JPS63302406A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

Info

Publication number
JPS63302406A
JPS63302406A JP13701187A JP13701187A JPS63302406A JP S63302406 A JPS63302406 A JP S63302406A JP 13701187 A JP13701187 A JP 13701187A JP 13701187 A JP13701187 A JP 13701187A JP S63302406 A JPS63302406 A JP S63302406A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thin film
soft magnetic
magnetic thin
soft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13701187A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomio Kobayashi
富夫 小林
Yoshito Ikeda
義人 池田
Junichi Saito
潤一 斉藤
Junichi Honda
順一 本多
Tatsuo Hisamura
達雄 久村
Etsuo Izu
伊豆 悦男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP13701187A priority Critical patent/JPS63302406A/ja
Publication of JPS63302406A publication Critical patent/JPS63302406A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、高抗磁力磁気記録媒体に対して記録・再生す
るに好適な磁気ヘッドに関し、詳細には磁気コア半体の
大部分が非磁性材料で構成され且つ磁気ギャップ近傍が
軟磁性薄膜で構成さη、てなる磁気ヘッドに関する。
〔発明の概要〕
本発明は、非磁性基板とこの非磁性基板に斜めに被着さ
れる軟磁性薄膜よりなる磁気コア半体対が突き合わされ
てなる磁気ヘッドにおいて、磁気コア半体に穿設された
巻線溝内にも軟(ff性薄膜を形成するとともに、非磁
性基板の一生面上における軟磁性薄膜を前記巻線溝によ
り分断されることのない連続膜として形成し、さらにこ
れら一主面上の軟磁性薄膜と巻線溝内の軟磁性薄膜とを
連袂膜として形成することにより、品S / N比、高
出力を得ることが可能な磁気ヘッドを提供しようとする
ものである。
〔従来の技術〕
(n気記録の分野においては、情報信号の冑密度記録化
や高周波数化等が進められており、これに対応して、磁
気記録媒体として磁性粉にFe、Co、N+等の強磁性
金属粉末を用いた、所謂メタルテープや、磁性金属材料
を′vi着等の真空薄膜形成技術によりベースフィルム
上に直接被着した、所謂蒸着テープ等が実用化されてい
る。
この種の磁気記録媒体は高い抗磁力や残留磁束密度を有
するので、情報信号の電磁変換特性を行うL9気ヘッド
のコア材料には、磁気記録媒体の抗磁力に見合った充分
高い飽和磁束密度が要求される。又、特に記録再生を同
一の磁気ヘッドで行う場合には、上述の飽和磁束密度の
みならず、適用する周波数帯域で充分に高い透磁率を有
することが要求される。
ところが、従来から多用されているフェライト等の磁性
材料を使用した磁気ヘッドでは、透磁率は高いものの、
飽和磁束密度が低いため、上記磁気記録媒体に対して充
分な記録特性を得ることができない。一方、Fe−Af
f−3i系合金等の軟磁性薄膜にて構成される磁気ヘッ
ドは、飽和磁束密度が大きく高抗磁力磁気記録媒体に対
して良好な記録特性を存するものの一般に使用されるヘ
ッド形状でのコア厚では使用周波数帯域での実効透磁率
が低(再生特性が劣化してしまう。
かかる状況より、従来フェライト等の磁性基板上にFe
−Al−5i系合金等の高飽和磁束密度を有する軟磁性
薄膜を被着し、該軟磁性薄膜同士を突き合わせて磁気ギ
ャップを構成するようにした磁気ヘッドが提案され実用
化されている。
上述のようなフェライト等の磁性基板上に軟磁性薄膜を
