JPS63102007A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS63102007A JPS63102007A JP61247743A JP24774386A JPS63102007A JP S63102007 A JPS63102007 A JP S63102007A JP 61247743 A JP61247743 A JP 61247743A JP 24774386 A JP24774386 A JP 24774386A JP S63102007 A JPS63102007 A JP S63102007A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- glass
- layer
- layers
- gap
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はＶＴＲやＤＡＴ等に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。
するものである。
従来の技術
近年、磁気記録の高密度化に伴ない、磁気ヘッドとして
、高飽和磁束密度、狭トラツク化等が要求されている。
、高飽和磁束密度、狭トラツク化等が要求されている。
高飽和磁束密度に関しては、従来のフェライト等にかわ
ってセンダスト、パーマロイ、アモルファスなどの金属
磁性材料が用いられ、狭トラツク化に関しては、従来の
バルクからの加工にかわり、スパッタリング、蒸着等の
真空薄膜形成技術により磁気コアとなる磁性層を形成す
る手法が多く用いられている。ところで金属磁性材料は
、狭トランクにすると機械的強度が弱く、また耐摩耗性
も悪くなるので、それらの向上のため、従来から金属磁
性材料の両側を基板で挾持した構造にして用いられてい
る。
ってセンダスト、パーマロイ、アモルファスなどの金属
磁性材料が用いられ、狭トラツク化に関しては、従来の
バルクからの加工にかわり、スパッタリング、蒸着等の
真空薄膜形成技術により磁気コアとなる磁性層を形成す
る手法が多く用いられている。ところで金属磁性材料は
、狭トランクにすると機械的強度が弱く、また耐摩耗性
も悪くなるので、それらの向上のため、従来から金属磁
性材料の両側を基板で挾持した構造にして用いられてい
る。
第２図（ｅ）に従来の磁気ヘッドの構造を示す。
金属磁性層１０両側を非磁性基板２で挾持した構造で、
金属磁性層と非磁性基板との間の接着ガラス層３が、金
属磁性層に対して同じ側にあり、磁気ギャップ面で、つ
き合わさる構造になっている。また左右コアの磁気ギヤ
ツブ面での接合は、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラ
スと巻線溝１゜及びガラスだめ溝１１内に設けた低融点
ガラス４の融着によシ行なわれている。
金属磁性層と非磁性基板との間の接着ガラス層３が、金
属磁性層に対して同じ側にあり、磁気ギャップ面で、つ
き合わさる構造になっている。また左右コアの磁気ギヤ
ツブ面での接合は、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラ
スと巻線溝１゜及びガラスだめ溝１１内に設けた低融点
ガラス４の融着によシ行なわれている。
次にこのヘッドの製造方法を示す。先ず第２図（ａｌに
示すように非磁性基板２の片面に接着ガラス層を形成し
た第１基板６と、非磁性基板の片面に金属磁性層１、も
う片面に接着ガラス層３を形成した第２基板７と、非磁
性基板の片面に金属磁性層１を形成した第３基板８を作
製する。次に第２図（ロ）に示すように第１基板６と第
３基板８で第２基板了を数枚積み重ねたものを挾み、接
着ガラス３の融着により、各基板が接着さ九た積層ブロ
ックを作製する。次にこの積層ブロックを短冊状に切断
し、第２図（Ｃ）に示すような一対のコア半体９゜９′
ヲ作製する。次に第２図（ｄ）に示すようにコア半休９
の磁気ギャップ面５に巻線溝１０とガラスだめ溝１１を
設け、磁気ギャップ面を平滑に研摩した後、ギャップ長
に応じた厚みのＳｉＯ２と低融点ガラスの非磁性層をス
パッタリング等で形成する。
示すように非磁性基板２の片面に接着ガラス層を形成し
た第１基板６と、非磁性基板の片面に金属磁性層１、も
う片面に接着ガラス層３を形成した第２基板７と、非磁
性基板の片面に金属磁性層１を形成した第３基板８を作
製する。次に第２図（ロ）に示すように第１基板６と第
３基板８で第２基板了を数枚積み重ねたものを挾み、接
着ガラス３の融着により、各基板が接着さ九た積層ブロ
ックを作製する。次にこの積層ブロックを短冊状に切断
し、第２図（Ｃ）に示すような一対のコア半体９゜９′
ヲ作製する。次に第２図（ｄ）に示すようにコア半休９
