JPS61190702A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はＶＴＲ，計算機用など高周波で用いられる磁気
ヘッドに関し、特に高保磁力記録媒体に対して好適で、
高出力の特性を有する磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

％完記録技術の高度化、特に磁気記録の高密度化に対す
る要請は、今日極めて強いものがある。

この要請に応えるためには、磁気記録媒体の保磁力Ｈ６
を大きくすることが有利であることは良く知られている
が、高保磁力の磁気記録媒体に信号を記録するためには
、強さが大きく、かつ鋭い分布を持つ記録磁場が必要と
なる。ところが従来からＶＴＲ用、計算機用磁気ヘッド
に広く用いられている高透磁率フェライト材料を磁気ヘ
ッドに用いる場合には、その飽和磁束密度Ｂ、が５５０
０Ｇ以下であるため、　得られる記録磁界の強さに限界
があり、特に最近開発されつつある高保磁カテーブを用
いた場合には記録が不十分になるという問題があった。

これを解決するために磁性材料としてＢ、の大きい金属
磁性材料を用いた磁気ヘッドが数多く提案されている。

例えば第２図に、Ｆｅ−Ａｊ−８ｉ系合金等の金属磁性
材料のブロック１をギャップ２を介して接合した磁気ヘ
ッドを示す（実開昭５７−５６３２１号公報）。この磁
気ヘッドでは、場合によっては狭小なトラック幅を得る
ために作動ギャップ近傍に溝を設け、非磁性材３を充填
することもある。第２図に示したように、バルクの金属
磁性材料を用いた場合には渦電流損失により高周波の透
磁率が低下し、ヘッドの再生出力が劣化するために、ｔ
１７ｃ３図、第４図に示すように非磁性基板上に金属磁
性材料の薄板を接合した磁気ヘッドも提案されている。

（％開昭４９−２９１１９号公報、特開昭５４−５１５
０６号公報）これらのヘッドでは非磁性基板４に金属磁
性薄板５が接合されて構成されている。これらの金属磁
性薄板の代りにスパッタリング法や蒸着法などの薄膜形
成法により作製した金属磁性膜が用いられることもある
。

これらの磁気ヘッドに用いられる金属磁性材料としては
、Ｎ　ｉ　−Ｆ　ｅ系合金（パー？０イ）、Ｆｅ−Ａｊ
−８ｉ系合金（七ンダストと称されている）等の結晶質
合金、あるいはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の磁性元素に非晶質
化元素としてＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ。

Ｇｅ　、　Ａｓ　、　Ｓｎ　、　Ｔｅ　、　Ｔｊ等のメ
タロイド元素やＴｉ　、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｎｂ、Ｔａ、
Ｗ　、希土類元素等の金属元素を含んだ非晶質合金が挙
げられる。

これらの非晶質合金には磁歪の調整、結晶化温度の増加
、耐摩網性、耐食性の改善などを目的として、Ｖ、Ｃｒ
、Ｍｏ、Ｍｕ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ。

Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｊ、等の金属
元素を添加することがある。また、上記結晶合金にも同
様に、耐食性、耐摩耗性の改善等を目的として、各種元
素を添加することが多る。

上記金属磁性材料として、Ｎｉ−Ｆｅ　　系合金、Ｆｅ
−Ａｊ−８ｉ系合金を磁気ヘッドに用いた場合には、こ
れらの合金は結晶異方性定数に１および磁歪定数λ、が
ともに零に近いため透磁率が高く、従って高い再生出力
が得られるという利点がある〇但し、これらの結晶質合
金の飽和磁束密度は最大的１０ｋＧである。またこれら
の結晶質合金のうちＦｅ−Ｎｉ系合金は硬度が低いため
に耐摩耗性に劣り、また、Ｆｅ−Ａｊ−８ｉ系は耐食性
に劣る等の問題があり、これらの問題を解決するために
多くの添加元素を加えて使用することが一般的に行なわ
れている。しかし、このように耐食性・耐摩耗性改善の
ための添加元素を加えた場合には必然的に飽和磁束密度
は減少し、耐食性・耐摩耗性の点で実用的に使用出来る
結晶質合金の飽和磁束密度はＦｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−
Ａｊ−８ｉ系合金とも７〜８ｋＧとなってしまう七いう
問題があった。

