JP2003203307A

JP2003203307A - 磁気ヘッドおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2003203307A
Application number: JP2001400132A
Authority: JP
Inventors: Shunsaku Muraoka; 俊作村岡
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-12-28
Filing date: 2001-12-28
Publication date: 2003-07-18

Abstract

(57)【要約】【課題】狭トラックになっても高周波特性が優れ、且
つトラックズレの少ない狭トラック高周波対応積層型磁
気ヘッドを実現する。【解決手段】本発明の磁気ヘッドは金属磁性膜の両側
を一対の基板で挟持し、磁気ギャップ面で所定のアジマ
ス角を有する構造の磁気ヘッドにおいて、金属磁性膜面
が磁気ヘッド摺動方向と略平行であり、上記磁気ヘッド
のトラック幅が上記金属磁性膜を磁気ギャップ面側から
磁気ギャップ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略
直交するように切り込むことで形成されたトラック幅規
制溝により規制されており、且つ上記トラック幅規制溝
内に非磁性体が充填されていることを特徴とする磁気ヘ
ッドである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はデジタルＶＴＲやス
トリーマ等に使用される高密度／高周波記録に適した磁
気ヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、デジタルＶＴＲやストリーマ等の
大容量且つ高転送レートの信号を取り扱うシステムの開
発が盛んに行われており、磁気記録媒体もこのような大
量の情報を記録するために、従来の酸化鉄系から合金粉
末媒体や金属蒸着媒体等の高抗磁力媒体へと変わってき
た。

【０００３】そして磁気ヘッドとしても、これらの高抗
磁力媒体に対応できるような高飽和磁束密度を有し、５
０ＭＨｚ以上の高周波帯域での特性の優れた磁気ヘッド
の開発が望まれてきた。

【０００４】そこで、このような要求に対応するため、
センダストやアモルファス磁性合金、ＦｅＴａＮ等の金
属磁性膜と絶縁膜との積層膜の両側を非磁性基板で挟持
した構造にして高周波特性を向上させた磁気ヘッド、い
わゆる積層型磁気ヘッドが開発されている。

【０００５】一方、デジタルＶＴＲやストリーマは小型
化、高密度化、高転送レート化が進んでおり、高密度化
に関しては、磁気ヘッドのトラック幅が従来の３０μｍ
以上から１５μｍ以下へと狭くなり、それに伴いトラッ
ク幅精度も従来の±２μｍから±１μｍ以下へと高精度
のトラック幅が要求されている。またトラックピッチズ
レも記録フリンジの観点から狭トラックにおいては±１
μｍ以下が要求されている。

【０００６】一方、小型化、高転送レート化に関して
は、磁気ヘッドが搭載されたドラム装置の小型化、高速
回転化が進んでおり、例えば、ＶＨＳ方式のＶＴＲでは
ドラム装置の直径が６２ｍｍでヘッド・テープの相対速
度が５．８ｍ／ｓ、磁気テープの厚みが約１８μｍであ
ったのに対して、ＤＶ（デジタルビデオ）方式やＤＶＣ
ＰＲＯ方式のＶＴＲではドラム装置の直径が２１．７ｍ
ｍで相対速度が１０ｍ／ｓ以上、磁気テープの厚みは１
０μｍ以下となっている。

【０００７】したがって、相対速度の向上やドラム径の
小型化、テープの薄手化等にも対応できる狭トラック積
層型磁気ヘッドの開発が求められている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来の積層型磁気ヘッ
ドの外観図を図８（ａ）に示す。従来の積層型磁気ヘッ
ドは高周波領域でのヘッド感度を向上させるため、金属
磁性層１と絶縁層２との積層膜３からなる磁気コアの両
側を一対の非磁性基板４により挟持する構造で、磁気ギ
ャップ５と巻線窓６を有し、巻線窓内には巻線窓ガラス
８７を配した構造となっている。また積層膜はヘッド走
行方向と略平行になるような構成になっている。

