JPS63146204A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS63146204A JPS63146204A JP29367086A JP29367086A JPS63146204A JP S63146204 A JPS63146204 A JP S63146204A JP 29367086 A JP29367086 A JP 29367086A JP 29367086 A JP29367086 A JP 29367086A JP S63146204 A JPS63146204 A JP S63146204A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、磁気回路を構成する軟磁性薄膜とその軟磁性
薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドに関するもので
ある。
薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドに関するもので
ある。
〈従来の技術〉
磁気記録技術の高密度化に伴ってメタルテープ等の高保
磁力媒体が、主流になってきた現在、磁気ヘッドに使用
されるコア材料は高い飽和磁束密度を有するものが要求
されている。
磁力媒体が、主流になってきた現在、磁気ヘッドに使用
されるコア材料は高い飽和磁束密度を有するものが要求
されている。
このような状況の下で第3図(a)に示すような軟磁性
金属の薄帯あるいは薄膜1をコア材料とする磁気ヘッド
が試作されている。また軟磁性金属の薄帯あるいは薄膜
lを軟磁性フェライト2で挾み込む形態のコアを用いる
第3図(b)に示すような磁気ヘッドも試作されている
。
金属の薄帯あるいは薄膜1をコア材料とする磁気ヘッド
が試作されている。また軟磁性金属の薄帯あるいは薄膜
lを軟磁性フェライト2で挾み込む形態のコアを用いる
第3図(b)に示すような磁気ヘッドも試作されている
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
第3図(a)に示す構造からなる磁気ヘッドの場合は、
インタリタンスが小さくとれるため高周波対応の磁気ヘ
ッドとして有望視される。軟磁性金属の薄帯あるいは薄
膜1を非磁性基板3で挾み込んで構成するため、製造工
程が繁雑にならざるを得なかった。
インタリタンスが小さくとれるため高周波対応の磁気ヘ
ッドとして有望視される。軟磁性金属の薄帯あるいは薄
膜1を非磁性基板3で挾み込んで構成するため、製造工
程が繁雑にならざるを得なかった。
つまり、磁気ヘッド加工の後半工程の最終段階で、ギャ
ップ溶着を行なった磁気コアブロックを各チップ苺にス
ライスする際、所定のピッチがでていることが望ましい
。そのためには、挾み込む基板に対して平坦度、平行度
、厚み公差などかなり厳しい条件が必要となり、製造工
程の管理に対する負担が非常に大きくなる。またこの時
化じたピッチ誤差は第3図(a)に示すような構造の磁
気ヘッドを加工する時の量産性に係わり、歩留りを低下
させる原因となる。
ップ溶着を行なった磁気コアブロックを各チップ苺にス
ライスする際、所定のピッチがでていることが望ましい
。そのためには、挾み込む基板に対して平坦度、平行度
、厚み公差などかなり厳しい条件が必要となり、製造工
程の管理に対する負担が非常に大きくなる。またこの時
化じたピッチ誤差は第3図(a)に示すような構造の磁
気ヘッドを加工する時の量産性に係わり、歩留りを低下
させる原因となる。
さらにインダクタンスを小さくするためにヘッドチップ
の幅を小さくしてインダクタンスを減少させる試みもな
されているが、この場合ヘッドの摩耗性が問題となって
くる。
の幅を小さくしてインダクタンスを減少させる試みもな
されているが、この場合ヘッドの摩耗性が問題となって
くる。
また第3図(b)に示す構造の磁気ヘッドの場合は、磁