一方、非晶質合金は結晶粒界がないために耐食性にすぐ
れ、また硬度が高いために耐摩網性にもすぐれるという
特徴をもち、また組成を選択することにより約１６ＫＧ
までの極めて高い飽和磁束密度を得ることが出来る。こ
れらの非晶質合金は結晶磁気異方性がないためにに１　
は零であるが、比較的大きな誘導磁気異方性を有し、し
かもこの異方性は飽和磁束密度の増加とともに増大する
傾向がある。従って飽和磁束密度の大きい非晶質合金の
透磁率は、前記結晶質磁性合金の透磁率よりも小さいと
いう問題があった。非晶質合金の誘導磁気異方性は、適
当な熱処理あるいは磁場中熱処理により減少させること
ができ、これにより透磁率の増加を図ることが出来るが
、このよう（こして増加せしめた透磁率は、経時変化に
より徐々に減少する場合があること、また磁気ヘッドに
用いた時の非晶質合金の形状異方性等により、熱処理あ
るいは磁場中熱処理によっても十分に透磁率を向上でき
ないなどの問題がある。また、上記のように非晶質合金
はＦｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｊ−８ｉ　系等の結晶質合金
に比較して耐摩耗性は優れているものの、高透磁率フェ
ライト等の酸化物に比較した場合に耐摩耗性が劣るとい
う問題がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記のように非晶質合金および結晶質
合金を磁気へヴドに用いる場合の問題を解決し、高保磁
力媒体に対して記録および再生特性がすぐれ、かつ耐摩
耗性が高く信頼性にも優れた磁気ヘッドを提供すること
にある。

〔発明の概要〕

上記目的を解決するために、本発明の磁気ヘッドは、記
録媒体摺動面の大部分を耐摩耗性に優れた非磁性基板で
構成し、該非磁性基板に結合した金属磁性体で磁気回路
を構成し、記録媒体摺動面近傍の金属磁性体を非晶質合
金とし、磁気記録媒体対向面近傍以外の金属磁性体の少
なくとも一部を結晶質磁性合金上したものである。記録
媒体摺動面近傍の金属磁性体に非晶質合金を用いること
により、非晶質合金の高い飽和磁束密度を利用して、記
録特性の優れた磁気ヘッドを得ることが出来る。また、
記録媒体摺動面近傍以外の金属磁性体をＦｅ−Ｎｉ系、
Ｆｅ−Ａｊ−Ｓｉ系合金、などの結晶質磁性合金とする
ことにより、磁気コアの後部コアの透磁率が高く保たれ
、従って再生効率の高い磁気ヘッドが得られる。さらに
、記録媒体摺動面の大部分は耐摩耗性に優れた非磁性材
で構成され、作動ギャップ近傍が非晶質合金で構成され
るため、耐摩耗性に浸れ、長寿命の磁気ヘッドが得られ
る。また、記録媒体摺動面に出る金属磁生体が耐食性に
浸れた非晶質合金であるため、高湿度の雰囲気において
使用しても錆等が発生せず、信頼性の高い磁気ヘッドが
得られる。

本発明に用いられる非晶質合金は、前記のようにＦｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ　　等の磁性元素に非晶質化元素および特性
向上のための添加元素を含むものであるが、非晶質化元
素がＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ等のメタロイド元素からなる非晶
質合金よりも、非晶質化元素の大部分がＴｉ　、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｙなどの金属元素から成る非晶
質合金が、耐食性、耐摩耗性の点で優れているためによ
り好ましい。

本発明に用いられる非磁性基板は、各種金属酸化物、ガ
ラスあるいはセラミックであり、また結晶化ガラス等も
用いることが出来る。例えばアルミナ、ジルコニア、フ
ォルステライト、キュリ一温度が室温以上の非磁性フェ
ライト、チタン酸バリウム、５ｉｏ２．　　フォトセラ
ム（米国コーニング社製品名）等を用いることが出来る
。また、ガラス状カーボンも用いることが出来る。これ
らの非磁性基板は硬度が高く、耐摩耗性に優れており、
これを磁気ヘッドの摺動面に用いることにより、長寿命
の磁気ヘッドを得ることが出来る。

