JPS63300418A - 磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 高密度磁気記録技術を用いた映像機器、例えばＶＴＲ、
ＤＡＴ、あるいはデータ蓄積を目的とするＲＤＤ　、Ｆ
ＤＤ　、テープメモリー装置などに用いられる磁気ヘッ
ドに関する。

従来の技術 従来、ＶＴＲなどに用いられる磁気ヘッドはフェライト
等の金属酸化物磁性材料を用いて第４図のような構成に
していた。即ち磁気回路はフェライト１で構成され、ト
ラックの側部はガラス２で充填されている。高密度磁気
記録技術の方向では、媒体としてより抗磁力の高いもの
が用いられるが、磁気ヘッドとしてはフェライトに代っ
てより飽和磁束密度の高い金属磁性材料が必要である。

一方、高品位ＶＴＲに代表されるように扱う信号周波数
は高周波側へ移行する傾向であり、金属磁性材料の高周
波特性を良好にするためには、多層構造にして渦電流損
失を少くしてコア能率を高めることなどが提案されてい
る。

さらに、高密度磁気記録を行うには磁気ヘッドのトラッ
ク中をより狭くすることが不可欠になる。

このような場合、多層構造の金属磁性材料を主磁気回路
とし、それを単純に狭くしだのではコア能率の低下はま
ぬがれない。そのため副磁気回路としてフェライトで挾
持する構造が提案されているが、摺動ノイズ発生の因と
なり好ましくない。また規制されたトラック中の近接部
に充填されたガラスは、好ましくない場合が多い。即ち
、メタルテープとの相性が悪く、ガラス状に付着などの
現象がおきたり、また金属磁性材料の硬さに比べ軟いこ
とから凹みを生じたり、さらにガラス充填のプロセス時
、その高温熱処理過程でガラスと金属磁性材料が反応し
磁気特性を低下させる要因にもなる場合がある。

発明が解決しようとする問題点 狭トラック巾におけるコア能率低下を改善し、かつ高周
波領域でコア能率を高めることが出来るメタルヘッドの
構成とその製造法を提供する。摺動ノイズ発生を少なく
し、ヘッド摺動面においてトラック部近傍に広い面積を
もつガラス部が露呈しない構成し、テープ粉付着等の問
題点を解決する。

問題点を解決するための手段 第１の金属磁性膜の突き合わせによりトラック中が規制
され、主磁気回路が構成されるようにし、ヘッドギャッ
プ部近傍を除いた部分を第２の金属磁性膜で挾持し、副
磁気回路を構成し、ヘッドギャップ部近傍には第２の金
属磁性膜と略同じ厚みの非磁性膜が並置され、その全体
が非磁性体で挾持されるような構成の磁気ヘッド。

作用 機械加工の手段でなく、又ガラスの充填ではなくトラッ
ク中が規制される。しかも高周波領域でも透磁率が高い
主磁気回路、副磁気回路が金属磁性材料の多層構造によ
って実現される。

実施例 第３図を用い製造プロセスを説明する。

Ｎｉ０−Ｔｉ０２−ＭｇＯ系あるいはＴｉＯ２−ｃａＯ
系のようなセラミックの非磁性体３上に、Ｓ：Ｌ０２な
どの非磁性膜４がスパッタ法により形成される。ついで
所定のパターンのホトレジスト６が形成される舘３図＆
）。ついでエツチングにより第３図すのような形状を得
る。ホトレジスト、エツチングを用いずとも別の手段、
例えば機械加工でも可能である。又非磁性膜４としては
ＳｉＯ□の他に非磁性体３と同じ物質であってもよいし
、むしろテープ付着の点からは好ましい。スパッタリン
グ法により、非磁性体と同じ物質をターゲットとして堆
積、形成することが可能である。次に第３図Ｃに示すよ
うに、ＣｏＮｂ系のアモルファス材、あるいはセンダス
ト材などの金属磁性膜６がスパッタリングされる。トラ
ック中にもよるが。金属磁性膜６は眉間絶縁層として５
ｉｎ２あるいは非磁性膜４と同じ物質の非磁性絶縁層が
用いられた多層構造であることがより適している場合が
ある。即ち多層構造により、金属磁性材料の本質である
渦電流損失を少くし、高周波領域での透磁率を高めるこ
とが出来る。ついで非磁性膜４が露呈する位置７まで、
ラッピングを施し平坦化を行う。第３図ｄはその上部に
主磁気回路となるＣｏＮｂ系のアモルファス材あるいは
センダスト材などの金属磁性膜８がスパッタリングされ
る。この厚みが略トラソり巾となる。実施例としては２
層の多層構造を例としたが、６μｍ以下のような極めて
狭いトラック巾の場合は金属磁性膜８としては単層でよ
い。

