JPH0766497B2 - 磁気ヘツド - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、磁気回路を構成する軟磁性薄膜とその軟磁性
薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドに関するもので
ある。

〈従来の技術〉 磁気記録技術の高密度化に伴ってメタルテープ等の高保
磁力媒体が、主流になってきた現在、磁気ヘッドに使用
されるコア材料は高い飽和磁束密度を有するものが要求
されている。

このような状況の下で第３図（ａ）に示すような軟磁性
金属の薄帯あるいは薄膜１をコア材料とする磁気ヘッド
が試作されている。また軟磁性金属の薄帯あるいは薄膜
１を軟磁性フェライト２で挾み込む形態のコアを用いる
第３図（ｂ）に示すような磁気ヘッドも試作されてい
る。

〈発明が解決しようとする問題点〉 第３図（ａ）に示す構造からなる磁気ヘッドの場合は、
インダクタンスが小さくとれるため高周波対応の磁気ヘ
ッドとして有望視される。軟磁性金属の薄帯あるいは薄
膜１を非磁性基板３で挾み込んで構成するため、製造工
程が繁雑にならざるを得なかった。

つまり、磁気ヘッド加工の後半工程の最終段階で、ギャ
ップ溶着を行なった磁気コアブロックを各チップ毎にス
ライスする際、所定のピッチがでていることが望まし
い。そのためには、挾み込む基板に対して平坦度，平行
度，厚み公差などかなり厳しい条件が必要となり、製造
工程の管理に対する負担が非常に大きくなる。またこの
時生じたピッチ誤差は第３図（ａ）に示すような構造の
磁気ヘッドを加工する時の量産性に係わり、歩留りを低
下させる原因となる。

さらにインダクタンスを小さくするためにヘッドチップ
の幅を小さくしてインダクタンスを減少させる試みもな
されているが、この場合ヘッドの摩耗性が問題となって
くる。

また第３図（ｂ）に示す構造の磁気ヘッドの場合は、磁
気ヘッドの摺動面にフェライトが出現するため摩耗特性
の点では良好になることが予想される。しかしこの場合
も軟磁性金属の薄帯あるいは薄膜１を軟磁性フェライト
２で挾み込むため、製造の後半工程が前記第３図（ａ）
の構造の磁気ヘッドと同様に繁雑になる。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記従来の磁気ヘッドがもつ欠点を除去した磁
気ヘッドを提供する。

本発明は、磁気回路を構成する軟磁性薄膜と該軟磁性薄
膜を支持する基板からなる磁気ヘッドにおいて、トラッ
ク幅とほぼ同じ寸法の膜厚からなる軟磁性薄膜が、トラ
ック幅方向には軟磁性薄膜を支持する基板と該基板とほ
ぼ同等の摩耗性を有する非磁性体とで支持し、記録媒体
摺動方向に前記基板のトラック幅方向への突出部を配
し、あるいは記録媒体摺動方向に前記基板とほぼ同等の
摩耗性を有する非磁性体を形成することによって、前記
軟磁性薄膜を基板又は該基板とほぼ同等の摩耗性を有す
る非磁性体とで囲んだことを特徴とする磁気ヘッドであ
る。

〈作用〉 本発明による磁気ヘッド構造では、記録媒体との摺動面
において、軟磁性薄膜がトラック幅方向及び摺動方向の
いずれにおいても非磁性体或いは軟磁性フェライト等の
他の材質によって囲んだ構成を採るため基板による挾み
込み等の繁雑な組立て作業を経る必要がなくなる。また
軟磁性薄膜が囲まれるため、摩耗性を損うことなく縮小
した形状の磁気ヘッドも可能になる。

〈実施例〉 本実施例では、軟磁性薄膜としてFeAlSi系合金を用い、
そのFeAlSi薄膜を支持する基板として感光性結晶化ガラ
スを用いているが、軟磁性薄膜としては例えばNiFe系合
金でも良いし、薄膜を支持する基板としては結晶化ガラ
スであっても良いしセラミックスであっても良い。さら
に薄膜を支持する基板としては、本実施例の磁気ヘッド
構造では磁気回路が軟磁性薄膜で閉じているため軟磁性
フェライトといった磁性基板であってもかまわない。薄
膜を支持する基板の選択基準としては、摩耗特性による
ものが主ではあるが、それ以外にも所望する磁気ヘッド
のインダクタンス、Ｑ値を考慮して選択することが望ま
しい。

本発明による一実施例の磁気ヘッドを第１図に示す。図
において、FeAlSi系合金からなる軟磁性薄膜８は、感光
性結晶化ガラス５からなる基板及び該基板と同等の耐摩
耗性を有する低融点ガラス10の両非磁性材料で挾持され
ている。特に上記軟磁性薄膜８は、磁気ヘッドの記録媒
体摺動方向においても感光性結晶化ガラス５で挾持さ
れ、記録媒体の摺動面で軟磁性薄膜８は囲まれた形体を
なす。磁気ギャップ近傍の感光性結晶化ガラスは一部が
除去され、代って上記低融点ガラス10より作業温度が低
い性質を有する第２低融点ガラス12が充填されている。

次に上記磁気ヘッドの作製工程を挙げて詳細に説明す
る。

第２図（ａ）において、基板となる感光性結晶化ガラス
５の表面に、最終的な磁気ヘッドの厚さ、分断する際の
切り代を考慮したピッチ寸法Ａで第１溝６が刻設され
る。該第１溝６の少なくとも一方の側壁6aは、基板表面
の法線とほぼアジマス角θに等しくなるように加工され
る。上記アジマス角θにほぼ等しい角度に加工した斜面
に対して、スパッタ法，蒸着法等の薄膜形成技術を利用
して第２図（ｂ）の如く磁気ヘッドのトラック幅７に相
当する膜厚となるようにFeAlSi系合金薄膜８を形成す
る。該FeAlSi系合金薄膜８は、磁気ヘッドを動作させる
周波数帯域によっては、絶縁層を挾み込んで積層した構
造にしてもよい。このように積層したFeAlSi系合金薄膜
を用いた磁気ヘッドでは、磁気回路を構成するコアのコ
ア効率は積層していない構造の磁気ヘッドに比べ高周波
帯域において改善される。

