JPS60242511A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60242511A JPS60242511A JP60058682A JP5868285A JPS60242511A JP S60242511 A JPS60242511 A JP S60242511A JP 60058682 A JP60058682 A JP 60058682A JP 5868285 A JP5868285 A JP 5868285A JP S60242511 A JPS60242511 A JP S60242511A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- amorphous
- magnetic head
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘッドの製造方法に関し、支持基板上にス
パッタリング法にて非晶質磁性金属薄膜全生成し、この
基板を加工してコイル全巻装する方法を提供しようとす
るものである。
パッタリング法にて非晶質磁性金属薄膜全生成し、この
基板を加工してコイル全巻装する方法を提供しようとす
るものである。
これまで、狭トラツク磁気ヘツド用の磁心材料として、
磁束密度や耐摩耗性、高周波9域での透磁率などの緒特
性をもとに満足できるような材料が得られていない。そ
のため、従来、第1図に示すような構造の磁気ヘッドが
広く使用されていた。
磁束密度や耐摩耗性、高周波9域での透磁率などの緒特
性をもとに満足できるような材料が得られていない。そ
のため、従来、第1図に示すような構造の磁気ヘッドが
広く使用されていた。
なお、同図Aは正面図、同図Bは平面図である。
この磁気ヘッドは、図に示すように、単結晶)・ライト
あるいは多結晶フェライト入どの酸化物磁性材料で磁気
へノドコア1が構成されておシ、そのヘンドギャップ部
分4にノツチが形成されていて、そこにガラスなどの非
磁性材料3が充填され、さらにコア1にコイル2が巻装
されているものである。
あるいは多結晶フェライト入どの酸化物磁性材料で磁気
へノドコア1が構成されておシ、そのヘンドギャップ部
分4にノツチが形成されていて、そこにガラスなどの非
磁性材料3が充填され、さらにコア1にコイル2が巻装
されているものである。
酸化物磁性材料は一般に耐摩耗性に優れているものであ
見コアにノツチを設け、さらにガラスなどを充填するこ
とによって、狭トランクでなおかつ耐摩耗性のよい磁気
ヘッド2得ている。しかし、酸化物磁性材料は、パーマ
ロイをはじめとする合金磁性材料と比較すると、飽和磁
束密度が小さいものである。そのため、酸化物磁性材料
で作った磁気ヘッドを抗磁力の高い磁気記録媒体に対す
る書込みに使用しようとすると、多量の磁束を流さなけ
ればならないことから、コアが磁気的に飽和してしまい
、前記記録媒体に十分に記録することができない。また
、酸化物磁性材料は打抜きなどの塑性加工のできない材
料であるため、それ全コアとするには精密切削や表面研
摩などの加工が必要となる。それだけでなく、機械加工
によって生じた表面の加工変質層は、磁気コアの機械的
強度を劣化せしめ、トラック巾が10Am程度の狭トラ
ツクヘッドの加工は困難であシ、磁気ヘッドの装造工程
が非常に複雑で、磁気ヘッドの製造コストが高くなるこ
とは避けられない。さらに、磁気ヘッドとして使用する
と、材料そのものが脆いため、ギャップ部分でのチッピ
ングやグレインの欠落といった問題を生ずる。
見コアにノツチを設け、さらにガラスなどを充填するこ
とによって、狭トランクでなおかつ耐摩耗性のよい磁気
ヘッド2得ている。しかし、酸化物磁性材料は、パーマ
ロイをはじめとする合金磁性材料と比較すると、飽和磁
束密度が小さいものである。そのため、酸化物磁性材料
で作った磁気ヘッドを抗磁力の高い磁気記録媒体に対す
る書込みに使用しようとすると、多量の磁束を流さなけ
ればならないことから、コアが磁気的に飽和してしまい
、前記記録媒体に十分に記録することができない。また
、酸化物磁性材料は打抜きなどの塑性加工のできない材
料であるため、それ全コアとするには精密切削や表面研
摩などの加工が必要となる。それだけでなく、機械加工
によって生じた表面の加工変質層は、磁気コアの機械的
強度を劣化せしめ、トラック巾が10Am程度の狭トラ
ツクヘッドの加工は困難であシ、磁気ヘッドの装造工程
が非常に複雑で、磁気ヘッドの製造コストが高くなるこ
とは避けられない。さらに、磁気ヘッドとして使用する
と、材料そのものが脆いため、ギャップ部分でのチッピ
ングやグレインの欠落といった問題を生ずる。
これに対して、合金磁性材料は、磁気的な特性に関して
は優れているものの、耐摩耗性がよくない。そのため、
磁気ヘッドとしたときに、磁気記録媒体との接触部分が
実質的に変形してしまい、ギャップ部分が磁気的に短絡
されてしまうという欠点がある。
は優れているものの、耐摩耗性がよくない。そのため、
磁気ヘッドとしたときに、磁気記録媒体との接触部分が
実質的に変形してしまい、ギャップ部分が磁気的に短絡
されてしまうという欠点がある。
