JPS63173214A - 磁気ヘツド - Google Patents
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- JPS63173214A JPS63173214A JP317487A JP317487A JPS63173214A JP S63173214 A JPS63173214 A JP S63173214A JP 317487 A JP317487 A JP 317487A JP 317487 A JP317487 A JP 317487A JP S63173214 A JPS63173214 A JP S63173214A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は記録および再生用磁気ヘッドに係わり。
特に、高飽和磁束密度を有する磁性合金膜を用いて磁気
コアを構成したVTR用磁気ヘッドに関する。
コアを構成したVTR用磁気ヘッドに関する。
本発明の磁気ヘッドは、磁気コアが高飽和磁束密度を有
し蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成技術によっ
て形成された磁性合金膜で構成された磁気ヘッドであっ
て、前記磁性合金膜は保護基板上に該磁気ヘッドの作動
ギャップ突き合わせ面に対して不平行になるように非磁
性体膜を介して2層以上に積層された構成を有しており
、かつ前記非磁性体膜は前記磁性合金膜よりも高硬度で
あることを特徴とする。
し蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成技術によっ
て形成された磁性合金膜で構成された磁気ヘッドであっ
て、前記磁性合金膜は保護基板上に該磁気ヘッドの作動
ギャップ突き合わせ面に対して不平行になるように非磁
性体膜を介して2層以上に積層された構成を有しており
、かつ前記非磁性体膜は前記磁性合金膜よりも高硬度で
あることを特徴とする。
磁気コアを構成する磁性合金膜中に該磁性合金膜よりも
高硬度である非磁性体膜を介在させることにより、これ
を用いる磁気ヘッドの耐摩耗性を向上させ、長寿命化を
図るものである。
高硬度である非磁性体膜を介在させることにより、これ
を用いる磁気ヘッドの耐摩耗性を向上させ、長寿命化を
図るものである。
近年、記録密度の向上に伴い、VTRにおいても高密度
記録に適した高保磁力を有するメタルテープが使用され
るようになってきている。高保磁カメタルテープと組合
せて用いる磁気ヘッドには高飽和磁束密度を有すること
が求められ、フェライト材ではその飽和磁束密度が低く
、十分に記録することができない。
記録に適した高保磁力を有するメタルテープが使用され
るようになってきている。高保磁カメタルテープと組合
せて用いる磁気ヘッドには高飽和磁束密度を有すること
が求められ、フェライト材ではその飽和磁束密度が低く
、十分に記録することができない。
従来、高飽和磁束密度を有する磁気へラドコア材は、セ
ンダス) (Fg )J Si合金)やパーマロイ
(Fg N1合金)のような多結晶磁性合金のバルク
材、あるいは超急冷法によって作製された各種の非晶質
磁性合金の薄板(リボン材)を用いていた。しかし、こ
れらの金属磁性材をコア材に用いた場合、多結晶合金バ
ルク材では渦電流損失が問題となり高周波領域における
透磁率が十分得られない欠点がある。一方、非晶質合金
リボン材は厚みおよび表面性を均一に作製するのが難し
く。
ンダス) (Fg )J Si合金)やパーマロイ
(Fg N1合金)のような多結晶磁性合金のバルク
材、あるいは超急冷法によって作製された各種の非晶質
磁性合金の薄板(リボン材)を用いていた。しかし、こ
れらの金属磁性材をコア材に用いた場合、多結晶合金バ
ルク材では渦電流損失が問題となり高周波領域における
透磁率が十分得られない欠点がある。一方、非晶質合金
リボン材は厚みおよび表面性を均一に作製するのが難し
く。
両面を研磨する等の工程が必要となり生産性が悪い。
このため、最近では蒸着あるいはスパッタリング等の薄
膜形成技術を用いて作製した磁性合金膜をコア材とする
磁気ヘッドの検討が盛んに行なわれている。この種の磁
気ヘッドとしては9例えば。
膜形成技術を用いて作製した磁性合金膜をコア材とする
磁気ヘッドの検討が盛んに行なわれている。この種の磁
気ヘッドとしては9例えば。
第3図に示すもの(特開昭57−162116号公報)
や第4図に示すもの(特開昭56−169214号公報
)が提案されている。
や第4図に示すもの(特開昭56−169214号公報
)が提案されている。
すなわち、その一つは第3図に示すように、高透磁率フ
ェライトブロック30.30’の少なくとも磁気ヘッド
の作動ギャップ部となる部分に溝31.31’を設け、
該溝に蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成技術に
よって高飽和磁束密度金属磁性体膜32、32’を埋め