【０００９】このヘッドのテープ摺動面１４の外観図を
図８（ｂ）に示す。従来の積層型磁気ヘッドの多くは図
に示すように磁気ギャップ５を挟んで対向する積層膜３
からなるトラックが磁気ギャップ面で１μｍ以上のズレ
δが発生しており、狭トラック対応の積層型磁気ヘッド
としては、このトラックズレδにより、トラック幅精度
が悪いという課題や、記録フリンジの課題が発生してい
る。

【００１０】また、このような積層型磁気ヘッドでは、
図９に示すようにトラック幅が狭くなるに従い、磁気コ
アの磁気抵抗の増大により、特に高周波帯域でのヘッド
効率が低下し、トラック幅が２０μｍ以下になるとヘッ
ド効率が急激に低下するという問題があり、高周波特性
の優れた狭トラックヘッドが実現できないという課題を
有していた。

【００１１】

【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
ため、本発明の磁気ヘッドは金属磁性膜の両側を一対の
基板で挟持し、磁気ギャップ面で所定のアジマス角を有
する構造の磁気ヘッドにおいて、金属磁性膜面が磁気ヘ
ッド摺動方向と略平行であり、上記磁気ヘッドのトラッ
ク幅が上記金属磁性膜を磁気ギャップ面側から磁気ギャ
ップ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略直交する
ように切り込むことで形成されたトラック幅規制溝によ
り規制されており、且つ上記トラック幅規制溝内に非磁
性体が充填されていることを特徴とする磁気ヘッドであ
る。

【００１２】そして、その製造方法は金属磁性膜と基板
とを交互に積み重ねて接着し、積層体を作成する工程
と、上記積層体を所定のアジマス角だけ傾けて切断し、
少なくとも一対のコアプレートを作成する工程と、少な
くとも一方のコアプレートの磁気ギャップ面に巻線窓を
形成する工程と、一対のコアプレートの磁気ギャップ面
に磁気ギャップ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が
略直交するように金属磁性膜を切り込んでトラック幅規
制溝を形成する工程と、上記巻線溝のフロントギャップ
側の一部とトラック幅規制溝内に非磁性体を形成した
後、ギャップ面を平滑に研磨し、ギャップ面に所定の厚
みのギャップ材を形成する工程と、その後一対のコアプ
レートをギャップ面で突き合わせて接着してひとつのギ
ャップドプレートを作成し、そのギャップドプレートか
ら複数本のギャップドバーを切り出す工程と、そのギャ
ップドバーを所定のアジマス角を考慮して切断すること
で、ヘッドチップを得る工程とを有することを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法である。

【００１３】また、金属磁性膜と基板とを交互に積み重
ねて接着し、積層体を作成する工程と、上記積層体を所
定のアジマス角だけ傾けて切断し、少なくとも一対のコ
アプレートを作成する工程と、その後上記コアプレート
から少なくとも一対のコアバーを作成し、少なくとも一
方のコアバーの磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程
と、一対のコアバーのフロントギャップ面のみに磁気ギ
ャップ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略直交す
るように金属磁性膜を斜めに切り込んでトラック幅規制
溝を形成する工程と、上記巻線溝のフロントギャップ側
の一部とトラック幅規制溝内に非磁性体を形成した後、
ギャップ面を平滑に研磨し、ギャップ面に所定の厚みの
ギャップ材を形成する工程と、その後一対のコアバーを
ギャップ面で突き合わせて接着してひとつのギャップド
バーを作成する工程と、そのギャップドバーを所定のア
ジマス角を考慮して切断することで、ヘッドチップを得
る工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法である。