被着した磁気ヘッドとして、例えば第9図に示すような
構成のものが挙げられる。即ち、上記磁気ヘッドは、磁
性基板(lot) 、 (102)と軟ζH性薄膜(1
03) 、 (104)を主要な構成要素とする磁気コ
ア半体(105) 、 (106)が突き合わされてな
るものである。上記磁気ヘッドを構成する磁気コア半体
(105) 、 (106)は、そのギャップ形成面(
107) 、 (108)に対して所定の傾斜を有して
切り欠かれた一生面(109) 、 (110)が形成
され、該−主面(109)、 (110)上には、軟磁
性薄膜(103) 、 (104)が被着形成されてい
る。そして、一方の磁気コア半体(105)の該−主面
(109)の延在方向と直交する方向に巻線溝(111
)が穿設されている。この巻線溝(111)により、上
記磁気コア半体(105)の−主面(1(19)上に被
着形成された軟磁性薄膜(103)は分断されている。
上記巻線溝(111)は、コイルを巻回することによっ
て磁気ヘッドに信号を供給し、あるいは信号を取り出す
ようになっている。上述のように構成される磁気コア半
体(105) 、 (106)は、互いの一圧面(10
9) 、 (110)に形成された軟磁性薄膜(103
)。
(104)同士が対句するように間にギャップスペーサ
(図示せず。)を介して突き合わされ、さらに、上記磁
気ヘッドのギヤツブ形成部の両側には上記強磁性金属薄
膜の摩耗を防止するために非磁性材(112)、(11
3)が溶融充填されて磁気ヘッドを構成している。
3発明が解決しようとする問題点〕 上述のような構成の磁気ヘッドでは、磁気回路的には、
磁性基板であるフェライトを通して連続したものとなっ
ている。しかし、軟磁性薄膜自体は前述のように一方の
磁気コア半体に形成された巻線溝によって分断されてい
るため、例えば軟磁性薄膜が連続して形成されている場
合に比べ磁性基板での磁気抵抗が大きなものとなり、良
好な(U気持性が得られず、高密度記録化に対応するこ
とが困難な磁気ヘッドとなってしまう。
特に、基板の耐摩耗性の改善等の観点から非常に硬質な
セラミックス等の非磁性材料を磁気コア半体を構成する
基板として使用しようとすると、基板におけるE〃磁気
抵抗一層大きなものとなり、所定の磁気特性を得ること
が非常に難しくなる。
そこで、本発明は上述の従来の実情に鑑みて提案された
ものであり、非磁性材料による基板を使用した場合にも
高S/N比、高出力を得ることが可能な磁気ヘッドを提
供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上述の目的を達成するために、非磁性基板と
軟磁性薄膜よりなる磁気コア半体対が突き合わされてな
る磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ形成面に対し所定
角度傾斜してなる前記非磁性基板の一主面上及び前記−
主面と鎖交する如くに前記非磁性基板の少なくとも一方
の磁気コア半体に形成された巻線溝の内側面上に前記軟
磁性薄膜が形成されており、且つ前記非磁性基板の前記
一主面上における軟磁性薄膜が前記巻線溝により分断さ
れることなく、前記ギャップ面から後部ギャップ面へ連
続主面として形成されており、且つ前記一主面上の軟磁
性薄膜と前記巻線溝内側面上の軟磁性薄膜とが連続して
形成されていることを特徴とするものである。
〔作用〕
磁気コア半体に穿設された巻線溝内側面上に軟磁性薄膜
が連続的に形成され、且つ前記非磁性基板の前記一主面
上における軟En性薄膜が前記巻線溝により分断される
ことなく、前部ギャップ面から後部ギャップ面へ連続主
面として形成され、n11記一主面上の軟磁性薄膜と前
記巻線溝内側面上の軟磁性薄膜とが連続して形成されて
いることにより、磁気回路的に軟磁性薄膜が連続するこ
とになるため、磁気抵抗を非常に小さくすることができ
る。
又、軟磁性薄膜と磁気ギャップは所定の傾斜角を有して
いるため、軟磁性薄膜と磁気コアとの間において形成さ
れる擬似ギヤツブの効果が非常に小さい。
〔実施例〕
以下、本発明を適用した実施例について図面を参照しな
がら説明する。
第1図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す外観
斜視図であり、第2図はその磁気ヘッドをギャップ面で
分割した状態を示す外観斜視図である。本発明を適用し