次に本発明を実施例により説明する。

〔発明の実施例〕

実施例１ 第５図に本発明の磁気ヘッドおよび製造方法の一例を示
した。

第５図（イ）において、非磁性基板４としてＺｎフェラ
イトを用い、この上に結晶質磁性合金６としテハーマロ
イの薄板を接着する。次にこの上に第５図（ロ）におい
て、非晶質合金膜７を破着し、次いで第５図Ｐ→におい
て、面８を研摩により平坦にし、第５図に）において、
Ｚｎフェライトから成る保護板９を接着する。次いで第
５図に）の二点鎖線部を切断し、第５図（ホ）（ハ）の
ように磁気ヘッドコア半体１０および１０′を作製する
。次いで磁気ヘッドコア半休のギャップ面１１．１１’
を研削、研磨し、巻線窓用溝１２および接着用１３を加
工し、さらにギャップ面にギャップ材となるＳ　ｔ　０
２をスパッタリング法により被着する。次いで第１図（
イ）のようにギャップ材を介して磁気ヘッドコア半休を
突き合わせ、巻線窓部および接合用溝に接着剤１４を充
填し、磁気ヘッド１５を得る。

本実施例の磁気ヘッド１５において、結晶質磁性合金６
として５％Ｍｏ、７９％Ｎ　ｉ　、　ｌ　５％Ｆｅ（ｗ
ｔ％）の構成を有するスーパーマロイを使用する場合、
この材料の飽和磁束密度Ｂ、は約８ＫＧ　、１ＭＨｚの
透磁等は約３０００である。

また、本実施例の磁気ヘッドに用いたＣｏ８４Ｎｂ１３
Ｚｒ３　（ａｔ％）の組成を有する非晶質合金膜を用い
た場合、膜の８３は約９．５　ＫＧ　、　Ｉ　ＭＨｚの
透磁率は約１５００である。従って、本磁気ヘッドのよ
うに記録媒体摺動面近傍にＢＳ　の大きい非晶質合金を
用い、これ以外の磁気回路に透磁率の高いパーマロイ合
金を使用することにより、記録再生特性の優れた＠啜ヘ
ッドが得られることが明らかである。また本磁気ヘッド
は記録媒体摺動面が大部分が耐摩耗性の高いＺｎ−フェ
ライトで構成されているため耐摩耗性に優れ、また、摺
動面に出ている磁性体が耐摩耗性のせぐれた非晶質合金
であるため、非磁性基板と磁性体との摩耗段差が、パー
マロイ等の結晶質磁性合金を用いた場合に比較して小さ
く出来るため、スペーシングロスが小さく出来、この点
からも記録・再生特性の優れた磁気ヘッドが得られる。

さらに、非晶質合金は耐食性にもすぐれているため、高
湿度雰囲気で使用中に錆等を生じない信頼性の高い磁気
ヘッドが得られる。

本実施例で第５図（イ）、に）、および第１図（イ）で
用いられる接着剤はエポキシ樹脂等の有機接着剤でもよ
いが、耐温性等の信頼性を向上するためにはｐｂを主成
分とする低融点ガラス等の無機接着剤を用いることがよ
り好ましい。これらの低融点ガラスを接着剤として用い
る場合には、試料を加熱しなければならないが、第５図
（−１１第１図（イ）のように非晶質合金膜を被着後加
熱する場合には、加熱温度を磁気ヘッドに用いた非晶質
合金の結晶化温度以下にし、非晶質合金の特性が劣化し
ないように注意する必要がある。

本実施例において、第５図（イ）におけるパーマロイ薄
板のかわりに、パーマロイ等の蒸着膜あるいはスパッタ
膜等を用いてもよい。この場合第５図（イ）の溝１６を
形成する方法として、一旦結晶質磁性膜６を形成した後
、フォトエツチング等の手法により膜の一部を取り除く
方法等がある。さらに結晶質磁性体６としてパーマロイ
の替りに、Ｆｅ−Ａｊ−８ｉ　　系合金（七ンダスト）
の薄板あるいは膜を用いてもよい。

結晶質磁性合金の膜を用いる場合、本実施例では、結晶
質磁性合金膜を形成した後に非晶質合金膜を形成する方
法について述べる。本発明の磁気ヘッドにおいて、逆に
非晶質膜形成の後に結晶質磁性合金膜形成を行なっても
よいが、結晶質磁性合金膜の形成を先に行なう方がより
好ましい。その理由は、結晶質磁性合金膜形成の際には
磁気特性を向上するために基板温度を上昇させながら膜
魔を行なう場合が多く、この基板加熱による非晶質膜の
特性劣化を防ぐためである。