【００１４】また、金属磁性膜と基板とを交互に積み重
ねて接着し、積層体を作成する工程と、上記積層体を所
定のアジマス角だけ傾けて切断し、少なくとも一対のコ
アプレートを作成する工程と、少なくとも一方のコアプ
レートの磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程と、一
対のコアプレートのフロントギャップ面のみに磁気ギャ
ップ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略直交する
ように金属磁性膜と基板の一部をエッチング技術により
除去してトラック幅規制溝を形成する工程と、上記巻線
溝のフロントギャップ側の一部とトラック幅規制溝内に
非磁性体を形成した後、ギャップ面を平滑に研磨し、ギ
ャップ面に所定の厚みのギャップ材を形成する工程と、
その後一対のコアプレートをギャップ面で突き合わせて
接着してひとつのギャップドプレートを作成し、そのギ
ャップドプレートから複数本のギャップドバーを切り出
す工程と、そのギャップドバーを所定のアジマス角を考
慮して切断することで、ヘッドチップを得る工程とを有
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法である。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気ヘッドの実施
の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
また各図において同一構成要素のものには同一符号を付
しその詳細な説明は省略する。

【００１６】図１（ａ）は本発明の第１の実施の形態の
磁気ヘッドの構成を示す図、図１（ｂ）はそのテープ摺
動面を示す図である。

【００１７】図１（ａ）において、１は金属磁性層、２
は絶縁層、３は積層膜、４は非磁性基板、５は磁気ギャ
ップ、６は巻線窓、８はトラック幅規制溝、９は低融点
ガラスである。

【００１８】本実施の形態では磁気コアである金属磁性
層には飽和磁束密度が大きなＦｅＴａＮ磁性膜、絶縁層
にはＳｉＯ₂、基板には非磁性であるチタン酸マグネシ
ウム基板を用いた。

【００１９】磁気ヘッドの構造としては積層膜３の両側
を一対の基板４で挟持する構造の積層型磁気ヘッドであ
り、図１（ｂ）に示すように金属磁性膜面１１は磁気ヘ
ッド走行方向と略平行に形成した。

【００２０】またトラック幅規制溝８は、磁気ギャップ
面を挟んだ左右のコア半体の接合前にダイシングソーを
用いた切削加工により左右のコア半体の積層膜３を磁気
ギャップ面側から同一ピッチで磁気ギャップ面１２とト
ラック幅規制面１３とテープ摺動面１４が略直交するよ
うに形成し、このトラック幅規制溝によりトラック幅を
規制した。

【００２１】またトラック幅規制溝内には非磁性体であ
る低融点ガラス９を充填した。本実施の形態では、積層
膜として層厚が３μｍの金属磁性層と層厚が０．１μｍ
の絶縁膜を交互に９層積層して総膜厚が約２８μｍの積
層膜３を用い、トラック幅１０は８μｍとした。

【００２２】本実施の形態の磁気ヘッドのトラックズレ
σを測定するとすべてがσ≦±０．３μｍであり、トラ
ックズレのほとんどない良好な磁気ヘッドを実現するこ
とができた。これはトラック幅規制溝の形状を本発明の
ようにすることで、ギャップ面ラップ時のラップ精度バ
ラツキによっても左右のコア半体のトラックピッチズレ
がほとんど生じないようにすることができたためであ
る。

【００２３】またヘッドの特性を測定すると、従来のト
ラック幅が８μｍの積層型磁気ヘッドに比べ、５０ＭＨ
ｚで約２ｄＢほど出力が向上していた。これは磁気ギャ
ップ近傍以外では磁路となる磁性膜厚が厚いため、狭ト
ラックになってもヘッドの効率があまり劣化しないため
である。このように本発明の磁気ヘッドは、トラックズ
レがなく、また狭トラック化による特性劣化も少ない狭
トラック磁気ヘッドを実現することができた。

【００２４】図２は本発明の第２の実施の形態の磁気ヘ
ッドの構成を示す図である。

【００２５】第１の発明と異なる点は積層膜３の両側を
磁性フェライト基板７で挟持している点である。基板を
磁性フェライトにすることにより、磁路全体のヘッドの
効率を高めることができ、第１の発明の磁気ヘッドに比
べ、１０ＭＨｚ以下の低周波領域で約１ｄＢ高い出力を
実現することができた。