の磁気ギャップ面５に巻線溝１０とガラスだめ溝１１を
設け、磁気ギャップ面を平滑に研摩した後、ギャップ長
に応じた厚みのＳｉＯ２と低融点ガラスの非磁性層をス
パッタリング等で形成する。
そして両コア半休９ 、９’ｉ磁気ギヤツブ面５でつき
合わせ、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラスおよび、
巻線溝、ガラスだめ溝中の低融点ガラスの融着により両
コア半休を接合したギヤノブドパ−を作製する。次にこ
のギャップドパ−’ｔ、＋ｇノコア幅１２で切断して、
ヘントチノブを作製し、前面のテープ摺動面を研摩して
、第２図（ｅ）に示す磁気ヘッドを得る。
合わせ、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラスおよび、
巻線溝、ガラスだめ溝中の低融点ガラスの融着により両
コア半休を接合したギヤノブドパ−を作製する。次にこ
のギャップドパ−’ｔ、＋ｇノコア幅１２で切断して、
ヘントチノブを作製し、前面のテープ摺動面を研摩して
、第２図（ｅ）に示す磁気ヘッドを得る。
発明が解決しようとする問題点
以上説明した従来の磁気ヘッドにおいては、金属磁性層
と非磁性基板とを接着する接着ガラスの軟化点Ｔｍ １
と、ギャップ形成時に用いる低融点ガラスの軟化点
Ｔｍ２ との関係はＴｍ１）Ｔｍ２であるのが望ましい
。これは、Ｔｍ１：：ＩＴｆｎ２ である場合には、
ギャップ形成時に、接着ガラスがゆるみ、ギャップ形成
時に加える外力により第３図に示すようなハガレが発生
するからである。しかし、金属磁性層がアモルファス材
料である場合には、アモルファス材料の結晶化温度以下
で、作業しなければならないという制約があり、快たあ
１り軟化点の低いガラスを用いると、第２図（ｄ）に示
したヘッドチップへの切断工程や、ヘッドの前面研摩な
どの機械加工に耐えられなくなる雪の制約があシ、おの
ずと、ＴｒｎｌよＴｍ２ のガラスを使用せざるを得
ないのが現状である。１だ、接着ガラスとして、結晶化
後の融点が、結晶化前の作業点に比べ上昇する結晶化ガ
ラスを用いても、ギヤツブ形成時の接着ガラスのゆるみ
はわずかではあるが発生しており、第３図に示すような
不良が現実に、金属磁性層の両側を非磁性基板で挾持し
た構造であってその接合面の一方が接着ガラスにより接
合されたコアを用いた磁気ヘッドにおいて、金属磁性層
と非磁性基板との間の接着ガラス層が磁気ギヤツブ面を
境にして、金属磁性層の反対側の位置にあるような構造
にする。
と非磁性基板とを接着する接着ガラスの軟化点Ｔｍ １
と、ギャップ形成時に用いる低融点ガラスの軟化点
Ｔｍ２ との関係はＴｍ１）Ｔｍ２であるのが望ましい
。これは、Ｔｍ１：：ＩＴｆｎ２ である場合には、
ギャップ形成時に、接着ガラスがゆるみ、ギャップ形成
時に加える外力により第３図に示すようなハガレが発生
するからである。しかし、金属磁性層がアモルファス材
料である場合には、アモルファス材料の結晶化温度以下
で、作業しなければならないという制約があり、快たあ
１り軟化点の低いガラスを用いると、第２図（ｄ）に示
したヘッドチップへの切断工程や、ヘッドの前面研摩な
どの機械加工に耐えられなくなる雪の制約があシ、おの
ずと、ＴｒｎｌよＴｍ２ のガラスを使用せざるを得
ないのが現状である。１だ、接着ガラスとして、結晶化
後の融点が、結晶化前の作業点に比べ上昇する結晶化ガ
ラスを用いても、ギヤツブ形成時の接着ガラスのゆるみ
はわずかではあるが発生しており、第３図に示すような
不良が現実に、金属磁性層の両側を非磁性基板で挾持し
た構造であってその接合面の一方が接着ガラスにより接
合されたコアを用いた磁気ヘッドにおいて、金属磁性層
と非磁性基板との間の接着ガラス層が磁気ギヤツブ面を
境にして、金属磁性層の反対側の位置にあるような構造
にする。
作 用
接着ガラスの位置が、ギャップ面の左右で一致しない構
造としているので、ギャップ形成時に、力がコア半休の
ある一点の接着ガラス層に集中しても、他方のコア半休
では、その力の作用点が、接着ガラス層上ではないので
、ハガレが発生しにぐく、安定したギャップドパ−の製
造が可能になる。
造としているので、ギャップ形成時に、力がコア半休の
ある一点の接着ガラス層に集中しても、他方のコア半休
では、その力の作用点が、接着ガラス層上ではないので
、ハガレが発生しにぐく、安定したギャップドパ−の製
造が可能になる。
実施例
第１図は、本発明による磁気ヘッドの構造を示す。金属
磁性層１の両側を非磁性基板２で挾持した構造で、金属
磁性層と非磁性基板との間の接着ガラス層３が、磁気ギ
ャップ面５を境にして左右対称の位置にある構造として
いる。また左右コアの磁気ギャップ面での接合は、従来
と同様に、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラスと巻線