気ヘッドの摺動面にフェライトが出現するため摩耗特性
の点では良好になることが予想される。
気ヘッドの摺動面にフェライトが出現するため摩耗特性
の点では良好になることが予想される。
しかしこの場合も軟磁性金属の薄帯あるいは薄膜1を軟
磁性フェライト2で挾み込むため、製造の後半工程が前
記第3図(a)の構造の磁気ヘッドと同様に繁雑になる
。
磁性フェライト2で挾み込むため、製造の後半工程が前
記第3図(a)の構造の磁気ヘッドと同様に繁雑になる
。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は上記従来の磁気ヘッドがもつ欠点を除去した磁
気ヘッドを提供する。
気ヘッドを提供する。
本発明は、磁気回路を構成する軟磁性薄膜と該軟磁性薄
膜を支持する基板を備えてなる磁気ヘッドにおいて、は
ぼトラック幅と同程度の膜厚からなる軟磁性薄膜を、ト
ラック幅方向には上記軟磁性薄膜を支持する基板と該基
板とほぼ同等の摩耗性を有する非磁性体で挾持し、記録
媒体摺動方向には軟磁性薄膜を支持する基板または上記
非磁性体で挾持して構成し、軟磁性薄膜を記録媒体摺動
面において基板及び非磁性体で囲んで構成する。
膜を支持する基板を備えてなる磁気ヘッドにおいて、は
ぼトラック幅と同程度の膜厚からなる軟磁性薄膜を、ト
ラック幅方向には上記軟磁性薄膜を支持する基板と該基
板とほぼ同等の摩耗性を有する非磁性体で挾持し、記録
媒体摺動方向には軟磁性薄膜を支持する基板または上記
非磁性体で挾持して構成し、軟磁性薄膜を記録媒体摺動
面において基板及び非磁性体で囲んで構成する。
〈作 用〉
本発明による磁気ヘッド構造では、記録媒体との摺動面
において、軟磁性薄膜がトラック幅方向及び摺動方向の
いずれにおいても非磁性体或いは軟磁性フェライト等の
他の材質によって囲んだ構成を採るため基板による挾み
込み等の繁雑な組立て作業を経る必要がなくなる。また
軟磁性薄膜が囲まれるため、摩耗性を損うことなく縮小
した形状の磁気ヘッドも可能になる。
において、軟磁性薄膜がトラック幅方向及び摺動方向の
いずれにおいても非磁性体或いは軟磁性フェライト等の
他の材質によって囲んだ構成を採るため基板による挾み
込み等の繁雑な組立て作業を経る必要がなくなる。また
軟磁性薄膜が囲まれるため、摩耗性を損うことなく縮小
した形状の磁気ヘッドも可能になる。
〈実施例〉
本実施例では、軟磁性薄膜としてFeAfiSi系合金
を用い、そのFeAfsi薄膜を支持する基板として感
光性結晶化ガラスを用いているが、軟磁性薄膜としては
例えばNiFe系合金でも良いし、薄膜を支持する基板
としては結晶化ガラスであっても良いしセラミックスで
あうでも良い。さらに薄膜を支持する基板としては、本
実施例の磁気ヘッド構造では磁気回路が軟磁性薄膜で閉
じているため軟磁性フェライトといった磁性基板であっ
てもかまわない。薄膜を支持する基板の選択基準として
は、摩耗特性によるものが主ではあるが、それ以外にも
所望する磁気ヘッドのインダクタンス、Q値を考慮して
選択することが望ましい。
を用い、そのFeAfsi薄膜を支持する基板として感
光性結晶化ガラスを用いているが、軟磁性薄膜としては
例えばNiFe系合金でも良いし、薄膜を支持する基板
としては結晶化ガラスであっても良いしセラミックスで
あうでも良い。さらに薄膜を支持する基板としては、本
実施例の磁気ヘッド構造では磁気回路が軟磁性薄膜で閉
じているため軟磁性フェライトといった磁性基板であっ
てもかまわない。薄膜を支持する基板の選択基準として
は、摩耗特性によるものが主ではあるが、それ以外にも
所望する磁気ヘッドのインダクタンス、Q値を考慮して
選択することが望ましい。
本発明による一実施例の磁気ヘッドを第1図に示す。図
において、FeAnSi系合金からなる軟磁性薄膜8は
、感光性結晶化ガラス5からなる基板及び該基板と同等
の耐摩耗性を有する低融点ガラスlOの両弁磁性材料で