本実施例で用いることの出来る非晶質合金は前記のｃｏ
８４　Ｎｂ１３　Ｚｒ３の他に例えばＣｏＨＷ４　Ｚｒ
７（ＢＳ〜１２．５　ＫＧ　）、ｃ０８９　Ｎｉ５　　
Ｚｒ６　（Ｂ、　〜１４ＫＧ）、Ｃｏｇ２Ｔａ４　Ｚｒ
４（Ｂ、　〜１３　ＫＧ　）、ＣｏＨ４Ａｕ１．５　Ｚ
ｒ、５（Ｂ５””　１４．　ｓ　Ｋ　Ｇ　）Ｃｏ９４．
５　Ｚｒ５．５　（Ｂ、　〜１５　ＫＧ　）、Ｃｏｇ、
　Ｈｆ５　（Ｂ。

〜１５．５ＫＧ）ｒｊどがあり、これらはＢ、が大きく
磁歪定数もほとんど零に近いか、もしくは１〜３Ｘ１０
−’糧度の小さな値をもつ。また耐食性、耐摩耗性にも
すぐれている。

これらの非晶質合金膜の作製方法としてスパッタリング
法、蒸着法などが挙げられる。中でもスパッタリング法
は特性の良好な非晶質合金膜を作製するうえで好適であ
る。スパッタリング法としてはＲＦスパッタリング法、
高速マグネトロンスパッタリング法、高速３極プラズマ
スパツタリング法、イオンビームスパッタリング法、Ｄ
Ｃ対向ターゲットスパッタリング法など多くの方法があ
るが、いずれの方法も使用可能である。

本発明の磁気ヘッドにおいて、蒸着法あるいはスパッタ
リング法などにより結晶質磁性合金あるいは非晶質磁性
合金膜を形成する際に、磁性膜と薄いＳｉＯ２などの絶
縁物を交互に積層することにより渦電流効果が押えられ
、高周波における再生効果を一層高められる場合がある
。また、特開昭５１３−１９２３１１号公報に記載のよ
うに、５ｉ０２　以外に他の磁性体と緻密に積層した場
合に磁気特性が向上する場合がある。

本実施例に用いることの出来る非磁性基板は、前記のＺ
ｎフェライトの他に各種セラミックス、ガラス、結晶化
ガラスなどが挙げられる。これらの非磁性基板に必要な
性質として耐摩耗性の他に、加工性、熱膨張係数等が挙
げられる。特に熱膨張係数については、非晶質合金およ
び結晶質磁性合金と出来るだけ近い熱膨張係数を持つも
のが望ましく、具体的には８０〜１５０Ｘ１０−７より
好ましくは１１０〜１３０　Ｘ　１０−７の熱膨張係数
を持つものが望ましい。このような非磁性基板として、
ＮａＣｊｆｉ結晶構造を有するＺｎ−Ｍｎ−Ｎｉ系酸化
物Ｌｉ系結晶化ガラス、ジルコニア写が挙げられる。

実施例２ 第６図に本発明の磁気ヘッドおよびその製造方法の他の
一例を示した。第６図（イ）において巻線窓溝１２を形
成した非磁性基板４を用意し、第６図（ロ）において結
晶質磁性膜６をヌ′４ツタリング法あるいは蒸着法等に
より被着する。基板上に膜が付着していない部分１６は
、膜形成後、フォトエツチング等により作製するか、あ
るいはあらかじめ１６の部分にマスクを施し、その後膜
形成を行なうことにより作製することができる。次に第
６図（ハ）において非晶質合金膜７を形成する。この際
、上述のようにマスクをかけて膜形成を行なう。次に第
６図（−！Ｉにおいてギャップ面１１を研削、研磨し、
二点鎖線部を切断して磁気ヘッドコア半体１０．１０’
を作製する。次いでギャップ面にギャップ材となる５ｉ
Ｏｚ　を被着し、第６図（ホ）において磁気ヘッドコア
半休同志をギャップ材を介して接合し、接着剤１４を用
いて固着する。次に、第６図（ホ）の二点鎖線部を切断
して第１図仲）の磁気ヘッド１５を得る。