本発明は、かかる磁気ヘッドにあった問題点あるいは欠
点を、支持基板上にスパッタリング法にて非晶質磁性金
属薄膜を生成し、この基板を所定形状に加工しギヤツブ
面が互いに向かい合うようにつき合せて磁気ヘッドコア
を形成する方法を用い、高性能な磁気ヘッドを得るもの
である。
点を、支持基板上にスパッタリング法にて非晶質磁性金
属薄膜を生成し、この基板を所定形状に加工しギヤツブ
面が互いに向かい合うようにつき合せて磁気ヘッドコア
を形成する方法を用い、高性能な磁気ヘッドを得るもの
である。
非晶質金属薄膜の製造方法の一つとして、RFスパッタ
法がある。この方法は、よく知られているように、たと
えば(1〜10)×1O−21Orr程度の圧力のアル
ゴンガスを、高周波交番電調で電離させ、アルゴンイオ
ンを陰極側に配置されているターゲットに1KeV 程
度のエネルギーで衝突させて、ターゲット材料をスパッ
タさせ、陽極側に配置された支持基板上にターゲット材
料と同じ組成のN膜を形成するものである。この方法で
は、ターゲット側からの輻射熱によって支持基板の温度
が上昇するので、基板温度が非晶質金属の結晶化温度を
越えないよう、基板を液体窒素や水などの冷媒を用いて
冷却することによシ冷却する。この支持基板上に直接目
的とする組成の非晶質磁性金属薄膜を形成する。
法がある。この方法は、よく知られているように、たと
えば(1〜10)×1O−21Orr程度の圧力のアル
ゴンガスを、高周波交番電調で電離させ、アルゴンイオ
ンを陰極側に配置されているターゲットに1KeV 程
度のエネルギーで衝突させて、ターゲット材料をスパッ
タさせ、陽極側に配置された支持基板上にターゲット材
料と同じ組成のN膜を形成するものである。この方法で
は、ターゲット側からの輻射熱によって支持基板の温度
が上昇するので、基板温度が非晶質金属の結晶化温度を
越えないよう、基板を液体窒素や水などの冷媒を用いて
冷却することによシ冷却する。この支持基板上に直接目
的とする組成の非晶質磁性金属薄膜を形成する。
この方法によれば、薄膜の組成、非晶質化ならびに厚み
の制御が容易であり、良質で耐摩耗性の良好な組成を有
する非晶質磁性金属簿膜を基板上に形成できる。さらに
、スパッタリングによる作成であるため、博くて基板と
の付着強度も極めて強い非晶質磁性金属膜を得ることが
可能となる。さらに、スパッタリング法は様々な種類の
基板の使用が可能で、非晶質磁性金属薄膜の形成された
支持基板をその一!ま使用するため、効果的なヘッドの
製造が可能となる。
の制御が容易であり、良質で耐摩耗性の良好な組成を有
する非晶質磁性金属簿膜を基板上に形成できる。さらに
、スパッタリングによる作成であるため、博くて基板と
の付着強度も極めて強い非晶質磁性金属膜を得ることが
可能となる。さらに、スパッタリング法は様々な種類の
基板の使用が可能で、非晶質磁性金属薄膜の形成された
支持基板をその一!ま使用するため、効果的なヘッドの
製造が可能となる。
なお、膜厚があ一!シ厚くなると、生成膜はその内部応
力によって前記支持基板から剥離してしまう恐れがある
。そのため、支持基板と目的とする薄膜との間に、双方
となじみのよい層を介在させ。
力によって前記支持基板から剥離してしまう恐れがある
。そのため、支持基板と目的とする薄膜との間に、双方
となじみのよい層を介在させ。
それによって薄膜の支持基板に対する接着力を高めて、
十分な膜厚の非晶質金属薄膜を得てもよい。
十分な膜厚の非晶質金属薄膜を得てもよい。
具体的には、はじめアルゴンガスに酸素ガスを混入して
おき、スパッタリングの進行に従って酸素分圧を徐々に
減少させ、ついには酸素分圧零として、支持基板側から
徐々に酸化度が減少し、ついには非晶質磁性合金となる
薄膜を形成する。このようにして支持基板上に非晶質磁
性金属薄膜を形成すると、それをかなシ厚くしても支持
基板から剥離してしまうようなことはなく、必要な膜厚
の非晶質磁性金属薄膜をガラスなどの酸化物基板上に均
一に形成することができる。ただ、1oμm以上の厚さ
の薄膜を形成しようとすると、それに大きな内部応力が
蓄積され、支持基板が歪んだ9彎曲したシする。このよ
うなおそれのあるときには、非磁性体層と非晶質磁性金
属層とを交互に積層形成して、膜全体として支持基板に
対してあまシ大きな応力を与えないようにする。また、
こうすることにより、高側′波特性が良好な狭トラツク
ヘッドに最適な構造が得られる。非磁性体層に抵抗率の
比較的高い材料、たとえばSiOやS 102、あるい
は非晶質金属層を形成する組成の酸化物など全使用する
と、表皮効果が小さくなり、全体としての高周波特性が
良好となる。基板材料としては、ガラスなどの高抵抗材
料を使用するのが望ましい。支持基板に銅などの非磁性
金属を使用すると、基板抵抗が低いために、基板中に渦
電流が生じる。それによって損失が生じるので、たとえ
磁性体の特性がよかったとしても、全体として十分な高
周波特性が得られなくなる。よって、磁気装置に使用す
る場合には、支持基板を高抵抗材料で構成することが望
ましい。
おき、スパッタリングの進行に従って酸素分圧を徐々に
減少させ、ついには酸素分圧零として、支持基板側から