込んだ構造を有している。
ェライトブロック30.30’の少なくとも磁気ヘッド
の作動ギャップ部となる部分に溝31.31’を設け、
該溝に蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜形成技術に
よって高飽和磁束密度金属磁性体膜32、32’を埋め
込んだ構造を有している。
一方、第4図に示す磁気ヘッドは、高透磁率フェライト
ブロック40.40’をテープ摺動面における断面形状
が突出したV字状となるように加工し。
ブロック40.40’をテープ摺動面における断面形状
が突出したV字状となるように加工し。
該突出部41.41’の両側面と作動ギャップ形成面上
に高飽和磁束密度金属磁性体膜42.42’を形成した
ものである。
に高飽和磁束密度金属磁性体膜42.42’を形成した
ものである。
第3図、第4図に示すいずれの磁気ヘッドも高透磁率フ
ェライト高飽和磁束密度金属磁性体膜とを組み合わせた
複合型磁気ヘッドであり、高保磁カメタルテープに対し
てても十分な記録再生特性を有する。
ェライト高飽和磁束密度金属磁性体膜とを組み合わせた
複合型磁気ヘッドであり、高保磁カメタルテープに対し
てても十分な記録再生特性を有する。
前述した従来の磁気ヘッドはいずれも磁気コアに磁性合
金膜を用いているが、金属膜は多結晶合金膜および非晶
質合金膜のいずれもフェライト材よりも耐摩耗性が悪く
、それゆえ、これを用いた磁気ヘッドはヘッド寿命が短
くなるという欠点がある。
金膜を用いているが、金属膜は多結晶合金膜および非晶
質合金膜のいずれもフェライト材よりも耐摩耗性が悪く
、それゆえ、これを用いた磁気ヘッドはヘッド寿命が短
くなるという欠点がある。
本発明はかかる従来技術の磁気ヘッドが有する欠点を解
決し、高保磁力記録媒体に対しても十分な記録再生特性
を示し、かつフェライトヘッドと同等のヘッド寿命を有
する磁気ヘッドを提供することを目的とする。
決し、高保磁力記録媒体に対しても十分な記録再生特性
を示し、かつフェライトヘッドと同等のヘッド寿命を有
する磁気ヘッドを提供することを目的とする。
本発明の磁気ヘッドは上記の目的を達成するため、磁気
コアが高飽和磁束密度を有し、蒸着あるいはスパッタリ
ング等の薄膜形成技術によって形成された磁性合金膜で
構成された磁気ヘッドであって、前記磁性合金膜は該磁
気ヘッドの作動ギャップ突き合わせ面に対して不平行に
なるように非磁性体膜を介して積層された構成を有して
おり。
コアが高飽和磁束密度を有し、蒸着あるいはスパッタリ
ング等の薄膜形成技術によって形成された磁性合金膜で
構成された磁気ヘッドであって、前記磁性合金膜は該磁
気ヘッドの作動ギャップ突き合わせ面に対して不平行に
なるように非磁性体膜を介して積層された構成を有して
おり。
かつ該非磁性体膜は前記磁性合金膜よりも高硬度である
ようにしtこものである。
ようにしtこものである。
さらに、前記磁性合金膜の積層面を磁気記録媒体走行方
向に対して不平行にしても良い。
向に対して不平行にしても良い。
本発明の磁気ヘッドは、磁気コアを構成する磁性合金膜
中に該磁性合金膜よりも高硬度である非磁性体膜を介在
させるようにしたので、これを用いる磁気ヘッドの耐摩
耗性が向上し、フェライトヘッドと同等のヘッド寿命を
有する磁気ヘッドを容易に提供することができる。
中に該磁性合金膜よりも高硬度である非磁性体膜を介在
させるようにしたので、これを用いる磁気ヘッドの耐摩
耗性が向上し、フェライトヘッドと同等のヘッド寿命を
有する磁気ヘッドを容易に提供することができる。
また、前記磁性合金膜の積層面は該磁気ヘッドの作動ギ
ヤング突き合わせ面に対して不平行にしたので、疑似ギ
ャップとなることもナク、いわゆるコンタ−効果は生じ
ない。
ヤング突き合わせ面に対して不平行にしたので、疑似ギ
ャップとなることもナク、いわゆるコンタ−効果は生じ
ない。
さらに、薄膜多層化することにより高周波特性に優れた
磁気ヘッドが得られる。
磁気ヘッドが得られる。
以下1本発明の磁気ヘッドの実施例を図面により詳細に
説明する。
説明する。
第1図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す磁気ヘッ
ドの上面および側面図である。図中10,1σはMn−
ZrLフェライトからなる保護基板であり。
ドの上面および側面図である。図中10,1σはMn−
ZrLフェライトからなる保護基板であり。
その突き合わせ部がV字状の突起部を有し、該突起部に
高飽和磁束密度を有する磁性合金膜11.11’(例え
ばC6−Nb−Zr系非晶質合金)がスパッタリング法
によって形成される。前記磁性合金膜11゜ttS家各
々約30μm形成され、10μm X 3層の多層膜か
らなっている。多層膜はAl2O5,Z?−0□等の非
磁性体を中間膜として0.05〜0.1μm形成した多
層構造を有する。前記非磁性体としては他にTtO2゜
Tic 、 Ta2O,、Ti 、 Cr等があり、そ