本実施例において、第６図に）で磁気ヘッドコア半体１
０．１０’を作製後、第７図（イ）（ロ）に示すように
、磁気ヘッドコア半休の記録媒体対向面側に溝１７を形
成することにより、第１図Ｇ／→のようにトラック幅Ｔ
Ｗをコア厚Ｔ０より減じた磁気ヘッドを作製することも
出来る。

本実施例の磁気ヘッドにおいて巻線窓用溝の形状は、第
８図（イ）に示したように記録媒体摺動面１８側の溝面
１９がギャップ面に対して傾き、他の溝面２０はギャッ
プ面に対して直角の形状でもよいが、第８図（ロ）に示
したように溝面１９　、２０ともギャップ面に対して９
０°より小さい角度の傾斜をもたすほうがより好ましい
。これは磁性膜形成の際の膜の粒子入射方向と基板面と
のなす角が９０’より小さい場合には垂直入射の場合に
比較して磁性膜の特性が悪くなる傾向があるためである
。この原図は、膜の粒子が斜゛めに入射した場合には膜
中に欠陥が生じやすいためと考えられる。

斜め入射による膜特性劣化の現象は結晶質膜において署
しく、非晶質膜においてはあまり顕著ではないという傾
向がある。これは結晶質膜では一般的に柱状晶が膜面に
垂直方向に成長し、この柱状晶の構造が粒子の入射方向
に著しく影響されるのに対して、非晶質膜では上記のよ
うな柱状晶はなく、均質な膜の成長が行なわれるため、
粒子の入射方向は膜の構造に大きな影響を与えないため
と思われる。

従って、第８図（イ）の溝面２０の上の磁性膜は溝面１
９の上の膜よりも特性が劣化するため’ｊ１１．８図（
ロ）のように溝の両面とも傾斜したほうが望ましい。

この溝面の角度θは小さいほど膜の特性は良好であるが
、θを小さくした場合、巻線を施す窓面積が小さくなる
ので、実質的には３０°〜８０’の範囲が望ましい。

本発明の磁気ヘッドでは、結晶質磁性合金を磁気ヘッド
の後部コア側に被着した後、非晶質合金を記録媒体摺動
面側に被着するので、窓部における磁性膜の磁気特性劣
化を防ぐために、第８図ｅ→のように後部コア側に結晶
質磁性合金を被着する時にギャップ面と垂直方向に対し
て角度４だけ粒子の入射方向を傾斜させて膜を被着させ
、記録媒体摺動面側に非晶質合金を被着させる場合には
逆方向に粒子の入射角度をψ′傾斜させて膜を形成する
ことも可能である。このときのψおよびψ′は０°から
θおよびθ′の間の角度とするのがよい０ その他、本実施例に用いられる非晶質合金膜、結晶質磁
性合金の組成および形成方法、さらに非磁性基板、接着
剤等については実施例１で述べたものと同様である。

実施例３ 第９図に本発明の磁気ヘッドおよびその製造方法のもう
一つの実施例を示した。第９図（イ）において、非磁性
基板４に溝２１を設けて、ギャップ面側に突出した突起
部２２を形成する。次に第９図（ロ）において、結晶質
磁性膜６を形成し、次に第９図（／→において非晶質合
金膜７を形成する。次に、第９図に）において、充填ガ
ラス２３を加熱溶融して溝２１に充填する。このガラス
としてはｐｂを主成分とした低融点ガラス等を用いるこ
さが出来る。

第９図（ホ）において次にギャップ摺動面１１を研削、
研摩し、第９図（ホ）の二点鎖線部を切断し、磁気ヘッ
ドコア半体１０．１０’を作製し、次いでギャップ面１
１にギャップ材となるＳｉＯ□をスパッタリング法によ
り被着する。次に第９図（へ）において磁気ヘッドコア
半休１０．１０’をギヤ、プ材を介して接合し、充填ガ
ラス２３を溶融固着して磁気ヘッドコア半休を結合する
。次に第９図（へ）の二点鎖線部を切断して第１図に）
に示した磁気ヘッドを得る。