徐々に酸化度が減少し、ついには非晶質磁性合金となる
薄膜を形成する。このようにして支持基板上に非晶質磁
性金属薄膜を形成すると、それをかなシ厚くしても支持
基板から剥離してしまうようなことはなく、必要な膜厚
の非晶質磁性金属薄膜をガラスなどの酸化物基板上に均
一に形成することができる。ただ、1oμm以上の厚さ
の薄膜を形成しようとすると、それに大きな内部応力が
蓄積され、支持基板が歪んだ9彎曲したシする。このよ
うなおそれのあるときには、非磁性体層と非晶質磁性金
属層とを交互に積層形成して、膜全体として支持基板に
対してあまシ大きな応力を与えないようにする。また、
こうすることにより、高側′波特性が良好な狭トラツク
ヘッドに最適な構造が得られる。非磁性体層に抵抗率の
比較的高い材料、たとえばSiOやS 102、あるい
は非晶質金属層を形成する組成の酸化物など全使用する
と、表皮効果が小さくなり、全体としての高周波特性が
良好となる。基板材料としては、ガラスなどの高抵抗材
料を使用するのが望ましい。支持基板に銅などの非磁性
金属を使用すると、基板抵抗が低いために、基板中に渦
電流が生じる。それによって損失が生じるので、たとえ
磁性体の特性がよかったとしても、全体として十分な高
周波特性が得られなくなる。よって、磁気装置に使用す
る場合には、支持基板を高抵抗材料で構成することが望
ましい。
このようにして、高抵抗基板上に非晶質磁性金属薄膜を
スパッタリング法にて形成してから、所定の形状に加工
し、ギャップ形成面が互いに向かい合うようにして突き
合わせて、磁気ヘッドコアを作る。第2図にその一例を
示す。図において、11が高抵抗支持基板、12は非晶
質磁性金属薄膜、13は両者間に介在する非磁性体層で
あり、これによって支持基板11と非晶質磁性金属薄膜
12との接着性を高めている。14は磁気ギャップ、1
6は磁心窓である。この例では、非晶質磁性金属薄膜1
2の厚さがトランク巾Wとなる。非晶質磁性金属薄膜1
2は磁気的な性質に優れ、耐摩耗性も良好なものである
ため、狭トランク磁気ヘッドとして適している。
スパッタリング法にて形成してから、所定の形状に加工
し、ギャップ形成面が互いに向かい合うようにして突き
合わせて、磁気ヘッドコアを作る。第2図にその一例を
示す。図において、11が高抵抗支持基板、12は非晶
質磁性金属薄膜、13は両者間に介在する非磁性体層で
あり、これによって支持基板11と非晶質磁性金属薄膜
12との接着性を高めている。14は磁気ギャップ、1
6は磁心窓である。この例では、非晶質磁性金属薄膜1
2の厚さがトランク巾Wとなる。非晶質磁性金属薄膜1
2は磁気的な性質に優れ、耐摩耗性も良好なものである
ため、狭トランク磁気ヘッドとして適している。
そして、本発明は支持基板上にスパッタリング法による
非晶質磁性金属薄膜を生成する構造であるため、基板と
薄膜の両者によりテープ摺動に対する耐摩耗性を向上さ
せることができ、良好な耐摩耗性を発揮でき、積層も容
易であり、狭トランクヘッドを精度良く作成できる。
非晶質磁性金属薄膜を生成する構造であるため、基板と
薄膜の両者によりテープ摺動に対する耐摩耗性を向上さ
せることができ、良好な耐摩耗性を発揮でき、積層も容
易であり、狭トランクヘッドを精度良く作成できる。
ところで、高分解能の磁気記録媒体では、その抗磁力(
Ha)が高いため、記録のために供給すべき磁束は多く
を要し、非晶質磁性金属薄膜12が磁気的に飽和してし
まうおそれがある。そのためには、高抵抗基板11の材
質として、高透磁率の磁性材料を使用すればよい。この
ようにすれば。
Ha)が高いため、記録のために供給すべき磁束は多く
を要し、非晶質磁性金属薄膜12が磁気的に飽和してし
まうおそれがある。そのためには、高抵抗基板11の材
質として、高透磁率の磁性材料を使用すればよい。この
ようにすれば。
飽和状態となる領域は、ギャップ14のごく近傍であり
、磁気記録媒体に十分な磁束を流すことができる。
、磁気記録媒体に十分な磁束を流すことができる。
あるいは、第3図に示すように、高抵抗基板11上に非
晶質磁性金属薄膜12を十分な厚さに形成し、そのギャ
ップ14側の端面の巾を厚さよシ狭くすることによって
も、狭トラツク磁気ヘッドを構成することができる。こ
れもやはシ、磁気ギャップ14のごく近傍の部分が磁気
的に飽和するだけであるので、磁気記録媒体に十分な磁
束を供給することができる。
晶質磁性金属薄膜12を十分な厚さに形成し、そのギャ
ップ14側の端面の巾を厚さよシ狭くすることによって
も、狭トラツク磁気ヘッドを構成することができる。こ
れもやはシ、磁気ギャップ14のごく近傍の部分が磁気
的に飽和するだけであるので、磁気記録媒体に十分な磁
束を供給することができる。
ところで、ギャップ部分を、非晶質磁性金属薄膜と熱膨
張係数がほぼ等しいガラスなどの非磁性材料で構成する
のが望ましい。特に、それiRFスパッタリング装置な
どを用いて被着形成すると、非晶質磁性金属膜と非磁性
ギャップ材とが強く接着するので、ビデオヘッドのよう
な磁気記録媒体との相対速度が大きく、かつそれと接触
摺動する磁気ヘッドでは、良好な耐摩耗性を示す。しか
し、ガラスと非晶質磁性金属膜の耐摩耗性が異なるので