上記工程によって被着したFeAlSi系合金薄膜８の表面に
続いてスパッタ法，蒸着法,CVD法，プラズマCVD法，イ
オンプレーティング法等を用いて第２図（ｃ）の如く非
磁性薄膜９を保護膜として形成する。一方の側壁6aにFe
AlSi系合金薄膜８及び非磁性薄膜９を堆積した後、第１
溝６に上記基板の感光性結晶化ガラス５と同等の摩耗性
を有する低融点ガラス10を第２図（ｄ）のように充填す
る。尚本実施例では充填材として低融点ガラスを用いた
が、感光性結晶化ガラスと同等の摩耗性を有するもので
あれば、例えば結晶化ガラス等の材料であってもよい。

第２図（ｅ）は、感光性結晶化ガラス基板５に所定ピッ
チＡで上述の工程を経てFeAlSi系合金薄膜８等を形成し
たコアブロックの平面図で、該基板５は表面に直交し、
且つ第１溝６に直交する面内で適当な寸法に切断され、
磁気ヘッドを作製するためのコアブロック13を作製す
る。

上記コアブロック13について、第２図（ｆ）に示すよう
に、FeAlSi系合金薄膜８を形成した第１溝６の側壁6aと
側壁11aが角度をなすように第２溝11を、上記第１溝
６と平行に形成する。本実施例では、上記第２溝11の作
製は基板５をコアブロックに分割した後に形成したが、
基板５を第２図（ｅ）に示すコアブロック13に分割する
前に作製してもよい。上記作製した第２溝11に、第２図
（ｇ）の如く第１溝６を充填した低融点ガラス10に比べ
て作業温度の低い第２の低融点ガラス12を充填する。

上述のように作製されたコアブロック13について、公知
のVTR用フェライトヘッド加工工程と同様に、コイル巻
線窓加工、ギャップ対向面の平面研磨、ギャップスペー
サの形成等を施こし、更にガラス溶着を行って第２図
（ｈ）に示す如く磁気ヘッドコアブロック14を形成す
る。上記磁気ヘッドコアブロック14は、基板に磁気ヘッ
ド構造が多数個連設した状態にあるため、次に各磁気ヘ
ッドに分割する。即ち第２図（ｉ）に示す如くアジマス
角を確保するためにFeAlSi系合金薄膜12に対して平行な
平面で磁気ヘッドの幅15をもってスライスし、整形す
る。上述のようにして得られた磁気ヘッドについて、従
来の磁気ヘッド構造と同様にベース板への当該磁気ヘッ
ドの接着固定、コイル巻線、テープ研磨を施こして磁気
ヘッドを完成する。

上述のような工程を経て作製することになり、トラック
幅とほぼ同程度の膜厚からなるFeAlSi系合金薄膜８が、
トラック幅方向には感光性結晶化ガラス５と低融点ガラ
ス10で挾持され、記録媒体摺動方向には感光性結晶化ガ
ラス５で挾持され、摺動面において合金薄膜８が完全に
感光性結晶化ガラス、低融点ガラス等の他の材質で囲ま
れた磁気ヘッド構造となる。

〈効果〉 本発明によれば、磁気ヘッドの幅を変えることなく磁気
ヘッドコアの大きさを調整することができるため、磁気
ヘッドの大きさを小さくしてインダクタンスを小さくし
た場合に従来装置で生じる耐摩耗性の劣化という欠点を
克服でき、また基板のはりあわせが不必要となっている
ため工程の簡略化をはかることができる。さらに磁気回
路としては軟磁性薄膜で閉じているため、基板として非
磁性基板に限定することなく軟磁性フェライト等の磁性
材を用いることも可能であり、基板の選択範囲が広くな
るだけでなく、従来のフェライトヘッド加工工程を十分
に利用できるという多くの効果が期待できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例を示す磁気ヘッドの斜視
図、第２図（ａ）〜（ｉ）は同実施例の製造工程を説明
するための図、第３図（ａ），（ｂ）は従来の磁気ヘッ
ド斜視図である。 5:感光性結晶化ガラス、8:FeAlSi系合金薄膜、10:低融
点ガラス、12:第２低融点ガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 道嶋 正司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 山本 達志 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 ▲吉▼川 光彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板と、 該基板上に形成され、記録媒体摺動方向には前記基板よ
   りも短い長さを有するとともに前記記録媒体摺動方向と
   直角な方向にはトラック幅とほぼ同じ寸法を有し磁気回
   路を構成する軟磁性薄膜と、 該軟磁性薄膜を前記基板との間に挟持するように、前記
   基板と前記軟磁性薄膜上に形成された前記基板とほぼ同
   等の摩耗性を有する非磁性体とを備え、 前記軟磁性薄膜を対向せしめることによって磁気ギャッ
   プを構成すると共に、前記磁気ギャップの中心を幾何学
   的中心として記録媒体摺動面において前記基板と前記非
   磁性体とを点対称となるように配し、磁気ギャップを構
   成する軟磁性薄膜を基板及び該基板とほぼ同等の摩耗性
   を有する非磁性体とで囲んだことを特徴とする磁気ヘッ
   ド。