金属磁性膜８の上部は、その後の工程からの金属磁性膜
への影響を避けるため、８１０２などの保護膜が２ｏ０
〇八〜５へ００人形成される（図示せず）。このような
プロセスを経た非磁性体３と第３図Ｃまで経過してきた
非磁性体３とを対向させるがごとく複数組積層接着を行
う。このブロックを切断してそこから複数本の短冊状の
バーを得る。

ついでそれぞれのバーに巻線窓など所定の機械加工を施
し、ヘッドギャップとなる面を研磨し、所定の厚みのス
ペーサをスパッタリングで堆積させ、−組のバーを突き
合せてギャップ形成のためのガラスボンディングを行う
。その後、所定の位置でチップ切断を行い、単体になっ
たヘッドチップを所定のユニットベースに貼りつけ、前
面研磨を施したのち巻線を施すなど通常行われているヘ
ッドチップ組立加工を行い磁気ヘッドとして仕上げる。

第１図は完成後の磁気ヘッドを摺動面側より見た図であ
る。対向させて積層接着を行う際の接着層（数μｍ以下
）９およびヘッドギャップ１ｏが存在する。第２図はそ
の斜視図であり、巻線窓１１およびヘッドギャップ１ｏ
形成時のガラスポンディングによるアペックス部のガラ
ス溜り１２が本実施例では現われる。ギャップ形成以降
についてはこれまでも種々の提案がなされており、本発
明においてもその部分は本旨ではないためこれ以上の詳
細説明は省略する。

本発明の趣旨は非磁性膜が非磁性体上にあってその脇に
それと略同じ厚みの金属磁性膜があることに特徴があり
、製造法の実施例で示すような順序でなくても本発明の
構成は実現可能であるかもしれない。

金属磁性膜がアモルファス材である場合は、結晶化温度
以下で作業しなければならないという制約をうけるため
、従来例で示すようにトラック部近傍に露呈するガラス
は低融点ガラスが用いられる。一般的には低融点ガラス
は硬さが十分でないため、テープとの摺動による凹みは
大きかったりする。従って非磁性膜４の効果はより大き
いといえる。

発明の効果 狭トラツクでも副磁気回路があるためコア能率を高める
ことが出来る。副磁気回路を構成するプロセスが簡単で
あり、又多層構造を容易にとれることから、又フェライ
ト材でないことから、高周波領域でのコア能率改善、お
よび摺動ノイズ発生のない磁気ヘッドを実現できる。非
磁性膜を基板である非磁性体と同じ物質でも構成できる
ため偏摩耗特性に優れる。

を示す図、第２図は本発明の一実施例における磁気ヘッ
ドの斜視図、第３図は本発明の一実施例における磁気ヘ
ッドの製造工程図、第４図は従来の磁気ヘッドの斜視図
である。

３・・・・・・非磁性体、４・・・・・・非磁性膜、９
・・・・・・接着層。

代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第　
２　図 第　３　図 Ｓ 第４図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）第１の金属磁性膜の突き合わせによりトラック巾
   が規制され、前記第１の金属磁性膜が主磁気回路を構成
   する磁気ヘッドであって、前記第１の金属磁性膜の両側
   の且つ少くともヘッドギャップ部近傍を除いた部分に第
   ２の金属磁性膜が副磁気回路を構成するように配置され
   、前記ヘッドギャップ部近傍には前記第２の金属磁性膜
   と略同じ厚みの非磁性膜が並置され、前記第２の金属磁
   性膜および前記非磁性膜の外側に非磁性体が配置してな
   ることを特徴とする磁気ヘッド
2. （２）非磁性膜が非磁性体と本質的に同じ物質より成る
   ことを特徴とする特許請求の範囲第一項記載の磁気ヘッ
   ド
3. （３）第２の金属磁性膜が非磁性絶縁層を層間絶縁層と
   する多層膜構造より成ることを特徴とする特許請求の範
   囲第一項記載の磁気ヘッド
4. （４）所定形状の非磁性膜が配置された非磁性体上に第
   ２の金属磁性膜が形成される第１の工程と、該非磁性膜
   が露呈するまで該第２の金属磁性膜がラッピングされ平
   坦面が形成される第２の工程と、該平坦面上に第１の金
   属磁性膜が形成される第３の工程と、該第１の金属磁性
   膜の上に保護膜が形成される第４の工程と、前記第１か
   ら第２の工程を経た該非磁性体を１組は対向させるごと
   く複数組積層接着したのち、切断して複数本の短冊状の
   バーを得、所定の機械加工を施す工程と、該短冊状のバ
   ーを１組、前記第１の金属磁性膜が突き合わせられるご
   とく対向せしめギャップ形成を行う工程と、その後切断
   し、ヘッドチップを得、研磨、巻線等を施して磁気ヘッ
   ドに仕上げる工程とから成る磁気ヘッドの製造方法。