、長期間使用するうちに、ガラスギャップ部分と非晶質
磁性金属膜との間に段差が生じるようにこれは、コアに
用いられている非晶質磁性金属薄膜の上にそれと物性が
似ている非磁性非晶質金属を形成すると、膜同士のなじ
みがよく、まだ、耐摩耗特性もほぼ同しくなるので、長
時間、磁気記録媒体と接触摺動させても、そのギャップ
部分に段差が非常に生じにくくなり、その摺動面が滑ら
かな状態に保持される。
張係数がほぼ等しいガラスなどの非磁性材料で構成する
のが望ましい。特に、それiRFスパッタリング装置な
どを用いて被着形成すると、非晶質磁性金属膜と非磁性
ギャップ材とが強く接着するので、ビデオヘッドのよう
な磁気記録媒体との相対速度が大きく、かつそれと接触
摺動する磁気ヘッドでは、良好な耐摩耗性を示す。しか
し、ガラスと非晶質磁性金属膜の耐摩耗性が異なるので
、長期間使用するうちに、ガラスギャップ部分と非晶質
磁性金属膜との間に段差が生じるようにこれは、コアに
用いられている非晶質磁性金属薄膜の上にそれと物性が
似ている非磁性非晶質金属を形成すると、膜同士のなじ
みがよく、まだ、耐摩耗特性もほぼ同しくなるので、長
時間、磁気記録媒体と接触摺動させても、そのギャップ
部分に段差が非常に生じにくくなり、その摺動面が滑ら
かな状態に保持される。
以上のように、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、支持
基板上にスパッタリング法を用いて非晶質磁性金属膜を
生成し、所定形状に加工してギヤソゲ形成面が向かい合
うようにつき合せ、巻線を巻装するものであり、磁気コ
アの飽和特性、高周波9域における磁気特性がすぐれ、
強度ならびに耐摩耗性が極めて良好となり、高精度に狭
トラツクに適した高性能の磁気ヘッドを制御性良く実現
することが可能となり、高性能磁気ヘッドの工業的製造
に大きく寄与するものである。
基板上にスパッタリング法を用いて非晶質磁性金属膜を
生成し、所定形状に加工してギヤソゲ形成面が向かい合
うようにつき合せ、巻線を巻装するものであり、磁気コ
アの飽和特性、高周波9域における磁気特性がすぐれ、
強度ならびに耐摩耗性が極めて良好となり、高精度に狭
トラツクに適した高性能の磁気ヘッドを制御性良く実現
することが可能となり、高性能磁気ヘッドの工業的製造
に大きく寄与するものである。
第1図は従来の磁気ヘッドの一例を示し、同図Aは正面
図、同図Bは平面図である。第2図および第3図はそれ
ぞれ本発明の方法により形成された磁気ヘッドの斜視図
である。 11・・・・・・支持基板、12・・・・・・非晶質磁
性金属薄膜、13・・・・・・非磁性体層、14・・・
・・・磁気ギャップ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第2
図 /4
図、同図Bは平面図である。第2図および第3図はそれ
ぞれ本発明の方法により形成された磁気ヘッドの斜視図
である。 11・・・・・・支持基板、12・・・・・・非晶質磁
性金属薄膜、13・・・・・・非磁性体層、14・・・
・・・磁気ギャップ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第2
図 /4
Claims (2)
- (1)支持基板上にスパッタリング法を用いて非晶質磁
性金属薄膜を生成し、前記支持基板を所定形状に加工し
ギャップ形成面が互いに向かい合うようにつき合せて磁
気へノドコアを形成することを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法。 - (2)ギャップ形成面のギャップ材を、スパッタリング
法にて形成することを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の磁気ヘッドの製造方法。 (31非晶質磁性金属薄膜を、非晶質磁性金属層と非磁
性体層の積層によ多形成すること全特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058682A JPS60242511A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058682A JPS60242511A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2488878A Division JPS54116663A (en) | 1978-03-03 | 1978-03-03 | Magnetic device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60242511A true JPS60242511A (ja) | 1985-12-02 |
| JPS6331855B2 JPS6331855B2 (ja) | 1988-06-27 |
Family
