JPS63269310A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 Ｘ発央４Ｃ；゛デ丁＝−：”、−：　−／　　以τＴ：
王二いう）やデジタルオーディオチーブレコーダ（以下
ｐムＴという）等に用いられる磁気ヘッドおよびその製
造方法に関するものである。

従来の技術 近年、磁気ヘッドはＶＴＲ＋ＤＡＴ等の磁気記録におい
て、高密度記録化が進み、狭トランク化。

狭ギャップ化が必要とされている。

また、磁気へラドコアの材料として、耐摩耗性が良く飽
和磁束密度や透磁率が高くかつ、保磁力が低いなどコア
材料に要求される優れた特性を有する非晶質合金が注目
されている。

以下に、従来のこの種の磁気ヘッドについて説明する。

第３図は、従来の非晶質合金等の金属磁性膜を用いた磁
気ヘッドを示し、第３図ａはその斜視図、第３図すはそ
の平面図を示している。１′は金属磁性膜、２′は非磁
性基板、３′はギャップ材、４′は巻ｍＶで、この種の
磁気ヘッドは、金属磁性膜１′を薄膜や薄帯に加工して
非磁性基板２′で挾持した構造であり、また、このとき
のギャップ形成は前記金属磁性膜１′と非磁性基板２′
からなる一対のへラドコア半体ｓ／　、　ｅ　／を形成
して、ギャップ面において接着ガラスのギャップ材３′
を介して突き合わせて形成するものであった。ここで、
ＶＴＲ−ＤＡＴ等のヘッドとテープ間の相対速度が非常
に高速となる装置においては、磁気ヘッドはかなり強固
なギャップ接合強度が必要になり、そのため、できる限
り高い融点を有する接着ガラスがギャップ材に用いられ
ていた。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記の従来の構成では、金属磁性膜を薄
膜や薄帯にする加工方法は機械的な切削加工により行な
っているので、狭トラツク化を図ることは精度的にかな
りむずかしくなっている０また、金属磁性膜のトラック
幅精度はギャップ面での突き合わせ精度に依存するため
、数μという単位の突き合わせ技術は精度的にかなりむ
ずかしくなっている。

一方、ギャップ形成においても、ガラス系などの接着剤
を用いている限り、その流動性に起因するギャップ接合
部のゆるみや接着剤の流れ出し等が生じ、所望のギャッ
プ長精度を得るのがむずかしくなっている。さらに、金
属磁性膜に非晶質合金を用いる場合、非晶質合金の特性
上、結晶化温度以下でギャップ形成を行う必要があり、
このために低融点の接着ガラスを用いるため、十分なギ
ャップ接合強度が得にくくなっている。また、ガラス系
の接着剤の軟化点を低下させるには、接着ガラス中に多
量の酸化鉛や酸化はう素を加えるため、非晶質合金が浸
食されやすくなるという問題が生じている。

次に、従来の方法で金属磁性膜を多層膜に形成しようと
すると、機械加工では限界があり、また、たとえできた
としても、突き合わせ精度に限界があるため、多層膜を
形成し、かつ、狭トラツク化を図ることは、技術的に無
理であった。

本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、ＶＴ
Ｒ−ＤＡＴ等に用いられる磁気ヘッドとして十分なギャ
ップ接合強度を有し、かつ、狭ギャップ化、狭トラツク
化を容易に達成できる磁気ヘッドを提供し、また、この
磁気ヘッドを歩留り良く製造する製造方法を提供するこ
とを目的としている。

問題点を解決するための手段 この目的を達成するために本発明の磁気ヘッドは、第１
金属磁性膜の少なくともギャップ近傍を非磁性基板で挾
持した積層体を構成し、この積層体の積層方向に巻線窓
を形成し、かつこの積層体のギャップ面に第２金属磁性
膜を、その膜圧方向がギャップ面の法線方向と同一方向
になるように構成したものである。なお、第１．第２金
属磁性膜には非晶質合金を用いることができ、また、第
１金属磁性膜には非晶質合金と電気的絶縁薄膜が交互に
積層された多層膜とすることができる。

作用 上記本発明の構造により、磁気ヘッドのトラック幅精度
は、従来の磁気ヘッドのように一対のへラドコア半休の
突き合わせによる精度ではなく、片側のヘッドコア半休
の磁性膜厚だけで規制することができ、トラック幅精度
を非常に高めることができる。また、本発明の構造によ
り、金属磁性膜に非晶質合金を用いて、薄膜全スパッタ
リングにより形成することができ、機械的な切削加工よ
りもかなりの精度で膜厚を制御できることから、精度よ
く狭トラツク化が達成される。

