JPS63279403A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ＶＴＲ，ＤＡＴ等の高保磁力の磁気記録媒体
に高密度に情報を記録、再生するのに適した磁気ヘッド
の製造方法に関するものである。

従来の技術 高密度磁気記録再生においては記録媒体の保磁力を大き
くすれば有利であることが一般に知られているが、高保
磁力の記録媒体に情報を記録するためには強い磁場が必
要である。ヘッドコア材として主流をなすフェライト材
はその飽和磁束密度が４０００〜５０００ガウス程度で
あるために得られる記録磁界の強さに限界があり、磁気
記録媒体の保磁力が１０００エルステツドを越えてくる
と記録が不十分になるという欠点がある。

一方、金属磁性材料で総括されるセンダスト（ＦｅＡｅ
Ｓｉ）合金、ＣｏＴａＺｒなどのアモルファス合金等を
用いた磁気ヘッドは一般にフェライト材を用いたヘッド
よりも記録能力ｈ＜大きい、摺動ノイズが小さいという
優れた特徴を有する。

この金属磁性材料を用いたヘッドの一例を第３図に示す
、（例えば特開昭６ｌ−２５７２２７）発明が解決しよ
うとする問題点 しかしながら、上記の磁気ヘッドでは記録再生効率が不
十分という欠点を有している。

本発明ではかかる点に鑑みてなされたものであり、記録
再生効率のより大きな磁気ヘッドの製造方法を提供する
ものである。

問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するために、磁気ヘッドの作
動ギャップ近傍部以外のコア幅をトラック幅よりも大き
くすることである。

作用 第３図において作動ギャップ部１９での磁気抵抗をＲＦ
、それ以外の部分の磁気抵抗をＲ８とすると、感度Ｓは Ｒｒ＋ＲＢ となる。□ ここで作動ギャップ近傍部以外のコア厚を大きくすると
ＲＢの値は小さくなり、感度Ｓは大きくなり記録再生効
率が大きくなる。

実施例 本発明の実施例について図面を用いて説明する。

（実施例１） 第１図は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一実施例であ
る。以下順を逼って製造方法を説明していく。

まず耐摩耗性に優れた非磁性酸化物基板１を２枚を１組
として考えてい＜、（ａｌでは１組の基板ｌに所定幅の
溝２を所定間隔で形成する。溝の深さはトラック幅より
も大きければ発明の効果は十分ある。山）ではこの溝に
センダスト合金膜ａ３をスパッタ法により着膜する。こ
の際コアの渦電流損失を小さくするために、上記合金膜
ａ３はセンダスト合金膜と３１０．もしくはＺｎ−フェ
ライトなどの絶縁物との積層構造にするのが望ましい。

その後研摩によりセンダスト合金膜ａ３と基板ｌが面一
になる複合基板を作成する。（Ｃ）では複合基板の１枚
にはトラック幅に相′当する厚さのセンダスト膜ｂ４を
スパッタ法により作製する。他の１枚には、ＤＩＰ　　
ＧＬＡＳＳ法によりガラス層５を形成する。（ｄ）では
この２枚の複合基板を加圧加熱接着し、図のようなブロ
ックを製造する。この際センダストの磁気特性を考慮に
入れて５００℃〜８００℃の温度範囲で接着を行うのが
望ましい。

その後このブロックを短冊切断し、複合バー６ａ〜６ｆ
を作製する。（ｅ）ではこの複合バーの２本を１＆［ｌ
として少なくとも１′本の゛複合バーには巻線用の／１
ｌＩ７を作った後、ギャップ対向面に所望のギャップ長
が得られるようにガラス層をスパッタ法により作製する
。（ｆ）ではこの２本のバーを再び加圧加熱接着した後
に切断によってヘッドチップを作り上げる。