【００２６】また基板を磁性フェライト基板にすること
で、第１の発明の実施の形態の磁気ヘッドに比べ、ヘッ
ド・テープの相対速度が１０ｍ／ｓ以上のヘッド走行系
においても、充分な耐摩耗性を実現することができた。

【００２７】図３及び図４は本発明の第３及び第４の実
施の形態の磁気ヘッドの構成を示す図である。第１の発
明と異なる点はトラック幅規制をフロントギャップのみ
で行い、バックギャップはトラック幅規制をせず磁性膜
厚を厚くしている。このような構成にすることで、磁路
全体のヘッドの効率を全帯域にわたって高めることがで
き、第１の発明の磁気ヘッドに比べ全帯域で約１ｄＢ高
い出力を実現することができた。

【００２８】次に本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１
の発明の実施の形態を図５を参照しながら説明する。図
５（ａ）〜（ｇ）は本発明の磁気ヘッドの第１の発明の
製造プロセスの概略図を示す。積層膜と基板を交互に複
数枚積み重ねて接着した積層体２０を積層方向からアジ
マス角θだけ傾けて切断し（ａ）、一対のコアプレート
半体２１ａ、２１ｂを作成する（ｂ）。

【００２９】次に、少なくとも一方のコアプレート半体
の磁気ギャップ面に巻線溝２２を形成し、一対のコアプ
レートの磁気ギャップ面に磁気ギャップ面１２とトラッ
ク幅規制面１３とテープ摺動面１４が略直交するように
積層膜３を切り込んでトラック幅規制溝８を形成する
（ｃ）。

【００３０】そして、上記巻線溝のフロントギャップ側
の一部とトラック幅規制溝内に低融点ガラス９を形成し
た後、ギャップ面を平滑に研磨する（ｄ）。

【００３１】次に、ギャップ面に所定の厚みのギャップ
材を形成し、一対のコアプレートをギャップ面で突き合
わせて接着してひとつのギャップドプレート２３を作成
し、そのギャップドプレートから複数本のギャップドバ
ーを切り出す（ｅ）。

【００３２】そして、そのギャップドバーを所定のアジ
マス角を考慮して所定のコア幅で切断し（ｆ）、ヘッド
チップが完成する（ｇ）。

【００３３】このように本発明の第１の発明の磁気ヘッ
ドの製造方法で作成した磁気ヘッドは従来の磁気ヘッド
において課題であったトラックズレσがσ≦±０．３μ
ｍに抑えることができ、またトラック幅精度も従来に比
べ向上していることが確認された。さらにヘッドの出力
向上も確認され、特性の優れた狭トラック磁気ヘッドを
実現することができた。

【００３４】次に本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２
の発明の実施の形態を図６を参照しながら説明する。

【００３５】図６（ａ）〜（ｇ）は本発明の磁気ヘッド
の第２の発明の製造プロセスの概略図を示す。

【００３６】積層膜と基板を交互に複数枚積み重ねて接
着した積層体２０を積層方向からアジマス角θだけ傾け
て切断し（ａ）、一対のコアプレート半体２１ａ、２１
ｂを作成する（ｂ）。

【００３７】さらに一対のコアプレート半体から複数本
のコアバーを切り出し、一対のコアバー半体２４ａ、２
４ｂを作成する。次に、少なくとも一方のコアバー半体
の磁気ギャップ面に巻線溝２２を形成し、一対のコアバ
ーの磁気ギャップ面のフロントギャップ２５ａ、２５ｂ
側にのみ磁気ギャップ面１２とトラック幅規制面１３と
テープ摺動面１４が略直交するように積層膜３を斜めに
切り込んでトラック幅規制溝８を形成する（ｃ）。

