JPH04274006A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH04274006A JPH04274006A JP3316691A JP3316691A JPH04274006A JP H04274006 A JPH04274006 A JP H04274006A JP 3316691 A JP3316691 A JP 3316691A JP 3316691 A JP3316691 A JP 3316691A JP H04274006 A JPH04274006 A JP H04274006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- alloy thin
- substrate
- magnetic
- iron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 60
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録および
再生を行うために必要な高い飽和磁束密度を有する磁気
ヘッドの製造方法に関するものである。
再生を行うために必要な高い飽和磁束密度を有する磁気
ヘッドの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化に伴い、
メタルテープ等の高保持力媒体が主流になってきている
。このため磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い飽和
磁束密度を有するものが要求されている。そこで、例え
ば図９に示すように、非磁性材料からなる基板２１に高
い飽和磁束密度を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２
を設けてなる薄膜積層磁気ヘッドが使用されている。
メタルテープ等の高保持力媒体が主流になってきている
。このため磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い飽和
磁束密度を有するものが要求されている。そこで、例え
ば図９に示すように、非磁性材料からなる基板２１に高
い飽和磁束密度を有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２
を設けてなる薄膜積層磁気ヘッドが使用されている。
【０００３】このような磁気ヘッドの製造の過程では、
図１０に示すように、例えば結晶化ガラス等の非磁性材
料からなる基板２１の表面に、ダイシング加工によって
断面略Ｖ字状の連続した溝２４…が形成され、これら各
溝２４…の壁面上に、図９に示すＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
薄膜２２…が、例えば真空蒸着法によりそれぞれ形成さ
れる。
図１０に示すように、例えば結晶化ガラス等の非磁性材
料からなる基板２１の表面に、ダイシング加工によって
断面略Ｖ字状の連続した溝２４…が形成され、これら各
溝２４…の壁面上に、図９に示すＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
薄膜２２…が、例えば真空蒸着法によりそれぞれ形成さ
れる。
【０００４】上記工程後は、上記Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
薄膜上にＳｉＯ２ 等の非磁性材料からなる膜とＦｅ−
Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜とが所定の層数だけ交互に積層蒸着
され、次いで、上記各溝２４…への低融点ガラス２５の
充填および表面研磨が行われた後、コイル巻線用溝２６
・２７の加工、非磁性ギャップ材によるギャップ面の形
成が行われて、片側コアブロックが作製される。そして
、一対の上記片側コアブロック同士が各ギャップ面を互
いに対面させた状態で接合され、所定のピッチで順次切
断されて、図９に示すような磁気ヘッドチップ２３が作
製される。
薄膜上にＳｉＯ２ 等の非磁性材料からなる膜とＦｅ−
Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜とが所定の層数だけ交互に積層蒸着
され、次いで、上記各溝２４…への低融点ガラス２５の
充填および表面研磨が行われた後、コイル巻線用溝２６
・２７の加工、非磁性ギャップ材によるギャップ面の形
成が行われて、片側コアブロックが作製される。そして
、一対の上記片側コアブロック同士が各ギャップ面を互
いに対面させた状態で接合され、所定のピッチで順次切
断されて、図９に示すような磁気ヘッドチップ２３が作
製される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２が基板２１上に直接形
成される場合、非磁性材料からなる基板２１とＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金薄膜２２とは結晶構造および格子定数等が
かなり異なるため、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２の結
晶の配向度が悪く、磁気特性が劣下し、磁気ヘッドの歩
留りが低下するという問題を生じている。
にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２が基板２１上に直接形
成される場合、非磁性材料からなる基板２１とＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金薄膜２２とは結晶構造および格子定数等が
かなり異なるため、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜２２の結
晶の配向度が悪く、磁気特性が劣下し、磁気ヘッドの歩
留りが低下するという問題を生じている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は、上記課題を解決するために、非磁性材料から
なる基板の所定領域に鉄薄膜を形成し、この鉄薄膜上に
蒸着やスパッタリング等の薄膜形成法によってＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金薄膜を形成することを特徴としている。
造方法は、上記課題を解決するために、非磁性材料から
なる基板の所定領域に鉄薄膜を形成し、この鉄薄膜上に
蒸着やスパッタリング等の薄膜形成法によってＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金薄膜を形成することを特徴としている。