次に、本発明の構造により、磁気ヘッドのギャップ形成
において、溶融を必要とする接着剤を用いずにスパッタ
リングのみによりギャップ形成を行うことができ、ギャ
ップ長精度を非常に良好なものにすることができる。ま
た、高融点の５ｉ０２等のギャップ材と非晶質合金の金
属磁性膜との接着強度は強固であり、ギャップ接合とし
ては十分な接合強度が得られ、したがって、精度よく狭
ギャップ化も達成される０ さらに、本発明の構造により、磁気ヘッドの第１金属磁
性膜と非晶質合金と電気的絶縁膜とを交互に積層した多
層膜で形成することができ、この多層膜の形成にはスパ
ッタリングが用いられるので精度よく狭トラツク化が実
現される。そして、この多層膜により、高周波における
うず電流損失を抑えることができ、高周波領域まで高透
磁率を得ることができる。

実施例 以下本発明の一実施例について、第１図および第２図を
参照しながら説明する。

第１図は、本発明の一実施例における磁気ヘッドを示し
、第１図ａはその斜視図、第１図すはその平面図を示し
ているｏｌは第１金属磁性膜、２は非磁性基板、３はギ
ャップ材、４は第２金属磁性膜、６は補強材、６は巻線
窓で、第１金属磁性膜１はスパッタリングにより非晶質
合金と電気的絶縁膜との多層膜を数μｍのトラック幅で
形成したものであジ、この第１金属磁性膜１は非磁性基
板２によりしつかジと挾持されている。非磁性基板２に
はセラミック系やガラス系の基板が用いられ、磁気テー
プの摺動に対する耐摩耗性を良くしている。ギャップ材
３としては、ギャップ形成をスパッタリングにより行な
うため、５ｉ０２等の高融点のギャップ材を用いること
ができる。なお、ギャップ材３の融点が高くなると、そ
れだけ接着強度は増す。

また、第２金属磁性膜４には非晶質合金が用いられスパ
ッタリングによるギャップ形成を行なうので、精度のよ
いギャップ長が得られる（数μｍ）。

また、非晶質合金と５ｉ０２等のギャップ材との接着強
度は強固であり、十分な接着強度が得られる。

補強材５はスパッタリングや蒸着あるいは接着により、
第２金属磁性膜４上に接着され、第２金属磁性膜４を補
強している。

本発明の磁気ヘッドによす、トラック幅を数μｍにまで
にすることができ、また、ギャップ長を数μｍにまで小
さくすることに成功した。

次に、前述した本発明の磁気ヘッドの製造方法について
説明する。第２図は本発明の磁気ヘッドの製造工程を示
す工程図である０まず第２図ａに示すよつにセラミック
系やガラス系の非磁性基板２０片面もしくは両面に、ス
パッタリングを用いて第１金属磁性膜１を付着させ、こ
れを第１金属磁性膜１と非磁性基板２とが交互になるよ
うに接着剤や低融点ガラスなどを介して積層して、積層
体Ｓを形成する。なお、ここで第１金属磁性膜１をスパ
ッタリングにより非磁性基板２に付着させる際に非晶質
合金と電気的絶縁膜を交互にスパッタリングさせて、多
層膜を形成している。次に、第２図ａにおける点線に示
すように、この積層体Ｓを短冊状に切断して所望の大き
さのブロックを得る。この切り出したブロックにおいて
磁気ヘッドのギャップ面７となる面に、巻線窓６用の巻
線溝８を積層方向に設けて、第２図すに示すようなヘッ
ドコア半休ブロックＢｉ形成する。次に、第２図すに示
すようにヘッドコア半休ブロックＢの巻線溝８に融点が
１００〜２５０℃程度の熱可塑性の低融点樹脂の充填材
９あるいは低融点無機接着材を溶融させ、これを冷却し
て凝固させる。ここで用いられる低融点樹脂の充填材９
には、エチレン重合系接着剤やアクリル系接着剤などが
数多くある。その後、ギャップ面７を研摩して、第２図
Ｃに示すようなヘッドコア半休ブロックＢが形成される
。次に、第２図０に示すような、きれいに研摩されたギ
ャップ面７に対して８１０２等のギャップ材３をスパッ
タリングもしくは蒸着により付着させ数μｍのギャップ
長を得る。さらに、ギャップ材３上に非晶質合金を用い
た第２金属磁性膜４をスパッタリングにより付着させ磁
気回路的に十分となる３〜１００μｍの膜厚の磁性膜を
形成する。そして、この第２金属磁性膜４上に非磁性の
補強材６をスパッタリングあるいは蒸着あるいは接着等
により形成し、第２図ｄに示すようなヘッドブロックを
得る。次に、第２図ｄに示すヘッドブロックから前記の
低融点樹脂の充填材９を１００〜２５０℃程度の加熱処
理を行うことによって取り除く。なお、加熱する以外に
も、化学的な反応等を用いて充填材９を取り除くことも
できる。最後に、第２図０に示す点線ａ−ａ’、ｂ−ｂ
′に沿ってヘッドブロックを切断してヘッドチップを形
成しこのヘッドチップのヘッド前面を研摩テープ等によ
るラッピング処理を行なって、第２図ｆに示すような磁
気ヘッドを複数個得るものである。

