JPH05151520A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドの製造方法

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JPH05151520A
JPH05151520A JP31415291A JP31415291A JPH05151520A JP H05151520 A JPH05151520 A JP H05151520A JP 31415291 A JP31415291 A JP 31415291A JP 31415291 A JP31415291 A JP 31415291A JP H05151520 A JPH05151520 A JP H05151520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
magnetic head
substrate
nonmagnetic
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP31415291A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumiaki Nakamura
文昭 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 あらかじめ巻線窓孔2および外溝孔20を形
成した非磁性基板1にトラック幅と等しい軟磁性膜3と
所定のギャップ長の非磁性層膜11をスパッタ技術など
にて形成し、その上に溶融スパッタガラス12と形成し
た結合体と、同じく巻線窓孔2および外溝孔20を形成
し、溶融スパッタガラス12を形成した非磁性基板1A
とを突き合わせて得れた磁気ヘッド基板13を切断加工
することにより磁気ヘッドコアを得る。 【効果】 軟磁性膜層を中心にして上下が同一の部材で
ある非磁性基板で形成されているため、磁気ヘッドがテ
ープ摺動する際に偏摩耗を防止できる。また製造上、加
熱回数が減り軟劣化が少なく、ギャップひらき不良がな
い。さらに非磁性基板に巻線窓孔,外溝孔が加工されて
いるので、コア製造時の複合材加工が減少して、加工能
率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、高飽和磁束密度を有
し、積層型薄膜コアを用いるS−VHSやHDTV−V
TRの積層型ヘッドコアの製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の磁気ヘッドの製造方法
は、図6(a)に示すように、非磁性基板1に非磁性導
電膜あるいは非磁性絶縁膜の下地11を被着させ、この
上に図6(b)に示すように、Fe−Al−Si合金な
どの軟磁性膜3と非磁性導電膜あるいは非磁性絶縁膜の
中間層4を交互にトラック幅と等しくなるようにスパッ
タリングまたは電気メッキ法により積層形成させる。次
に図6(c)に示すように軟磁性膜3と中間層4の積層
体からなる第1磁性層5の一部をダイヤモンド等の硬質
材からなるバイトにより切削除去するか,あるいはエッ
チング法を用いて前記非磁性基板1の面の法線に対し
て、平行あるいは所定の角度θを有する磁気ヘッドの磁
気ギャップ形成面6を形成する。次に図6(d)に示す
ように、残った第1磁性層5,磁気ギャップ形成面6お
よび上記の磁性層を除した下地11の上に、斜めスパッ
タ法等を用いてSiO2 等の非磁性絶縁膜からなるギャ
ップスペーサ7を、磁気ギャップ形成面6上でその他の
部分上よりも厚くなるように被着する。次に図6(e)
に示すように、エッチング法により磁気ギャップ形成面
6上だけにギャップスペーサ7を残す。次に図6(f)
に示すように第1磁性層5だけにフォトレジスト膜8を
被着し、図6(g)に示すように電気メッキ法またはス
パッタ法等により第1磁性層5の上面高さと等しい高さ
の第2磁性層9を形成させる。
【0003】その後、図6(h)に示すようにフォトレ
ジスト膜8を除去して、面高さを一致させた第1磁性層
5と第2磁性層9の上面に、Al23 等のヘッド保護
用非磁性膜10を被着し、その後巻線窓孔12を超音波
加工等によって形成していた(例えば特開昭64−88
