JPS63285709A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ＶＴＲ，ｐＡＴ等の高保磁力の磁気記録媒体
に高密度に情報を記録、再生するのに適した磁気ヘッド
の製造方法に関するものである。

従来の技術 高密度磁気記録再生においては記録媒体の保磁力を大き
くすれば有利であることが一般に知られているか高保磁
力の記録媒体に情報を記録するためには強い磁場が必要
である。ヘッドコア材として主流をなすフェライト材は
その飽和磁束密度が４０００〜５０００ガウス程度であ
るために得られる記録磁界の強さに限界があり、磁気記
録媒体の保磁力が１０００エルステツドを越えてくると
記録が不十分になるという欠点がある。

一方、金属磁性材料で総括されるセンダスト（ＦｅＡｆ
Ｓｉ）合金、ＣｏＴａＺｒなどのアモルファス合金等を
用いた磁気ヘッドは一般にフェライト材を用いたヘッド
よりも記録能力が大きい１摺動ノイズが小さいという優
れた特徴を有する。

この金属磁性材料を用いた磁気ヘッドの一例を第２図に
示す（たとえば特開昭６１−２５７２２７号公報）。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記の製造方法で得られる磁気ヘッドでは
記録再生効率が不十分という欠点を有している。本発明
ではかかる点に鑑みてなされたものであり、記録再生効
率のより大きな磁気ヘッドの製造方法を提供するもので
ある。

問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するために、磁気ヘッドの作
動ギャップ近傍部以外のコア幅をトラック幅よりも大き
くすることである。

作用 第３図において作動ギャップ部１５での磁気抵抗をＲＦ
、それ以外の部分の磁気抵抗をＲ８とすると、感度ＳＡ
よ ＲＦ＋ＲＢ となる。

ここで作動ギャップ近傍部以外のコア厚を大きくすると
Ｒ８の値は小さくなり、感度Ｓは大きくなり記録再生効
率が大きくなる。

実施例 （実施例１） 第１図（１１，（２１に本発明の磁気ヘッドの製造方法
の一実施例を示す、以下順を追って製造方法を説明して
いく。

（ａｌでは耐摩耗性に優れた非磁性酸化物基板ｌに所定
幅の溝２を所定間隔で複数本形成する。溝の深さはトラ
ック幅よりも大きければ発明の効果は十分ある。

ｆｂｌでは溝２にガラス層（図では省略）を形成した後
に、溝の深さよりも少し大きめのセンダスト薄帯３を溝
２に埋め込み、加熱処理して上記基板１と接着し、研摩
を行ってセンダスト薄帯３と非磁性基板ｌとが面一にな
った複合基板４を作成する。

（Ｃ）ではｆｂｌで得られた複合基板４の一枚にトラッ
ク幅に相当するセンダスト薄膜５をスパッタ法により形
成する。この際高周波特性を良くするためにセンダスト
薄膜はセンダストとＳｌＯ□もしくはＺｒ−フェライト
などの絶縁物との積層構造にするのが望ましい、またも
う一枚の複合基板４にはＤＩＰ　ＧＬＡＳＳ法などによ
りガラスＮ６を数μｍ形成する。

（ｄｌではｆｉｌで得られた二枚の複合基板４を加熱加
圧接着して複合ブロックを形成する。この際センダスト
の磁気特性を考慮に入れて５００℃〜８００℃の温度範
囲で接着を行うのが望ましい、この後この複合ブロック
を短冊切断し、切断バー７ａ〜７ｆを得る。

（１１１ではこの切断バー二本を一組として、少なくと
も一方の切断バーにも巻線溝加工を行い、所望のギャッ
プ長が得られるようにギャップ対向面８にガラス層を形
成する。

（ｆｌでは、この二本のバーのギャップ対向面を合わせ
て再び加熱加圧接着し、切断によってヘッドチップを作
り上げる。

（実施例２） 実施例１において、第１図（ｂｌで溝２の部分に埋め込
むセンダスト薄帯３の代わりにＣｏＴａＺｒ。

ＣｏＮｂＴａＺｒ、ＣｏＦｅ５ｉＢなどのＣｏ基アモル
ファス合金を用い、第１図ｆｃｌでセンダスト薄膜５の
代わりに、前述のＣｏ基アモルファス合金薄膜をスパッ
タ法で形成し、その他の工程は実施例１と同じという磁
気ヘッドの製造方法である。

なお本発明は前述した実施例に限定されるものではない
、溝部にセンダスト薄帯を埋めた複合基板上にアモルフ
ァス合金をスパッタ法で製膜する、もしくは溝部にアモ
ルファス薄帯を埋めた複合基板上にセンダスト薄膜をス
パッタ法で製膜するという構成でも同様の効果があるこ
とは言うまでもない。

このような製法で作られたヘッドチップはギャップ近傍
部以外のコア厚がトランク幅に比べて十分大き〈従来の
形状のものに比べて優れた記録再生特性を示す、またテ
ープ摺動面がセンダスト膜もしくはアモルファス合金膜
と非磁性酸化物基板のみで構成されており、耐摩耗性に
も非常に優れるといった特徴を合わせもっている。

発明の効果 以上のように本発明によれば作動ギャップ近傍部以外の
コア厚がトランク幅に比べて大きく、記録再生効率の優
れた磁気ヘッドを供給することができる。

説明図、第２図は従来の製造方法によって作られる磁気
ヘッドの斜視図、第３図は磁気ヘッドの模式図である。

１・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・溝、３・・
・・・・センダスト薄帯、４・・・・・・複合基板、５
・・・・・・センダスト薄膜、６・・・・・・ガラス層
、７・・・・・・切断バー、８・・・・・・ギャップ対
向面、９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ・・・・・・切断線。

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Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性酸化物基板上に所定幅の溝を所定幅で複数
   本形成し、その溝部にガラス層を形成し、前記溝の深さ
   より厚い軟磁性薄帯を溝の部分に埋め込み加熱して前記
   非磁性酸化物基板に接着し前記非磁性酸化物基板と軟磁
   性薄帯が面一になるように研摩し複合基板を作製した後
   、一枚の前記複合基板上にトラック幅に相当する厚さの
   軟磁性合金薄膜をスパッタ法で形成し、もう一枚の前記
   複合基板上にはガラス層を形成し、これら二枚の複合基
   板を加圧加熱接着し、所定のアジマス角を有するように
   短冊切断を行い、複数本の複合バーを得た後、この複合
   バーの二本を一組として少なくとも一本の複合バーに巻
   線溝を形成し、所望のギャップ長が得られるように、ギ
   ャップ対局面にガラス膜を形成し、再び加熱加圧接着を
   行い、所定の大きさに切断して得られたヘッドチップの
   後部コア厚さが作動ギャップ近傍でのコア厚さより大き
   くなっていることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. （２）軟磁性薄帯がセンダスト合金薄帯もしくはアモル
   ファス合金薄帯であることを特徴とする特許請求の範囲
   第（１）項記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. （３）軟磁性合金薄膜がセンダスト合金薄膜もしくはア
   モルファス合金薄膜であることを特徴とする特許請求の
   範囲第（１）項記載の磁気ヘッドの製造方法。