発明の効果 上記実施例から明らかなよりに本発明の磁気ヘッドによ
れば、第１金属磁性膜と第２金属磁性膜がＴ字型に形成
され、十分なギャップ接合強度を維持しながら狭ギャッ
プ化・狭トラツク化を高精度で実現でき、また、ギャッ
プ形成時に高温の加熱を必要としないため第１・第２金
属磁性膜に高い飽和磁束密度を有する非晶質合金を用い
ることができ、これにより、スパッタリングによる高精
度化・高強度化が図られると共に、非晶質合金の持つ高
飽和密度・高透磁率等の特性をくずすことなく、高密度
記録用の磁気ヘッドを得ることができるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図ａは本発明の一実施例を示す磁気ヘッドの斜視図
、第１図すは同磁気ヘッドの平面図、第２図ａ、ｂ、ｃ
、ａ、ｅ、ｒは本発明の磁気ヘッドの製造工程を示す工
程図、第３図ａは従来の磁気ヘッドの斜視図、第３図す
は同従来の磁気ヘッドの平面図である。 １・・・・・・第１金属磁性膜、２・・・・・・非磁性
基板、３・・・・・・ギャップ材、４・・・・・・第２
金属磁性膜、６・・・・・・補強材、６・・・・・・巻
ａ＠、７・・・・・・ギャップ面、８・・・・・・巻線
溝、９・・・・・・充填材。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名１−
才１血溝慮龜膜 ？　−井濾止基腹 ３−ギャップ材 ４−才２血４雇佳膜 ５−１７　量状 ６　°−巷棟窓 第１図 （の ？ 第２図　　　　　　　　　　　　７−ギマツブ面８−゛
巷疎↓ １２図 第３図 （Ｑ）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１金属磁性膜の少なくともギャップ近傍を非磁
   性基板で挾持した積層体を構成し、この積層体の積層方
   向に巻線窓を設け、この積層体のギャップ面に、第２金
   属磁性膜を、その膜厚方向がギャップ面の法線方向と同
   一方向になるように付着させたことを特徴とする磁気ヘ
   ッド。
2. （２）第１金属磁性膜および第２金属磁性膜に、非晶質
   合金を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の磁気ヘッド。
3. （３）第１金属磁性膜が、非晶質合金と絶縁薄膜の積層
   された多層膜で形成されていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
4. （４）非磁性基板の少くとも片面に第１金属磁性膜を形
   成して第１金属磁性膜と非磁性基板とが交互になるよう
   に積層する第１工程と、前記積層体を短冊状に切断し、
   そのギャップ面となる面に巻線溝を積層方向に形成する
   第２工程と、前記巻線溝中に充填物を充填した後、この
   面を研摩する第３工程と、前記ギャップ面にギャップ材
   、第２金属磁性膜、補助材を順に接着してヘッドブロッ
   クを形成する第４工程と、前記ヘッドブロックの前記巻
   線溝中にある充填材を取り除き前記ヘッドブロックを切
   断して複数個のヘッドチップを形成する第５工程を備え
   た磁気ヘッドの製造方法。
5. （５）第１金属磁性膜および第２金属磁性膜に非晶質合
   金を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載
   の磁気ヘッドの製造方法。