909号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の従来
の磁気ヘッドの製造方法では、軟磁性膜3を非磁性基板
11と保護用非磁性膜10という異なる部材により挟持
しているため、テープ摺動時にヘッドの偏摩耗が発生
し、安定したテープ摺動形態が得られないという欠点が
あった。また、巻線窓孔や外溝孔をコアチップ形成後に
実施するため、加工熱衝撃による軟磁性膜3の劣化がお
こるという欠点がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明の磁気ヘッドの
製造方法は、上記の課題を解決するために非磁性膜の上
面にスパッタガラスを被着させ、挟持するもう一方の非
磁性基板にもスパッタガラスを被着させ、スパッタガラ
スを被着させた面同士を突き合わせ熱融着するものであ
る。また、用いる非磁性基板材にはあらかじめ超音波加
工等により巻線窓孔および外溝孔を形成しておいてから
コアチップ形成するものである。
【0006】
【作用】上記の構成によると、スパッタガラスにより非
磁性基板を接着したことにより、コアチップの磁性膜積
層面を中心に上下対称なコアチップを得ることができる
ので、磁気ヘッドテープがテープ摺動する際に偏摩耗し
ない。また、溶融スパッタガラスのみで基板接着するの
で、加熱工程が少なくてすむ。
【0007】さらに、あらかじめ非磁性基板に巻線窓孔
や外溝孔を形成しておくことにより、接着後の基板に加
工する必要がないので磁性膜に外圧を与えることなくコ
アチップを製造することができる。
【0008】
【実施例】以下、この発明について図面を参照して説明
する。
【0009】図1(a)〜(j)はこの発明の一実施例
である磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図である。ま
ず、図1(a)に示すように非磁性基板1に巻線窓孔2
および外溝孔20を超音波加工などにより順次形成す
る。
【0010】次に図1(b)に示すように非磁性膜下地
11を被着させる。その上に図1(c)に示すようにマ
スキング操作などによりギャップラインとなり得る巻線
窓孔3に合わせてFe−Al−Si合金などの軟磁性膜
3と非磁性膜からなる中間層4を交互にトラック幅に等
しく第1磁性層5を積層形成する。次いで図1(d)に
示すようにこの第1磁性層5のギャップラインとなる部
分を所望のアジマス角θで切削あるいはエッチングによ
り除去し、磁気ギャップ形成面6を形成する。次に図1
(e)のように磁気ギャップ形成面6に非磁性膜のギャ
ップスペーサ7をスパッタ形成する。こうしてできた第
1磁性層5だけに図1(f)に示すようにフォトレジス
ト膜8を被着し、次いで図1(g)に示すように電気メ
ッキ法またはスパッタ法等により第1磁性層5の上面高
さに等しい高さの第2磁性層9を形成させる。その後、
図1(h)に示すようにフォトレジスト膜8を除去して
得られた磁性膜成膜基板15の面高さを一致させた第1
磁性層5と第2磁性層9の上面に図1(i)に示すよう
に溶融スパッタガラス12を数千オングストローム程度
スパッタ法により被着させる。また、このとき同時に磁
性層を被着した非磁性基板1と同種材料かつ巻線窓孔2
および外溝孔3が形成された非磁性基板1Aの裏面に溶
融スパッタガラス12をスパッタ形成して、図1(i)
の矢印に示すように、磁性膜を形成しスパッタガラスを
被着した磁性巻く成膜基板1の上に巻線窓孔2および外
溝孔20に合わせて、突き合わせた加熱溶融により図1
(j)に示すように熱圧着して磁気ヘッド基板13を形
成する。
【0011】次に図2の斜視図に示すように、熱圧着し
た磁気ヘッド基板13を直交する切削ラインlおよびm
により切断し、図3の斜視図に示すような磁気ヘッドチ
ップ14を得る。
【0012】
【実施例2】図4(a)〜(j)および図5(a)〜
(c)はこの発明の第2実施例である磁気ヘッドの製造
工程を示す斜視図である。この実施例は上記第1実施例
における図1(h)に示す磁性膜成膜基板15を複数枚
用いて製造する点を除いては、第1実施例の図1(a)
〜(h)までの製造工程は同様であるため、同一部分に
は同一参照符号を付してその説明を省略する。この実施