【０００７】
【作用】上記の方法によれば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄
膜は、基本的な結晶構造がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜と
同様の体心立方格子であると共に格子定数も似ている鉄
薄膜上に形成されるため、結晶の配向度が向上し、その
結果、磁気特性が向上する。
膜は、基本的な結晶構造がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜と
同様の体心立方格子であると共に格子定数も似ている鉄
薄膜上に形成されるため、結晶の配向度が向上し、その
結果、磁気特性が向上する。
【０００８】
【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図８に
基づいて、磁気ヘッドの製造工程を順を追って説明する
。
基づいて、磁気ヘッドの製造工程を順を追って説明する
。
【０００９】まず、図２に示すように、結晶化ガラス等
の非磁性材料からなる略直方体形状の基板１の表面に、
所定のピッチＡで複数の断面略Ｖ字状の溝５…が相互に
隣接して互いに平行に延びる形状で形成される。上記溝
５…の加工は、基板１が耐摩耗性に優れる反面、難加工
性であるため、例えば溝形状に応じた断面Ｖ字状の研削
面を周縁に有する回転ブレードを用いたダンシング加工
によって行われる。
の非磁性材料からなる略直方体形状の基板１の表面に、
所定のピッチＡで複数の断面略Ｖ字状の溝５…が相互に
隣接して互いに平行に延びる形状で形成される。上記溝
５…の加工は、基板１が耐摩耗性に優れる反面、難加工
性であるため、例えば溝形状に応じた断面Ｖ字状の研削
面を周縁に有する回転ブレードを用いたダンシング加工
によって行われる。
【００１０】次に、図３に示すように、上記各溝５…の
一方の壁面上に、例えば真空蒸着法により鉄薄膜２…が
それぞれ形成され、続いて、図４に示すように、上記各
鉄薄膜２…上に、真空蒸着法等によりＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ
合金薄膜３…がそれぞれ形成される。このとき、鉄薄膜
２…とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…との形成は同一真
空中において行われることが望ましい。さらに、上記Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…上にＳｉＯ２ 等の非磁性
材料からなる膜６…、鉄薄膜２…、およびＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ合金薄膜３…が所定の層数だけ交互に積層蒸着され
る。
一方の壁面上に、例えば真空蒸着法により鉄薄膜２…が
それぞれ形成され、続いて、図４に示すように、上記各
鉄薄膜２…上に、真空蒸着法等によりＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ
合金薄膜３…がそれぞれ形成される。このとき、鉄薄膜
２…とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…との形成は同一真
空中において行われることが望ましい。さらに、上記Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…上にＳｉＯ２ 等の非磁性
材料からなる膜６…、鉄薄膜２…、およびＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ合金薄膜３…が所定の層数だけ交互に積層蒸着され
る。
【００１１】その後、図５に示すように、上記各溝５…
を表面から埋めるように低融点ガラス７が充填され、図
６に示すように、基板１に形成された各溝５…の頂点位
置に達するまで、この低融点ガラス７の表面が平面状に
研磨される。
を表面から埋めるように低融点ガラス７が充填され、図
６に示すように、基板１に形成された各溝５…の頂点位
置に達するまで、この低融点ガラス７の表面が平面状に
研磨される。
【００１２】続いて、図７に示すように、上記基板１に
内部コイル巻線溝８と外部コイル巻線溝９が形成される
。さらに、図示しないが、スパッタリング法等によりＳ
ｉＯ２ 等の非磁性ギャップ材が、前記研磨面に膜付け
されて、ギャップ面として形成され、片側コアブロック
が作製される。
内部コイル巻線溝８と外部コイル巻線溝９が形成される
。さらに、図示しないが、スパッタリング法等によりＳ
ｉＯ２ 等の非磁性ギャップ材が、前記研磨面に膜付け
されて、ギャップ面として形成され、片側コアブロック
が作製される。
【００１３】次いで、図８に示すように、一対の上記片
側コアブロック同士が各ギャップ面を互いに対面させた
状態で加圧固定が行われ、溶着接合されて、コアブロッ
ク１１が形成される。次に、上記コアブロック１１が図
中二点鎖線に沿って所定のピッチＢで順次切断されるこ
とによって、図１に示す磁気ヘッドチップ４が作製され
る。さらに、上記磁気ヘッドチップ４は、図示しないベ
ース板への固定、コイル巻線、テープ摺動面研磨が施さ
れ、磁気ヘッドとして完成される。
側コアブロック同士が各ギャップ面を互いに対面させた
状態で加圧固定が行われ、溶着接合されて、コアブロッ
ク１１が形成される。次に、上記コアブロック１１が図
中二点鎖線に沿って所定のピッチＢで順次切断されるこ
とによって、図１に示す磁気ヘッドチップ４が作製され
る。さらに、上記磁気ヘッドチップ４は、図示しないベ
ース板への固定、コイル巻線、テープ摺動面研磨が施さ
れ、磁気ヘッドとして完成される。
【００１４】このように上記の製造方法では、Ｆｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金薄膜３…は基板１表面に膜付けされた鉄薄
膜２…上に形成される。従来は、前記したように、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が結晶構造および格子定数等のか
なり異なる非磁性材料からなる基板に直接形成されるた
め、結晶の配向度が悪く、磁気特性に劣下を生じるもの
となっていた。
ｌ−Ｓｉ合金薄膜３…は基板１表面に膜付けされた鉄薄
膜２…上に形成される。従来は、前記したように、Ｆｅ
−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が結晶構造および格子定数等のか
なり異なる非磁性材料からなる基板に直接形成されるた