【００３８】そして、上記巻線溝のフロントギャップ側
の一部とトラック幅規制溝内に低融点ガラス９を形成し
た後、ギャップ面を平滑に研磨する（ｄ）。次に、ギャ
ップ面に所定の厚みのギャップ材を形成し、一対のコア
バーをギャップ面で突き合わせて接着してひとつのギャ
ップドバー２７を作成した後（ｅ）、そのギャップドバ
ーを所定のアジマス角を考慮して所定のコア幅で切断し
（ｆ）、ヘッドチップが完成する（ｇ）。

【００３９】このように本発明の第２の発明の磁気ヘッ
ドの製造方法で作成した磁気ヘッドも従来の磁気ヘッド
において課題であったトラックズレσがσ≦±０．３μ
ｍに抑えることができ、またトラック幅精度も従来に比
べ向上していることが確認された。さらにトラック幅規
制溝がフロントギャップのみにあり、バックギャップは
トラック幅規制をせず磁性膜厚が厚いままであるため、
磁路全体のヘッドの効率を全帯域にわたって高めること
ができ、第１の発明の磁気ヘッドに比べ全帯域で高い出
力が確認され、特性の優れた狭トラック磁気ヘッドを実
現することができた。

【００４０】次に本発明の磁気ヘッドの製造方法の第３
の発明の実施の形態を図７を参照しながら説明する。

【００４１】図７（ａ）〜（ｇ）は本発明の磁気ヘッド
の第３の発明の製造プロセスの概略図を示す。積層膜と
基板を交互に複数枚積み重ねて接着した積層体２０を積
層方向からアジマス角θだけ傾けて切断し（ａ）、一対
のコアプレート半体２１ａ、２１ｂを作成する（ｂ）。

【００４２】次に、少なくとも一方のコアプレート半体
の磁気ギャップ面に巻線溝２２を形成し、一対のコアプ
レートの磁気ギャップ面のフロントギャップ２５ａ、２
５ｂ側にのみ磁気ギャップ面１２とトラック幅規制面１
３とテープ摺動面１４が略直交するようなトラック幅規
制溝８をイオンミリング等のドライエッチング技術によ
り形成する（ｃ）。

【００４３】そして、上記巻線溝のフロントギャップ側
の一部とトラック幅規制溝内に低融点ガラス９を形成し
た後、ギャップ面を平滑に研磨する（ｄ）。

【００４４】次に、ギャップ面に所定の厚みのギャップ
材を形成し、一対のコアプレートをギャップ面で突き合
わせて接着してひとつのギャップドプレート２３を作成
し、そのギャップドプレートから複数本のギャップドバ
ーを切り出す（ｅ）。

【００４５】そして、そのギャップドバーを所定のアジ
マス角を考慮して所定のコア幅で切断し（ｆ）、ヘッド
チップが完成する（ｇ）。

【００４６】このように本発明の第３の発明の磁気ヘッ
ドの製造方法で作成した磁気ヘッドは従来の磁気ヘッド
において課題であったトラックズレσがσ≦±０．３μ
ｍに抑えることができ、またトラック幅精度も従来に比
べ向上していることが確認された。

【００４７】さらにトラック幅規制溝がフロントギャッ
プのみにあり、バックギャップはトラック幅規制をせず
磁性膜厚が厚いままであるため、磁路全体のヘッドの効
率を全帯域にわたって高めることができ、第１の発明の
磁気ヘッドに比べ全帯域で高い出力が確認され、特性の
優れた狭トラック磁気ヘッドを実現することができた。

【００４８】なお、本実施の形態では金属磁性層として
ＦｅＴａＮの場合について述べたが、これだけに限った
ものではなく、Ｃｏ系のアモルファス合金や他のＦｅ系
の軟磁性合金でも同様の効果が実現できる。