（実施例２） 第２図に第２の実施例を示す。

＋ａ）では耐摩耗性に優れた非磁性酸化物基板ｌＯ上に
溝を基盤の目の状に作る。この深さはトラック幅よりも
深ければ十分効果はある。この溝にスソパタ法によりセ
ンダスト膜ａｌｌを作成する。

この際高周波特性を良くするために、センダスト膜とＳ
　ｒ　０２もしくはＺｎ−フェライトなどの絶縁膜との
積層構造にするのが望ましい。スパッタ後、センダスｌ
−１１１ａｌｌと非磁性酸化物基板１０とが面一になる
ように研摩を行い複合基板を作製する。偽）では（ａｌ
で得られた複合基板の１枚にトラック幅に相当する厚さ
のセンダスト膜ｂ１２をスパッタ法により形成し、もう
１枚の複合基板にはＤＩＰ　　ＧＬＡＳＳ法によりガラ
スＪ１１３を形成する。（Ｃ１ではこの２枚の複合基板
を加圧加熱接着する。温度はセンダストの磁気特性を考
慮に入れて５００℃〜８００℃が望ましい、この後、接
着されたブロックに短冊切断を施す。（ｄｉでは短冊切
断で得られたバー１４３，１４ｂを２零ＩＪｔｌとして
、一方のバーに巻ＮＩＡ溝加工を行いギャップ対向面の
片側もしくは両側に所望のギャップ長が得られるように
、ガラスもしくはＳｉＯ□とガラスをスパック法で着膜
する。（ｅｌではこの２本のバーを加圧加熱接着し、こ
のブロックを切断することでｆｆ）で示されるヘッドチ
ップが得られる。

（実施例３） 実施例１において非磁性基板の溝部分に作製するセンダ
スト膜ａ３と複合基板上に作製するセンダスト膜ｂ４の
代わりにアモルファス合金膜を用い、その他の工程は同
しという磁気ヘッドの製造方法。

（実施例４） 実施例２において非磁性基板の溝部分に作製するセンダ
スト膜ａｌｌと、複合基板上に作製するセンダスト膜ｂ
１２の代わりにアモルファス合金膜を用い、その他の工
程は同じという磁気ヘッドの製造方法。

このような製法で作られたヘッドチップはギャップ近傍
部以外のコア厚がトラック幅に比べて十分大き〈従来の
形状のものに比べて優れた記録再生特性を示す。

また、テープ摺動面がセンダスト膜もしくはアモルファ
ス合金膜と非磁性酸化物基板のみで構成されており、耐
摩耗性にも非常に優れるといった特徴を合わせもってい
る。

発明の効果 以上のように本発明によれば、作動ギャップ近傍部以外
のコア厚がトラック幅に比べて大きく、記録再生効率の
優れた磁気ヘッドを供給することができる。

法の説明図、第３図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第４
図は磁気ヘッドの模式図である。

代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　はか１名第１図 ／Ｃ） （ｅ） 第２図 （α） （ｂン （、ｆ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性酸化物基板上に所定幅の溝を所定間隔で複
   数本形成し、その溝部に第一の軟磁性合金薄膜をスパッ
   タ法で形成した後、研摩により前記基板と軟磁性合金薄
   膜が面一になった複合基板を作製し、前記複合基板の１
   枚にトラック幅に相当する厚さの第二の軟磁性合金薄膜
   を形成し、もう１枚の前記複合基板上にはガラス層を形
   成し、これら２枚の複合基板を加圧加熱接着し、所望の
   アジマス角を有するように短冊切断を行い、そのうちの
   ２本を１組として少なくとも１本に巻線溝加工を行い、
   所望のギャップ長が得られるようにギャップ対向面にガ
   ラス膜を形成し、再び加圧加熱接着を行い所定の大きさ
   に切断したヘッドチップの作動ギャップ近傍部以外のコ
   ア厚が作動ギャップ近傍部でのコア厚より大きくなって
   いることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. （２）第二の軟磁性合金薄膜がスパッタ法で形成される
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気
   ヘッドの製造方法。