溝１０及びガラスだめ溝１１内に設けた低融点ガラス４
の融着により行なわれている。本実施例で用いた金属磁
性層はアモルファス磁性層で、特性は飽和磁束密ｉＢ
５＝８０００ ガウス、結晶化温度Ｔ−５６０℃、キ
ュリ一点Ｔ。−４５０℃ である。また接着ガラスとし
ては、粉末の微粒子で、特性は軟化点４４０℃、作業点
５５ｏ℃、結晶化温度５２０℃、結晶化後の融点６００
℃のものを用いた。低融点ガラスとしては、軟化点４４
０℃のものを用いている。製造工程としては、従来法と
ほとんど同じであるが、第３図（ｄ）で、作製したコア
半休９．９′を第４図（ａ）に示すように、接着ガラス
層３が、磁気ギャップ面５を境にして、金属磁性層の左
右対称の位置にくるようにつき合わせてギャップ形成を
行なう点が異なる。本実施例では、第２図（ロ）に示す
各基板の接着温度は４８０℃、第４図（ａ）に示すギャ
ップ形成温度は４８０℃であ−・た。その結果、従来に
比べ、ギヤノブドパ−のノ１ガレは起こらず、丑た磁気
ギャップも安定したものを得ることができた。
磁性層１の両側を非磁性基板２で挾持した構造で、金属
磁性層と非磁性基板との間の接着ガラス層３が、磁気ギ
ャップ面５を境にして左右対称の位置にある構造として
いる。また左右コアの磁気ギャップ面での接合は、従来
と同様に、磁気ギャップ面に設けた低融点ガラスと巻線
溝１０及びガラスだめ溝１１内に設けた低融点ガラス４
の融着により行なわれている。本実施例で用いた金属磁
性層はアモルファス磁性層で、特性は飽和磁束密ｉＢ
５＝８０００ ガウス、結晶化温度Ｔ−５６０℃、キ
ュリ一点Ｔ。−４５０℃ である。また接着ガラスとし
ては、粉末の微粒子で、特性は軟化点４４０℃、作業点
５５ｏ℃、結晶化温度５２０℃、結晶化後の融点６００
℃のものを用いた。低融点ガラスとしては、軟化点４４
０℃のものを用いている。製造工程としては、従来法と
ほとんど同じであるが、第３図（ｄ）で、作製したコア
半休９．９′を第４図（ａ）に示すように、接着ガラス
層３が、磁気ギャップ面５を境にして、金属磁性層の左
右対称の位置にくるようにつき合わせてギャップ形成を
行なう点が異なる。本実施例では、第２図（ロ）に示す
各基板の接着温度は４８０℃、第４図（ａ）に示すギャ
ップ形成温度は４８０℃であ−・た。その結果、従来に
比べ、ギヤノブドパ−のノ１ガレは起こらず、丑た磁気
ギャップも安定したものを得ることができた。
第５図は本発明の磁気ヘッドの第２の実施例を示す。第
１の実施例と異なる点に１、左右コアの磁気ギャップ面
での接合を、第１の実施例の他に、金属磁性層１の両側
に設けた溝１３中の低融点ガラスの融点により行なう点
である。この構造のヘッドにおいても、第１の実施例と
同様に、従来に比べ、安定したヘッドを作製することが
できた。
１の実施例と異なる点に１、左右コアの磁気ギャップ面
での接合を、第１の実施例の他に、金属磁性層１の両側
に設けた溝１３中の低融点ガラスの融点により行なう点
である。この構造のヘッドにおいても、第１の実施例と
同様に、従来に比べ、安定したヘッドを作製することが
できた。
発明の効果
本発明にかり、従来発生していた、ギャップドパ−のハ
ガレ現象がなくなり、また磁気ギャップも従来に比べ安
定なものを得ることができるようになり、製造歩留りを
向上させることができる。
ガレ現象がなくなり、また磁気ギャップも従来に比べ安
定なものを得ることができるようになり、製造歩留りを
向上させることができる。
４、図面簡単な説明
第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例の構成を示
す斜視図、第２図（、）〜（ｅ）は従来の磁気ヘッドの
製造工程を示す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの製
造中に起こる不良状態の模式図、第４図（ａ）および（
ロ）は各々本発明による磁気ヘッドのギャップ形成工程
を示す斜視図および平面図、第５図は本発明による磁気
ヘッドの第２の実施例の斜視図である。
す斜視図、第２図（、）〜（ｅ）は従来の磁気ヘッドの
製造工程を示す斜視図、第３図は従来の磁気ヘッドの製
造中に起こる不良状態の模式図、第４図（ａ）および（
ロ）は各々本発明による磁気ヘッドのギャップ形成工程
を示す斜視図および平面図、第５図は本発明による磁気
ヘッドの第２の実施例の斜視図である。
１・・・・金属磁性層、２・・・・・非磁性基板、３・
・・・・接着ガラス、４・・・低融点ガラス、５・・・
・・磁気ギャップ。
・・・・接着ガラス、４・・・低融点ガラス、５・・・
・・磁気ギャップ。
第１図
４イ氏融免、力゛ラス
第２図
（α）
？
第２図
（御
（Ｃ）
第２図
（ｄ−）
（ｅ）
／ 。
第３図
一！
５」
＝↓