た磁気ヘッドは、第1図及び第2図に示すように、非磁
性基板(1) 、 (2)と軟磁性薄膜(3) 、 (
4)を主要な構成要素とする磁気コア半体(5) 、 
(6)が突き合わされてなるものである。
上記非磁性基板(1) 、 (2)は、略直方体形状の
板状体で、その磁気ギャップ形成面(7) 、 (8)
側に対して所定角度(頃斜した一生面(9) 、 (1
0)が形成されている。この−主面(9) 、 (10
)の有する傾斜角度は、擬似ギャップによる悪影響の防
止、磁気特性や生産性等の向上、等の観点を考慮して決
定されるもので、ギヤノブ形成面(7) 、 (8)に
対して、15″〜806の範囲となるように形成される
ことが好ましい。この傾斜角が15°より小さい場合に
は、軟磁性薄膜と磁気コアとの間において擬似ギャップ
が形成され、その影響が大きなものとなり好ましくない
。又、この傾斜角が806よりも大きい場合には、軟磁
性薄膜を急峻な斜面上に形成することになり、膜付着速
度が遅く生産性等磁気ヘッド製造上の観点から好ましく
ない。さらに、傾斜角が80°よりも大きい場合には、
磁気へンドの当たりを確保するために充填される非磁性
材の占める体積が大きく成り過ぎることを意味するもの
で、逆に耐摩耗性に劣る磁気ヘッドとなってしまい好ま
しくない。尚、軟磁性薄膜と磁気ギヤ、ブのなす傾斜角
度が15″〜806の範囲内にある場合には、アジマス
ロスにより擬似ギヤツブの効果が非常に小さく、軟磁性
薄膜形成の観点からも非常に良好であるといえる6尚、
本実施例では上記(頃斜角は20″としている。
そして、上記非磁性基板(1) 、 (2)に形成され
た一生面(9) 、 (10)の延在方向と直交する方
向に巻線溝(11) 、 (12)が形成されている。
上記巻線溝(11)。
(12)は、磁気ギャップgのデプスを規定するととも
に、上記磁気ヘッドに駆動信号を供給するコイルが巻回
されるようになっている。上記巻線溝(11) 、 (
12)の形状は、特に限定されないが、後述する軟磁性
薄膜(3) 、 (4)が該巻線溝(11)、(12)
によって分断することがないように浅い溝として加工す
る必要がある。また、本発明を適用した磁気ヘッドでは
、該巻線溝(+1)、 (12)の内側面(11a) 
(12a)上にも軟磁性薄膜(3) 、 (4)が形成
されているため、上記軟磁性薄膜(3)、(4)を形成
する際に形成し易く且つ均一な膜を形成することができ
るように、該巻線’173 (11) 、 (12)の
形状は、広角度に切り欠かれた溝として形成されること
が好ましい。
上記巻線溝(11)、 (12)の形状を狭角度に切り
欠いた溝とした場合には、軟磁性薄膜が蒸着しにくく連
続膜として形成することが難しいこと、均一性に優れた
膜を形成することができず透磁率が低下すること、等の
問題を引き起こす虞がある。尚、この巻線溝(11) 
、 (12)の形状の影響は、アモルファススパッタ膜
の場合よりも結晶性のスパッタ膜においてより顕著であ
る。
上記磁気コア(5) 、 (6)を構成する非磁性基板
(1)。
(2)の材料としては、例えば熱膨張係数α−110〜
175 xlO−7/’cのガラスセラミックス(日型
ガラス社製、商品名ML−01〜07)、熱膨張係数α
−105〜115 xlO−’/’cのチタン酸カルシ
ウム、熱膨張係数α−105〜115 xlO−’/℃
のチタン酸バリウム、熱膨張係数α−78,5/℃のア
ルミナ・チタン・カーバイト(住友金属社製、商品名A
C−2)等のセラミック、熱膨張係数α=134 xl
O−’/℃の非磁性フェライト(日立金属社製、商品名
MN130)、熱膨張係数α−80〜85/’Cの非磁
性フェライト(日立金属社製、商品名ZF−1)等、そ
の他所定の特性を有する非磁性材料を使用することがで
き、磁気ヘッドに要求される特性に応じて適宜選択して
使用すればよい。
一方、上述のような形状の非磁性基板(1) 、 (2
)のギヤノブ形成面(7) 、 (8)側には、軟磁性
薄膜(3)。
(4)が被着形成されている。上記軟磁性薄膜(3)。
(4)は、非磁性基板(1) 、 (2)に形成された
一生面(9) 、 (10)上と巻′IfA/s (1
1) 、 (12)の内側面(lla)、(12a)上
とに形成されており、且つ上記−主面(9)。
(10)上に形成された軟磁性薄膜(3) 、 (4)
は、上記巻線溝(1]、) 、 (12)によって分断