【００４９】また、本発明の第１の実施の形態では非磁
性基板としてチタン酸マグネシウムの場合について述べ
たが、これだけに限ったものではなく、非磁性単結晶フ
ェライト基板やチタン酸カルシウム等の非磁性基板でも
同様の効果が得られることは云うまでもない。

【００５０】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法の第
１及び第２の発明の実施の形態ではトラック幅規制溝の
形成方法としてダイシングソーを用いた切削加工の場合
について述べたが、これだけに限ったものではなく、レ
ーザ加工や放電加工等の他の加工方法についても同様の
効果が得られる。

【００５１】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法の第
３の発明の実施の形態ではトラック幅規制溝の形成方法
としてイオンミリング等のドライエッチング技術を用い
た場合について述べたが、これだけに限ったものではな
く、ウェットエッチングやレーザ加工、放電加工等の他
の加工方法についても同様の効果が得られる。

【００５２】また、本実施の形態ではトラック幅規制溝
内の反応防止膜としてＳｉＯ₂の場合について述べた
が、これだけに限ったものではなく、ＳｉＯ₂、パイレ
ックス、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃、Ｃｒの少なくともいずれ
か一種類から構成されている反応防止膜であれば、同様
の効果が得られる。

【００５３】また、本実施の形態ではトラック幅規制溝
内に充填する非磁性体として低融点ガラスの場合につい
て述べたが、これだけに限ったものではなく非磁性材料
であれば、同様の効果が得られる。

【００５４】

【発明の効果】本発明により、トラックズレが極めて小
さく、且つ狭トラック化しても特性の優れた狭トラック
磁気ヘッドを容易に実現することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの第１の実施の形態の外観
図およびテープ摺動面を示す図