ユよ
一１
＝２４４
一丁
一１
一′目７°−
第５図
Claims (4)
- （１）金属磁性層の両側を非磁性基板で挾持した構造の
コアであって、前記金属磁性層が前記非磁性基板の一方
の上に被着形成されるとともに、前記非磁性基板の他方
が前記金属磁性層との間に接着ガラス層を介して結合さ
れたコアを用い、磁気ギャップ面を境にして対向する２
つのコアにおける前記接着ガラス層が、前記金属磁性層
の互いに反対側に位置することを特徴とする磁気ヘッド
。 - （２）接着ガラスが結晶化ガラスであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 - （３）金属磁性層がアモルファス磁性層であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 - （４）アモルファス磁性層が非磁性層を介して積層され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61247743A JPS63102007A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61247743A JPS63102007A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63102007A true JPS63102007A (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=17168008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61247743A Pending JPS63102007A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63102007A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5391594A (en) * | 1992-06-29 | 1995-02-21 | Dow Corning Corporation | Method for imparting fire retardancy to organic resins |
| US5508323A (en) * | 1992-06-29 | 1996-04-16 | Dow Corning Corporation | Method for imparting fire retardancy to organic resins |
| US5584116A (en) * | 1993-09-10 | 1996-12-17 | Goldstar Co., Ltd. | Method for fabricating a magnetic head |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180512A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-24 | Sharp Corp | 磁気ヘッドコアの製造方法 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61247743A patent/JPS63102007A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6180512A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-24 | Sharp Corp | 磁気ヘッドコアの製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5391594A (en) * | 1992-06-29 | 1995-02-21 | Dow Corning Corporation | Method for imparting fire retardancy to organic resins |
| US5508323A (en) * | 1992-06-29 | 1996-04-16 | Dow Corning Corporation | Method for imparting fire retardancy to organic resins |
| US5584116A (en) * | 1993-09-10 | 1996-12-17 | Goldstar Co., Ltd. | Method for fabricating a magnetic head |
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