって、金属磁性層と基板との接
着の際に空気を取り込みにくくなったために、接着ガラ
ス層内に気泡のない良好なヘッドが得ることができたと
考えられる。

本実施例では金属層としてＯｒを用いたが、Ｃｒの他に
もＴｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ、５においてもａｒと同様の効
果が得られた。また接着ガラスとして結晶化ガラスを用
いる場合においては、焼付後の接着ガラスの表面粗さは
、一般に非晶質ガラスに比べ大きく、接着ガラス層内の
気泡が生じ易い傾向にあった。したがって金属層の効果
は、非晶質ガラスのときに比べ、より顕著であった。ま
た本実施例では、金属磁性層の形成はスパッタリングに
よって行なったが、スパッタに限定されるものではなく
、蒸着法などによっても可能である。また超急冷法によ
るリボンアモルファスでもよい。ただしリボンアモルフ
ァスの場合は第８図に示すように接着ガラス層３を金属
磁性１０両側に配置した構成となる。

発明の効果 金属磁性層の両側を基板で挾持し、前記金属磁性層と前
記基板との接合を接着ガラスで行なった磁気コアにおい
て、前記基板と前記接着ガラスとの間に金属層を設ける
ことによって、接着ガラスの流動性を良くし、従来見ら
れていた接着ガラス層内の気泡を減らすことができる。

その結果、接着ガラス層内の気泡によるヘッド目づまり
が解消でき、目づ丑りによる出力低下、ヘッド損傷など
を抑制できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例の構成を示
す斜視図、第２図は本発明による磁気ヘッドの一実施例
の摺動面を示す平面図、第３図は従来の磁気ヘッドの構
成を示す斜視図、第４図は従来の磁気ヘッドの摺動面を
示す平面図、第５図ａ、ｂはそれぞれ基板に接着ガラス
を焼付けた時の接着ガラスの表面粗さを示す断面図およ
び特性図、第６図、第７図は本発明による磁気ヘッドの
一製造工程を示す斜視図、第８図は本発明による磁気ヘ
ッドの第２の実施例の構成を示す斜視図である。 １・・・・・・金属磁性層、２・・・・・・基板、３・
・・・・接着ガラス層、４・・・・・・金属層、５・・
・・・・低融点ガラス、６・・・・・・保護層、７・・
・・・・ギャップ面、８・・・・・・巻線溝、９・・・
・・・絶縁層。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名１−
４一番犠社４ ２−　基械 シーーＪ伊ゼｈ“クス１ 第　２　図　　　　　　　　　　　　　　　　７−　￥
゛ヤ、ノゲ佃ｑ−一一忙ｌｌ イＫ　ｒｔ　ａｌ’Ｌ　　Ｔ＞　（・ｃ）第　８　図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくともギャップ近傍が非磁性体で構成された
   基板で金属磁性層の両側を挾持し、前記金属磁性層と前
   記基板との接合を接着ガラスで行なったコアであって、
   前記基板と前記接着ガラスとの間に金属層を設けたこと
   を特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）金属磁性層がアモルファス磁性層であることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
3. （３）接着ガラスが結晶化ガラスであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
4. （４）金属層がＣｒ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌのいずれ
   かで構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の磁気ヘッド。