れらを単独で。
高飽和磁束密度を有する磁性合金膜11.11’(例え
ばC6−Nb−Zr系非晶質合金)がスパッタリング法
によって形成される。前記磁性合金膜11゜ttS家各
々約30μm形成され、10μm X 3層の多層膜か
らなっている。多層膜はAl2O5,Z?−0□等の非
磁性体を中間膜として0.05〜0.1μm形成した多
層構造を有する。前記非磁性体としては他にTtO2゜
Tic 、 Ta2O,、Ti 、 Cr等があり、そ
れらを単独で。
あるいは組合せて用いることができる。12.12’は
一対のコア半休を接合、固着させるための非磁性接合材
であり、ガラスが充填されている。13は作動ギャップ
を示し、14はコイル巻線用窓である。
一対のコア半休を接合、固着させるための非磁性接合材
であり、ガラスが充填されている。13は作動ギャップ
を示し、14はコイル巻線用窓である。
前記磁気ヘッドの磁気回路は、磁性合金膜tt、u’が
作動ギャップを、介してコイル巻線窓14を周回して構
成されている。
作動ギャップを、介してコイル巻線窓14を周回して構
成されている。
なお、保護基板10,1σは非磁性フェライト、セラミ
ック等の非磁性体を用いても良い。この場合にはより媒
体摺動雑音の低い磁気ヘッドが得られる。
ック等の非磁性体を用いても良い。この場合にはより媒
体摺動雑音の低い磁気ヘッドが得られる。
第2図は本発明の磁気ヘッドの磁性合金膜の多層構造の
例を詳細に説明する。磁気ヘッド上面すなわち磁気記録
媒体走行面の拡大図である。図において付記した番号は
第1図と同一としである。
例を詳細に説明する。磁気ヘッド上面すなわち磁気記録
媒体走行面の拡大図である。図において付記した番号は
第1図と同一としである。
磁性合金膜11.11’は2層以上の多層膜からなって
おり、1層の膜厚は通常5〜10μm程度である。
おり、1層の膜厚は通常5〜10μm程度である。
ts、 15’は非磁性体中間膜の1つを示し、各中間
膜の膜厚は0.05〜0.1μm程度である。磁気コア
を形成する磁性合金膜は、その積層面およびエツジ部が
作動ギャップと平行部を持だな−・ように斜交した構造
とすることにより、疑似ギャップ作用によるコンタ−効
果を回避できる。保護基板のv字状突起部の角度θは6
0〜120°が適当である。
膜の膜厚は0.05〜0.1μm程度である。磁気コア
を形成する磁性合金膜は、その積層面およびエツジ部が
作動ギャップと平行部を持だな−・ように斜交した構造
とすることにより、疑似ギャップ作用によるコンタ−効
果を回避できる。保護基板のv字状突起部の角度θは6
0〜120°が適当である。
次に9本発明と従来例の磁気ヘッドの耐摩耗性を比較し
て第5図に示す。第5図は高保磁カメタルテープを用い
VTR装置で測定した。テープ走行時間に対するヘッド
摩耗量を示す。図中の曲線Aは単結晶MrL−ZrLフ
ェライトヘッドの摩耗曲線。
て第5図に示す。第5図は高保磁カメタルテープを用い
VTR装置で測定した。テープ走行時間に対するヘッド
摩耗量を示す。図中の曲線Aは単結晶MrL−ZrLフ
ェライトヘッドの摩耗曲線。
曲線Bは第1図および第2図に示した本発明の磁気ヘッ
ド(磁性合金膜は10μmX3層の多層膜)の摩耗曲線
である。また曲線Cとして、磁性合金膜に30μm厚単
層膜を用いた磁気ヘッドの摩耗曲線を合わせて示す。
ド(磁性合金膜は10μmX3層の多層膜)の摩耗曲線
である。また曲線Cとして、磁性合金膜に30μm厚単
層膜を用いた磁気ヘッドの摩耗曲線を合わせて示す。
磁性合金膜として単層膜を用いた磁気ヘッドの耐摩耗性
はフェライトヘッドに比べて大幅に劣っている。一方、
5io2を中間膜として多層化することにより耐摩耗
性を向上させることができ、10μmX3層の多層膜を
用いた磁気ヘッドではフェライトヘッドと同等の耐摩耗
性を有していることがわかる。
はフェライトヘッドに比べて大幅に劣っている。一方、
5io2を中間膜として多層化することにより耐摩耗
性を向上させることができ、10μmX3層の多層膜を
用いた磁気ヘッドではフェライトヘッドと同等の耐摩耗
性を有していることがわかる。
以上説明したごとく2本発明によれば、磁気コアが高飽
和磁束密度を有し蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成された磁性合金膜で構成された磁
気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜は保護基板上に該磁
気ヘッドの作動ギャップ突き合わせ面に対して不平行に
なるように非磁性体膜を介して2層以上に積層された構
成を有しており、かつ前記非磁性体膜は前記磁性合金膜
よりも高硬度とすることにより、高保磁力記録媒体に対
しても優れた記録再生特性を示し、かつフェライトヘッ
ドと同等のヘッド寿命を有する磁気ヘッドを容易に得る
ことができる。
和磁束密度を有し蒸着あるいはスパッタリング等の薄膜