例では磁性膜成膜基板15を複数枚熱圧着して図5
(a)に示すような磁気ヘッドコアブロック体16を得
るため、図5(c)に示すような磁気ヘッドチップ14
を一度に多量得ることができるという利点がある。
【0013】詳述すればまず第1実施例の製造工程の図
1(a)〜(h)と同一製造方法により、図4(a)〜
(h)を実施する。次に図4(i)に示すように磁性膜
成膜基板15の両面に溶融スパッタガラス12を被着さ
せ、最外層の非磁性基板1Aに溶融スパッタガラス12
を被着させ、両基板1,1Aの巻線窓孔2および外溝孔
20を一致させるように突き合わせて、複数枚を積層挟
持して図4(j)のように熱圧着して磁気ヘッドコアブ
ロック体16を形成する。そして、図5(a)に示す磁
気ヘッドコアブロック体16を直交する切削ラインlお
よびmにより切断し、図5(b)に示す磁気ヘッドコア
バー材17を得る。
【0014】次いで磁気ヘッドコアバー材17を切削ラ
インnにより切断して図5(c)に示すような磁気ヘッ
ドチップ14を複数個一括して得る。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は同種材
料からなる非磁性基板で軟磁性膜層を挟持しており、磁
性層(トラック幅)を中心として上下対称の形状を有し
ているため、磁気ヘッドがテープ摺動する際に偏摩耗を
防止できるという効果がある。
【0016】また、溶融スパッタ形状のみで製造するこ
とができるので、加熱サイクルを1度実施するだけでよ
く、極力熱履歴による影響を減少させることができる。
その上、この製造方法によると磁性膜部のみでギャップ
部を構成し、非磁性基板部ではギャップ部を構成してい
ないので、ギャップひらきの不良が抑制できる。
【0017】さらにはあらかじめ非磁性基板に巻線窓孔
および外溝孔を加工しておくことにより、磁気ヘッド構
成基板製作後の複合材加工をする必要がなくなり、加工
能率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(j) この発明の第1実施例の製造
方法を示す斜視図
【図2】 この発明の第1実施例により得られた磁気ヘ
ッド基板の斜視図
【図3】 この発明の第1実施例により得られた磁気ヘ
ッドチップの斜視図
【図4】(a)〜(j) この発明の第2実施例の磁気
ヘッド製造方法を示す斜視図
【図5】(a)〜(c) この発明の第2実施例の磁気
ヘッドコアブロック体から磁気ヘッドチップを得る方法
を示す斜視図
【図6】(a)〜(h) 従来の磁気ヘッドの製造方法
を示す斜視図
【符号の説明】
1,1A 非磁性基板材 2 巻線窓孔 3 軟磁性膜 4 中間層 5 第1磁性層 6 磁気ギャップ形成面 7 ギャップスペーサ 8 フォトレジスト膜 9 第2磁性膜 12 溶融スパッタガラス 13 磁気ヘッド基板 14 磁気ヘッドチップ 15 磁性膜成膜基板 16 磁気ヘッドコアブロック体 17 磁気ヘッドコアバー材 20 外溝孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高飽和磁束密度軟磁性薄膜を積層したもの
    を非磁性基板で挾み付けしたコアを突き合わせて作る磁
    気ヘッドコアの製造方法において、非磁性基板に形成し
    た軟磁性膜と、これとは別の非磁性基板とにそれぞれス
    パッタガラスを被着し、スパッタガラスを被着した面同
    士を突き合わせた後にスパッタガラスを溶融して接合
    し、磁気ヘッドコアを形成することを特徴とする磁気ヘ
    ッドの製造方法。
  2. 【請求項2】高飽和磁束密度軟磁性薄膜を積層したもの
    を非磁性基板で挾み付けしたコアを突き合わせて作る磁
    気ヘッドコアの製造方法において、巻線窓孔および外溝
    孔を、高飽和磁束密度軟磁性薄膜を積層する前の非磁性
    基板に加工することを特徴とする請求項1記載の磁気ヘ
    ッドの製造方法。
JP31415291A 1991-11-28 1991-11-28 磁気ヘツドの製造方法 Pending JPH05151520A (ja)

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