本実施例のように、非磁性基板に山形の突起部を設けた
場合には、記録媒体摺動面における磁性膜の界面がギャ
ップ面と平行にならないため、いわゆるコンタ−効果を
生じないという利点があり、また、実効的トラック幅Ｔ
ｗよりもコア厚Ｔ０を大きく出来るため、磁束がギャッ
プ近傍に集中させることが出来、記録・再生特性が向上
出来るという利点がある。また、コア厚で。を大きく出
来るため耐摩耗性にもすぐれている。実施例２に述べた
ように、傾斜した基板面に磁性膜を形成した場合、平坦
部に形成した膜に比軟して磁気特性が劣化する場合があ
り、特に結晶質磁性膜においてその傾向が著しいことを
述べた。本実施例においては、非磁性基板の山形の突起
部に形成した磁性膜を磁気回路とするため、この部分の
磁気特性が劣化するおそれがある。そこで、第１図（ホ
）のように、記録媒体摺動面近傍のみに山形の突起を設
は後部コア部は突起部を設けずに平坦とした非磁性基板
を用いることにより、突起部を有する部分には、傾斜面
でも磁気特性の劣化が少ない非晶質合金膜を形成し後部
コアの平坦部には結晶質磁性合金膜を形成して磁気特性
の劣化を防いだ磁気ヘッドを得ることが出来る。

本実施例において、第９図に）で充填ガラスを溶融充填
する際、非晶質合金膜の表面がガラスと反りして非晶質
合金膜の一部の磁気特性が劣化する場合がある。これを
防ぐために、第９図（ハ）の非晶質合金膜を形成した後
に、Ｓｉｏ、、　Ａｌ２ｏ３等の非磁性材をスパッタリ
ング法等により被着し、その後ガラス充填を行イうこと
により、非晶質膜の磁気特性の劣化を防ぐ場合がある。

本実施例に用いられる巻線窓部の形状、非晶質合金膜お
よび結晶質磁性合金の組成およびその形成法、さらに非
磁性基板の種類などについては実施例１ないし２に述べ
たものと同様である。

〔発明の効果〕

以上述べたように、記録媒体摺動面近傍に非晶質合金を
用い、後部コアを非晶質磁性合金で構成し、さらに記録
媒体摺動面の大部分を耐摩耗性を有する非磁性基板で構
成するこきにより、高保磁力記録媒体を用いた場合にも
記録−再生特性に優れ、かつ耐摩耗性・耐食性などの信
頼性の高い磁気ヘッドが得ら力、ることが明らかである
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドの実施例を示す斜視図、第
２ないし第４図は従来の磁気ヘッドを示す斜袂図、第５
図ないし第９図は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一例
を示す図である。 ４・・・非磁性基板 ６・・・結晶質磁性合金 ７・・・非晶質磁性合金 １４・・・接着剤 ２３・・・充填ガラス 代理人　弁理士　小　川　勝　男 第７目 第４図 （ハ）　　　　　　　　　　　　　　　　　（ニ）不）
　　　　　　　　　　　（へ） 第夕磨 （λ）　　　　　　　　　　　　　　（ロ）（））ン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　、＝）
□□□　　　　第２図 第７図 （イン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　ＣロラＱソ　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　（す￥３目 （）ｇ　　　　　　　　　　　　　　　　（−）第デ固
　　゛９

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、耐摩耗性を有する非磁性体からなる基板上に結合し
   た金属磁性体を磁気回路に用いた磁気ヘッドにおいて、
   磁気記録媒体摺動面近傍の金属磁性体を非晶質合金とし
   、磁気記録媒体対向面近傍以外の金属磁性体の少なくと
   も一部を結晶質磁性合金とすることを特徴とした磁気ヘ
   ッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
   上記非晶質合金がスパッタリング法、蒸着法などの薄膜
   形成技術により形成した磁性膜であることを特徴とした
   磁気ヘッド。 ３、特許請求の範囲第２項記載の磁気ヘッドにおいて、
   上記結晶質合金がスパッタリング法、蒸着法などの薄膜
   形成技術により形成した磁性膜であることを特徴とした
   磁気ヘッド。 ４、特許請求の範囲第２項又は第３項の磁気ヘッドにお
   いて、２個の磁気ヘッドコア半体の少なくとも一方の非
   磁性体基板の磁気記録媒体対向面における断面形状がギ
   ャップ面側に突出している突起部を有し、該突起部に非
   晶質合金膜を被着したことを特徴とする磁気ヘッド。