【図２】本発明の磁気ヘッドの第２の実施の形態の外観
図

【図３】本発明の磁気ヘッドの第３の実施の形態の外観
図

【図４】本発明の磁気ヘッドの第４の実施の形態の外観
図

【図５】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１の発明の
実施の形態を示す図

【図６】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２の発明の
実施の形態を示す図

【図７】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第３の発明の
実施の形態を示す図

【図８】従来の磁気ヘッドの実施の形態の外観図および
テープ摺動面を示す図

【図９】積層型磁気ヘッドの４０ＭＨｚにおける相対規
格化出力のトラック幅依存性を示す図

【符号の説明】

１金属磁性層２絶縁層３積層膜４基板５磁気ギャップ６巻線窓７磁性フェライト基板８トラック幅規制溝９低融点ガラス１０トラック幅１１金属磁性膜面１２磁気ギャップ面１３トラック幅規制面１４テープ摺動面２０積層体２１コアプレート２２巻線溝２３ギャップドプレート２４コアバー２５フロントギャップ２６バックギャップ２７ギャップドバー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 5/187 Ｇ１１Ｂ 5/187 Ｓ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属磁性膜の両側を一対の基板で挟持
し、磁気ギャップ面で所定のアジマス角を有する構造の
磁気ヘッドにおいて、金属磁性膜面が磁気ヘッド摺動方
向と略平行であり、上記磁気ヘッドのトラック幅が上記
金属磁性膜を磁気ギャップ面側から磁気ギャップ面とト
ラック幅規制面とテープ摺動面が略直交するように切り
込むことで形成されたトラック幅規制溝により規制され
ており、且つ上記トラック幅規制溝内に非磁性体が充填
されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】前記基板が非磁性基板であることを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】前記基板が磁性フェライト基板であるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項４】前記金属磁性膜が金属磁性層と絶縁層と
の積層膜であることを特徴とする請求項１〜３記載の磁
気ヘッド。
【請求項５】前記非磁性体が低融点ガラスであること
を特徴とする請求項１〜４記載の磁気ヘッド。
【請求項６】金属磁性膜と基板とを交互に積み重ねて
接着し、積層体を作成する工程と、上記積層体を所定の
アジマス角だけ傾けて切断し、少なくとも一対のコアプ
レートを作成する工程と、少なくとも一方のコアプレー
トの磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程と、一対の
コアプレートの磁気ギャップ面に磁気ギャップ面とトラ
ック幅規制面とテープ摺動面が略直交するように金属磁
性膜を切り込んでトラック幅規制溝を形成する工程と、
上記巻線溝のフロントギャップ側の一部とトラック幅規
制溝内に非磁性体を形成した後、ギャップ面を平滑に研
磨し、ギャップ面に所定の厚みのギャップ材を形成する
工程と、その後一対のコアプレートをギャップ面で突き
合わせて接着してひとつのギャップドプレートを作成
し、そのギャップドプレートから複数本のギャップドバ
ーを切り出す工程と、そのギャップドバーを所定のアジ
マス角を考慮して切断することで、ヘッドチップを得る
工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項７】金属磁性膜と基板とを交互に積み重ねて
接着し、積層体を作成する工程と、上記積層体を所定の
アジマス角だけ傾けて切断し、少なくとも一対のコアプ
レートを作成する工程と、その後上記コアプレートから
少なくとも一対のコアバーを作成し、少なくとも一方の
コアバーの磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程と、
一対のコアバーのフロントギャップ面のみに磁気ギャッ
プ面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略直交するよ
うに金属磁性膜を斜めに切り込んでトラック幅規制溝を
形成する工程と、上記巻線溝のフロントギャップ側の一
部とトラック幅規制溝内に非磁性体を形成した後、ギャ
ップ面を平滑に研磨し、ギャップ面に所定の厚みのギャ
ップ材を形成する工程と、その後一対のコアバーをギャ
ップ面で突き合わせて接着してひとつのギャップドバー
を作成する工程と、そのギャップドバーを所定のアジマ
ス角を考慮して切断することで、ヘッドチップを得る工
程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】金属磁性膜と基板とを交互に積み重ねて
接着し、積層体を作成する工程と、上記積層体を所定の
アジマス角だけ傾けて切断し、少なくとも一対のコアプ
レートを作成する工程と、少なくとも一方のコアプレー
トの磁気ギャップ面に巻線窓を形成する工程と、一対の
コアプレートのフロントギャップ面のみに磁気ギャップ
面とトラック幅規制面とテープ摺動面が略直交するよう
に金属磁性膜と基板の一部をエッチング技術により除去
してトラック幅規制溝を形成する工程と、上記巻線溝の
フロントギャップ側の一部とトラック幅規制溝内に非磁
性体を形成した後、ギャップ面を平滑に研磨し、ギャッ
プ面に所定の厚みのギャップ材を形成する工程と、その
後一対のコアプレートをギャップ面で突き合わせて接着
してひとつのギャップドプレートを作成し、そのギャッ
プドプレートから複数本のギャップドバーを切り出す工
程と、そのギャップドバーを所定のアジマス角を考慮し
て切断することで、ヘッドチップを得る工程とを有する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】前記基板が非磁性基板であることを特徴
とする請求項６〜８記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】前記基板が磁性フェライト基板である
ことを特徴とする請求項６〜８記載の磁気ヘッドの製造
方法。
【請求項１１】前記金属磁性膜が金属磁性層と絶縁層
との積層膜であることを特徴とする請求項６〜９記載の
磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】前記非磁性体が低融点ガラスであるこ
とを特徴とする請求項６〜１１記載の磁気ヘッドの製造
方法。
【請求項１３】前記トラック幅規制溝を加工により形
成した後、トラック幅規制溝内に反応防止膜を形成する
ことを特徴とする請求項６〜１２記載の磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項１４】前記反応防止膜がＳｉＯ₂、パイレッ
クス（登録商標）、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃、Ｃｒの少なく
ともいずれか一種類から構成されていることを特徴とす
る請求項１３記載の磁気ヘッドの製造方法。