されることなく、前部ギャップ面(7a) 、 (8a
)から後部ギャップ面(7b) 、 (8b)に亘る連
続膜として形成されている。またさらに、前記−主面(
9)、(10)上に形成されている軟磁性薄膜(3a)
 、 (4a)と前記巻線溝内側面(11a) 。
(12a)上に形成されている軟磁性薄膜(3b)、 
(4b)とが連続するように形成されている。即ち、軟
(任性薄膜(3) 、 (4)は、磁気コアを構成する
非磁性基板(1) 、 (2)の磁気ギヤツブ形成面(
7) 、 (8)側に形成される巻線溝(11)、(1
2)によって分断されることなく全面に亘って連続した
主面として形成されているのである。
上述のようにして形成されている軟iff性薄膜(3)
(4)の膜厚T−は、磁気ギャップのトラック幅を確保
するようになっている。また、この軟磁性薄膜(3) 
、 (4)は、非磁性基板(1) 、 (2)に斜面と
して形成されている一生面(9) 、 (10)上に形
成されていることから、磁気ギャップgと非平行となり
、所定の角度を有して傾斜面として形成されているので
所謂アジマス損失によりこの一生面(9) 、 (10
)がII似ギャップとして機能することがない。
上記軟磁性薄膜(3) 、 (4)としては、例えばF
e−Ga−3i系合金、Fe−Al2−Ge系合金、F
e−Ga−Ge系合金、Fe−3i−Ge系合金、Fe
−Co−3i系合金、FC−Go−3i−Al系合金等
の高飽和磁束密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた軟磁
性合金材料が挙げられる。
例えば、Fe−Ga−3i系合金の場合には、その組成
式を次式 Fe1lGabSic (但し、a、b、cはそれぞれ組成比を原子%として表
す。) で表したとき、組成範囲が、 68≦a+b≦84 1≦b≦23 9≦C≦31 a+b+c=100 なる関係を満足するものが使用される。
又、上記Fe−Ga−3i系合金材料において、Feの
一部をCOで置換してもよい。この場合、Coの増加と
ともに飽和磁束密度のみならず耐蝕性、耐摩耗性が向上
するが、CO置換量が多すぎると飽和磁束密度の劣化が
顕著になるばかりか軟磁気特性も悪化するので、Feに
対するCo置換量0〜15原子%に抑えるのが好ましい
さらに、上記Fe−Ga−3i系合金材料の耐蝕性や対
摩耗性の一層の向上を図るために、Fe、Ga、Co 
(Feの一部をCOで置換したものを含む)、Siを基
本組成とする合金にTi、Cr、Mn5Zr、Nb、、
Mo、T a 1W −、Ru 10s1Rh、Ir、
Re、Ni、Pd5Pt、Hf、Vの少なくとも一種を
添加してもよい。この場合、添加元素毎に添加量による
飽和磁束密度の減少の割合が異なるため、添加量は添加
元素毎に所定範囲内で適宜設定する。特に、Ruは耐摩
耗性の点で良好な効果を示し、添加元素として好適であ
る。
Ruの添加量は磁気特性の観点から15原子%以下であ
る。
尚、上記軟磁性薄膜は、in層膜として形成してもよく
、又所定の特性が得られるように積層膜として形成して
もよい。
上述の軟磁性薄膜の形成方法としては、従来公知の種々
の方法が考えられるが、ながでも真空薄膜形成技術の手
法が好適である。
この真空薄1漠形成技術の手法としては、スパッタリン
グ法やイオンブレーティング法、真空蒸着法、クラスタ
ー・イオンビーム法等が挙げられる。
特に酸素ガスあるいは窒素ガスを含む不活性ガス(Ar
ガス等)雰囲気中でスパッタリングを行い、得られる軟
磁性薄膜の耐蝕性等をより一層改善するようにしてもよ
い。
前記真空薄膜形成技術等により膜付けされた軟磁性薄膜
は、そのままの状態では保磁力が若干商い値を示し良好
な軟磁気特性が得られないので、熱処理を施して膜の歪
を除去し、軟磁性特性を改善することが好ましい。
本発明を適用した磁気ヘッドは、上述のような構成から
なる非磁性基板(1) 、 (2)と所定の箇所に形成
した軟磁性薄膜(3) 、 (4)とからなる磁気コア
半体(5) 、 (6)がギャップスペーサ(図示せず
。)を介して突き合わされ、磁気ギャップを形成して、
接合一体化されてなるものである。上記磁気ヘッドの磁
気ギャップgのトラック幅Twは、前述したように軟磁
性薄n’:4 (3) 、 (4)の膜厚によって規制
されている。そしてfn磁気コア半体5)、(ε)を接
合した際に存在する空間には当たり特性を確保し、耐摩