め、結晶の配向度が悪く、磁気特性に劣下を生じるもの
となっていた。
【００１５】しかしながら、上記鉄薄膜とＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ合金薄膜との結晶構造および格子定数等は類似して
おり、この鉄薄膜上に形成されたＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
薄膜の結晶の配向度は従来よりも向上する。それゆえ、
磁気回路を構成するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜の特性劣
下が抑制され、磁気ヘッドの歩留りが向上する。
Ｓｉ合金薄膜との結晶構造および格子定数等は類似して
おり、この鉄薄膜上に形成されたＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金
薄膜の結晶の配向度は従来よりも向上する。それゆえ、
磁気回路を構成するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜の特性劣
下が抑制され、磁気ヘッドの歩留りが向上する。
【００１６】なお、上記実施例においては、磁気損失を
減少するためＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…を多層構造
とする例を挙げ、二層目以降のＳｉＯ２ 等の非磁性材
料からなる膜６…とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…との
間にも各々鉄薄膜２…を設ける例を示したが、一層目の
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…と基板１の間にのみ鉄薄
膜２…を設けるようにすることも可能であり、この場合
にも、磁気特性が従来よりも向上する。また本発明は、
基板上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜を単層で設ける構造
の磁気ヘッドにも適用することが可能である。
減少するためＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…を多層構造
とする例を挙げ、二層目以降のＳｉＯ２ 等の非磁性材
料からなる膜６…とＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…との
間にも各々鉄薄膜２…を設ける例を示したが、一層目の
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜３…と基板１の間にのみ鉄薄
膜２…を設けるようにすることも可能であり、この場合
にも、磁気特性が従来よりも向上する。また本発明は、
基板上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜を単層で設ける構造
の磁気ヘッドにも適用することが可能である。
【００１７】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、以上
のように、非磁性材料からなる基板に鉄薄膜を形成し、
この鉄薄膜上に蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形
成法により、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜を形成するもの
である。
のように、非磁性材料からなる基板に鉄薄膜を形成し、
この鉄薄膜上に蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形
成法により、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜を形成するもの
である。
【００１８】上記の方法によれば、結晶の配向度が向上
したＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が基板上に形成されるの
で、磁気回路を構成するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜の特
性劣下が抑制され、磁気ヘッドの歩留りが向上するとい
う効果を奏する。
したＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が基板上に形成されるの
で、磁気回路を構成するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜の特
性劣下が抑制され、磁気ヘッドの歩留りが向上するとい
う効果を奏する。
【図１】本発明の製造方法に基づいて作製された磁気ヘ
ッドチップの斜視図である。
ッドチップの斜視図である。
【図２】上記磁気ヘッドチップの製造過程における溝が
形成された基板の形状を示す斜視図である。
形成された基板の形状を示す斜視図である。
【図３】上記溝壁面に鉄薄膜が形成された基板の正面図
である。
である。
【図４】上記鉄薄膜上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が形
成され、さらに非磁性材料からなる膜、鉄薄膜、および
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が積層された基板の正面図で
ある。
成され、さらに非磁性材料からなる膜、鉄薄膜、および
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜が積層された基板の正面図で
ある。
【図５】上記溝に低融点ガラスが充填された基板の正面
図である。
図である。
【図６】上記低融点ガラスが平面状に研磨された基板の
正面図である。
正面図である。
【図７】上記基板にコイル巻線溝が形成された片側コア
ブロックの斜視図である。
ブロックの斜視図である。
【図８】一対の上記片側コアブロックを対面させた状態
で接合して得られたコアブロックの斜視図である。
で接合して得られたコアブロックの斜視図である。
【図９】従来の磁気ヘッドチップの斜視図である。
【図１０】従来の製造過程における溝が形成された基板
の正面図である。
の正面図である。
１ 基板
２ 鉄薄膜
３ Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性材料からなる基板の所定領域に鉄薄
膜を形成し、この鉄薄膜上に蒸着やスパッタリング等の
薄膜形成法によってＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金薄膜を形成す
ることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316691A JPH04274006A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316691A JPH04274006A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04274006A true JPH04274006A (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=12378961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3316691A Pending JPH04274006A (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04274006A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279404A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPS6472306A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-17 | Sharp Kk | Production of magnetic head |
| JPH02257404A (ja) * | 1988-05-13 | 1990-10-18 | Citizen Watch Co Ltd | Ｍｉｇ方式磁気ヘッド |
| JPH03161909A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 軟磁性薄膜及び磁気ヘッド |
-
1991
- 1991-02-27 JP JP3316691A patent/JPH04274006A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279404A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPS6472306A (en) * | 1987-09-14 | 1989-03-17 | Sharp Kk | Production of magnetic head |
| JPH02257404A (ja) * | 1988-05-13 | 1990-10-18 | Citizen Watch Co Ltd | Ｍｉｇ方式磁気ヘッド |
| JPH03161909A (ja) * | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 軟磁性薄膜及び磁気ヘッド |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4559572A (en) | Magnetic head and method of fabricating same | |
| US4755899A (en) | Magnetic transducer head having an alloy thin film of high saturation magnetic flux density slantly provided with respect to an operating magnetic gap formed therein | |
| JPH05290317A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| CA1236212A (en) | Magnetic transducer head with slanted thin film | |
| JPH04274006A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2889072B2 (ja) | 薄膜積層磁気ヘッドチップ及びその製法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| US5584116A (en) | Method for fabricating a magnetic head | |
| JP2648057B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2810820B2 (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| KR100232141B1 (ko) | 자기헤드의 제조 방법 | |
| JPH05290327A (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JPH056508A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS618710A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH05282619A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0766497B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH04241205A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH05151520A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS60242511A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6074110A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS61287018A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS63300418A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS63279403A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH113506A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63173215A (ja) | 磁気ヘツド |