形成技術によって形成された磁性合金膜で構成された磁
気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜は保護基板上に該磁
気ヘッドの作動ギャップ突き合わせ面に対して不平行に
なるように非磁性体膜を介して2層以上に積層された構
成を有しており、かつ前記非磁性体膜は前記磁性合金膜
よりも高硬度とすることにより、高保磁力記録媒体に対
しても優れた記録再生特性を示し、かつフェライトヘッ
ドと同等のヘッド寿命を有する磁気ヘッドを容易に得る
ことができる。
第1図(α)および(b)は本発明の磁気ヘッドの一例
を示す−F面図および側面図、第2図は本発明の磁気ヘ
ッドの磁性合金膜の多層構造の例を説明するための上面
拡大図、第3図(α)および(b)、第4図(α)およ
び(b)はそれぞれ従来の磁気ヘッドの、F面図および
側面図、第5図は本発明の磁気ヘッドの摩耗特性を示し
た曲線図である。 10.1σ:保誇基板、 11.11’ :磁性合金膜
、 12.12’:非磁性接合充填材、13:作動ギャ
ップ、14:コイル巻線窓、 15.15’ :非磁
性体中間膜。 〆″
を示す−F面図および側面図、第2図は本発明の磁気ヘ
ッドの磁性合金膜の多層構造の例を説明するための上面
拡大図、第3図(α)および(b)、第4図(α)およ
び(b)はそれぞれ従来の磁気ヘッドの、F面図および
側面図、第5図は本発明の磁気ヘッドの摩耗特性を示し
た曲線図である。 10.1σ:保誇基板、 11.11’ :磁性合金膜
、 12.12’:非磁性接合充填材、13:作動ギャ
ップ、14:コイル巻線窓、 15.15’ :非磁
性体中間膜。 〆″
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁気コアが高飽和磁束密度を有し蒸着あるいはスパ
ッタリング等の薄膜形成技術によって形成された磁性合
金膜で構成された磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜
は保護基板上に該磁気ヘッドの作動ギャップ突き合わせ
面に対して不平行になるように非磁性体膜を介して2層
以上に積層された構成を有しており、かつ前記非磁性体
膜は前記磁性合金膜よりも高硬度であることを特徴とす
る磁気ヘッド。 2、前記磁性合金膜の積層面を磁気記録媒体走行方向に
対して不平行にしたことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の磁気ヘッド。 3、前記積層された磁性合金膜の1層当たりの厚みは1
5μm以下であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項または第2項記載の磁気ヘッド。 4、前記保護基板が高透磁率フェライトからなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の磁
気ヘッド。 5、前記保護基板が非磁性体からなることを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項記載の磁気ヘッド。 6、前記非磁性体膜はSiO_2、TiO_2、TiC
、Ta_2O_5、Al_2O_3、ZrO_2、Ti
、Crの中から選ばれた1種もしくはそれ以上の材料か
ら構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第3項記載の磁気ヘッド。 7、前記磁性合金膜はセンダスト合金あるいは非晶質合
金から構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項乃至第3項記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP317487A JPS63173214A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP317487A JPS63173214A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63173214A true JPS63173214A (ja) | 1988-07-16 |
Family
ID=11550019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP317487A Pending JPS63173214A (ja) | 1987-01-12 | 1987-01-12 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63173214A (ja) |
-
1987
- 1987-01-12 JP JP317487A patent/JPS63173214A/ja active Pending
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