耗性を向上させるためにガラス等の非磁性材(14) 
、 (15)が充填されている。
以上のような構成の磁気ヘッドでは、磁気コア半体に穿
設された巻線溝内側面上に軟磁性薄膜が連続的に形成さ
れ、且つ前記非磁性基板の前記一主面上における軟磁性
薄膜が前記巻線溝により分11されることなく、前部ギ
ヤノブ面から後部ギャップ面へ連続主面として形成され
、前記一主面上の軟磁性薄膜と前記巻線溝内側面上の軟
磁性薄膜とが連続して形成されていることから、磁気回
路的に軟何1性薄膜が連続することになるため、(H気
抵抗を非常に小さくすることができ、飽和磁束密度を高
く保つことが可能となる。したがって、高S/N比、高
出力を得ることが可能な磁気ヘッドとなる。
次に、上記実施例の磁気ヘッドの構成をより明確なもの
とするために、その製造方法について説明する。
上記実施例の磁気ヘッドを製造するには、先ず、第3図
に示すように、非磁性材料からなる基板(31)を用意
し、該非磁性基板(31)の上面(31a) 、即ち非
磁性基板(31)における磁気コア半体突き合わせ接合
面(32)側に、回転砥石等により断面路■字状の一生
面(33a) 、 (33b)からなる溝(34)を全
幅に亘って複数平行に切削形成する。この?A(34)
により形成される一生面(33a) 、 (33b)の
傾斜角度は所望のトランク幅やアジマス角等に応じて適
宜設定されるが、ここでは、基板面に対して20°程度
とした。
次に、第4図に示すように非磁性基板(31)の−主面
(33a) 、 (33b)の延在方向と直交する方向
に所定の深さ及び形状の巻線溝(35)を砥石等により
切削加工を施し形成する。上記巻線溝(35)の形状は
、後述の工程で被着形成する軟磁性薄膜(36)が形成
され易いように広角度に切り欠かれた溝として形成され
る。また、上記巻線溝(35)は、その深さを前工程に
おいて形成した溝(34)の深さよりも浅い溝として形
成する必要がある。このような形状及び深さとすること
により、軟磁性薄膜を分断することなく、均−性高く形
成でき、U Gil率の向上を図ることができる。
続いて、第5図に示すように、上述のように加工形酸し
た非磁性基板(31)の接合面(32)側に当たる加工
面全面に対して軟磁性薄膜(36)を形成する。
上記軟磁性薄膜(36)は、S線溝(35)によって分
断されることなく、前部ギャップ面(37a)から後部
ギャップ面(37b)に亘り、さらに上記−主面(33
a> 、 (33b)からS&51溝(35)内側面(
35a)に亘って連続した主面として形成されている。
上記軟磁性薄膜(36)は、所定のトラック幅Twを有
するような厚さとして形成されるもので、本実施例では
約30μm程度である。また、上記軟磁性薄膜は、通常
の真空奈着形成手段を用いて形成する。
その後、第6図に示すように、非磁性基板(31)のギ
ャップ形成面(38)に当たる接合面(32)と、前記
接合面(32)と直交する両側面(39)を平滑研磨す
る。これによって前部ギャップを構成する軟磁性薄膜(
36)の端面と後部ギャップを構成する軟磁性薄膜(3
6)の端面が現れる。
そして、第7回に示すように、上述のようにして作製さ
れた非磁性基板(31)の上面(31a)側の一生面(
33b)に対して、軟磁性薄膜(36)の膜厚分が残存
するように所定の曲率を有した曲面からなる研削溝(4
1)を形成する。この研削溝(41)は、磁気ヘッドの
当たり特性や磁気記録媒体との摺接面の耐摩耗性を向上
させるために設ける非磁性材(42)を充填するために
設けられるものである。該研削溝(41)は、上述のよ
うに曲面からなるものであってもよく、又■字状として
研削してもよい。
上述のように形成した非磁性基板(31)と軟磁性薄膜
(36)からなる磁気コア半体ブロック(40)を一対
用意し、第8図に示すように、該磁気コア半体ブロック
(40a) 、 (40b)のギヤー/1面(37)同
士が相対向するように間にギャップスペーサ(図示せず
。)を介して接合一体化する。そして、同時に前工程で
作製した溝(34)及び研削溝(41)によって形成さ
れる空間にガラス等の非磁性材(42)を当たり特性の
改善及び耐摩耗性強化等の目的で溶融充填する。
このように形成された磁気ヘンドブロック体(43)を
所定の幅にスライスすることによって第1に示すような
磁気ヘッドを得ることができる。このようにして作製さ
れた磁気ヘッドは、磁気記録媒体との当たり特性を改善