ID=13091324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60058682A Granted JPS60242511A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60242511A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4869308U (ja) * | 1971-12-06 | 1973-09-03 | ||
| JPS5194211A (ja) * | 1975-02-15 | 1976-08-18 | ||
| JPS52128115A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and its production |
-
1985
- 1985-03-22 JP JP60058682A patent/JPS60242511A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4869308U (ja) * | 1971-12-06 | 1973-09-03 | ||
| JPS5194211A (ja) * | 1975-02-15 | 1976-08-18 | ||
| JPS52128115A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and its production |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6331855B2 (ja) | 1988-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4608297A (en) | Multilayer composite soft magnetic material comprising amorphous and insulating layers and a method for manufacturing the core of a magnetic head and a reactor | |
| JPS6124806B2 (ja) | ||
| JPS6180512A (ja) | 磁気ヘッドコアの製造方法 | |
| JPS60242511A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP3127075B2 (ja) | 軟磁性合金膜と磁気ヘッドおよび軟磁性合金膜の熱膨張係数の調整方法 | |
| JPH0668815B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| KR19980081856A (ko) | 연자기 박막 및 자기 헤드 | |
| JPS6238518A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
| JP2702997B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド及び磁気デイスク装置 | |
| JP3028109B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63112809A (ja) | 磁気ヘツド | |
| KR100200861B1 (ko) | 기록 재생용 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| JPS62140225A (ja) | 浮上型磁気ヘツド | |
| JPS61190702A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62246112A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS63279403A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61280009A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS63173215A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH113506A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS62141613A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2000011314A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS63285709A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0660315A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6394418A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0765316A (ja) | 磁気ヘッド |