するために磁気記録媒体との摺接面を研磨して所定の曲
面とする。
ところで、本発明磁気ヘッドの作製方法としては、上述
の方法に限定されることはなく、6ff気コア半体の接
合面側に形成される軟磁性薄膜が巻線溝によって分断さ
れず、前部ギヤツブ面から後部ギャップ面に亘り、さら
に非磁性基板の一生面上に形成されている軟磁性薄膜と
前記巻線溝内側面上に形成されている軟磁性薄膜とが連
続するように作製することが可能であればどのような方
法によって作製してもよい。
尚、上述のようにして作製された磁気ヘッドの磁気記録
媒体との摺接面に現れる一生面の形状としては、斜めに
一直線状に連なるようなものばかりでなく、連続した一
生面として形成されていればよい。例えば上記−主面を
曲面により構成し、全体として略S字状に連なるように
形成してもよい。
また、本発明はこれまで説明してきたような非磁性材料
からなる基板を使用した磁気ヘッドにおいて非常に優れ
た効果を得ることができるが、フェライト等の磁性基板
を使用した磁気ヘッドにおいても適用できることはいう
までもない。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明においては、磁
気コア半体に穿設された巻線溝内にも軟磁性薄膜を形成
するとともに、非磁性基板の一生面上における軟磁性薄
膜を前記巻線溝により分断されることのない連続膜とし
て形成し、さらにこれら一主面上の軟磁性薄膜と巻線溝
内の軟磁性薄膜とを連続膜として形成しているので、磁
気回路的に軟磁性薄膜が連続することになり、磁気砥抗
を非常に小さくすることができる。したがって、非磁性
材料を使用した基板からなる磁気ヘッドであっても高S
/N比、高出力を得ることができる。
又、軟磁性薄膜と磁気ギャップは所定の傾斜角を有して
いるため、軟磁性薄膜と磁気コアとの間において形成さ
れるI疑似ギャップの効果を非常に小さくすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用した磁気ヘッドの外観斜視図、第
2図はそのギヤノブ面で分割した状態を示す外観斜視図
である。 第3図乃至第8図は第1図に示す磁気ヘッドを製造する
ための製造工程の一例を工程順に従って示すもので、第
3図は一生面形成工程、第4Mは巻線溝形成工程、第5
図は軟磁性薄膜形成工程、第6図は接合面及び側面研削
工程、第7図は研削溝形成工程、第8図は磁気コア半体
ブロック接合工程をそれぞれ示す斜視図である。 第9図は従来の磁気ヘッドの構成例を示す外観斜視図で
ある。 1.2・・・非磁性基板 3.4・・・軟磁性薄膜 5.6・・・磁気コア半体 7.8・・・磁気ギャップ形成面 7a、8a・・・前部ギャップ面 7b、8b・・・後部ギャップ面 9.10・・・−主面 11.12・・・巻線溝 特許出願人   ソニー株式会社 代理人  弁理士  生地  晃 同   田村 榮− 同   佐藤  勝 第3図 第4図 q 第5図 第6図 第7図 第9図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非磁性基板と軟磁性薄膜よりなる磁気コア半体対が突き
    合わされてなる磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ形成
    面に対し所定角度傾斜してなる前記非磁性基板の一主面
    上及び前記一主面の延在方向と直交する如くに前記非磁
    性基板の少なくとも一方の磁気コア半体に形成された巻
    線溝の内側面上に前記軟磁性薄膜が形成されており、且
    つ前記非磁性基板の前記一主面上における軟磁性薄膜が
    前記巻線溝により分断されることなく前部ギャップ面か
    ら後部ギャップ面へ連続主面として形成されており、且
    つ前記一主面上の軟磁性薄膜と前記巻線溝内側面上の軟
    磁性薄膜とが連続して形成されていることを特徴とする
    磁気ヘッド。
JP13701187A 1987-05-30 1987-05-30 磁気ヘッド Pending JPS63302406A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13701187A JPS63302406A (ja) 1987-05-30 1987-05-30 磁気ヘッド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13701187A JPS63302406A (ja) 1987-05-30 1987-05-30 磁気ヘッド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63302406A true JPS63302406A (ja) 1988-12-09

Family

ID=15188728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13701187A Pending JPS63302406A (ja) 1987-05-30 1987-05-30 磁気ヘッド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63302406A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH035205U (ja) * 1989-05-31 1991-01-18
JPH0589414A (ja) * 1991-09-26 1993-04-09 Sharp Corp 磁気ヘツドとその製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61190702A (ja) * 1985-02-20 1986-08-25 Hitachi Ltd 磁気ヘツド
JPS6238514A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Hitachi Ltd 磁気ヘツド
JPS62209704A (ja) * 1986-03-11 1987-09-14 Canon Electronics Inc 磁気ヘツド

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61190702A (ja) * 1985-02-20 1986-08-25 Hitachi Ltd 磁気ヘツド
JPS6238514A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Hitachi Ltd 磁気ヘツド
JPS62209704A (ja) * 1986-03-11 1987-09-14 Canon Electronics Inc 磁気ヘツド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH035205U (ja) * 1989-05-31 1991-01-18
JPH0589414A (ja) * 1991-09-26 1993-04-09 Sharp Corp 磁気ヘツドとその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2513205B2 (ja) 複合磁気ヘツド
JPS63302406A (ja) 磁気ヘッド
JPH0624044B2 (ja) 複合型磁気ヘッド
JP2775770B2 (ja) 軟磁性薄膜の製造方法
JP2586041B2 (ja) 複合磁気ヘッド
JPS6339106A (ja) 磁気ヘツド
JPS6214313A (ja) 磁気ヘツド
JP2565173B2 (ja) 複合磁気ヘツド
JP2513206B2 (ja) 重ね書き用複合磁気ヘツド
JPS61190702A (ja) 磁気ヘツド
JPH045046Y2 (ja)
JPH0548244Y2 (ja)
JPH0522283B2 (ja)
JPS63209014A (ja) 接合磁気ヘツド
JPH0522963B2 (ja)
JPH0580724B2 (ja)
JPH0522284B2 (ja)
JPS62246112A (ja) 磁気ヘツドの製造方法
JPH0476168B2 (ja)
JPH07110910A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH06203323A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPH0795362B2 (ja) 複合磁気ヘツド
JPS62197907A (ja) 磁気ヘツド
JPH08115505A (ja) 磁気ヘッド
JPH052714A (ja) 複合磁気ヘツド