挾持されている。特に上記軟磁性薄膜8は、磁気ヘッド
の記録媒体摺動方向においても感光性結晶化ガラス5で
挾持され、記録媒体の摺動面で軟磁性薄膜8は囲まれた
形体をなす。磁気ギャップ近傍の感光性結晶化ガラスは
一部が除去され、代って上記低融点ガラス10より作業
温度が低い性質を有する第2低融点ガラス12が充填さ
れている。
において、FeAnSi系合金からなる軟磁性薄膜8は
、感光性結晶化ガラス5からなる基板及び該基板と同等
の耐摩耗性を有する低融点ガラスlOの両弁磁性材料で
挾持されている。特に上記軟磁性薄膜8は、磁気ヘッド
の記録媒体摺動方向においても感光性結晶化ガラス5で
挾持され、記録媒体の摺動面で軟磁性薄膜8は囲まれた
形体をなす。磁気ギャップ近傍の感光性結晶化ガラスは
一部が除去され、代って上記低融点ガラス10より作業
温度が低い性質を有する第2低融点ガラス12が充填さ
れている。
次に上記磁気ヘッドの作製工程を挙げて詳細に説明する
。
。
第2図(a)において、基板となる感光性結晶化ガラス
5の表面に、最終的な磁気ヘッドの厚さ、分断する際の
切り代を考慮したピッチ寸法Aで第1溝6が刻設される
。該第1溝6の少なくとも一方の側壁6aは、基板表面
の法線とほぼアジマス角θに等しくなるように加工され
る。上記アジマス角θにほぼ等しい角度に加工した斜面
に対して、スパッタ法、蒸着法等の薄膜形成技術を利用
して第2図(b)の如く磁気ヘッドのトラック幅7に相
当する膜厚となるようにFeAlSi系合金薄膜8を形
成する。該FeAfSi系合金薄膜8は、磁気ヘッドを
動作させる周波数帯域によっては、絶縁層を挾み込んで
積層した構造にしてもよい。このように積層したFeA
uSi系合金薄膜を用いた磁気ヘッドでは、磁気回路を
構成するコアのコア効率は積層していない構造の磁気ヘ
ッドに比べ高周波帯域において改善される。
5の表面に、最終的な磁気ヘッドの厚さ、分断する際の
切り代を考慮したピッチ寸法Aで第1溝6が刻設される
。該第1溝6の少なくとも一方の側壁6aは、基板表面
の法線とほぼアジマス角θに等しくなるように加工され
る。上記アジマス角θにほぼ等しい角度に加工した斜面
に対して、スパッタ法、蒸着法等の薄膜形成技術を利用
して第2図(b)の如く磁気ヘッドのトラック幅7に相
当する膜厚となるようにFeAlSi系合金薄膜8を形
成する。該FeAfSi系合金薄膜8は、磁気ヘッドを
動作させる周波数帯域によっては、絶縁層を挾み込んで
積層した構造にしてもよい。このように積層したFeA
uSi系合金薄膜を用いた磁気ヘッドでは、磁気回路を
構成するコアのコア効率は積層していない構造の磁気ヘ
ッドに比べ高周波帯域において改善される。
上記工程によって被着したFeAJtSi系合金薄膜8
の表面に続いてスパッタ法、蒸着法、CVD法、プラズ
マCVD法、イオンブレーティング法等を用いて第2図
(c)の如く非磁性薄膜9を保護膜として形成する。一
方の側壁6aにFeAfiSi系合金薄膜8及び非磁性
薄膜9を堆積した後、第1溝6に上記基板の感光性結晶
化ガラス5と同等の摩耗性を有する低融点ガラスlOを
第2図(d)のように充填する。尚本実施例では充填材
として低融点ガラスを用いたが、感光性結晶化ガラスと
同等の摩耗性を有するものであれば、例えば結晶化ガラ
ス等の材料であってもよい。
の表面に続いてスパッタ法、蒸着法、CVD法、プラズ
マCVD法、イオンブレーティング法等を用いて第2図
(c)の如く非磁性薄膜9を保護膜として形成する。一
方の側壁6aにFeAfiSi系合金薄膜8及び非磁性
薄膜9を堆積した後、第1溝6に上記基板の感光性結晶
化ガラス5と同等の摩耗性を有する低融点ガラスlOを
第2図(d)のように充填する。尚本実施例では充填材
として低融点ガラスを用いたが、感光性結晶化ガラスと
同等の摩耗性を有するものであれば、例えば結晶化ガラ
ス等の材料であってもよい。
第2図(e)は、感光性結晶化ガラス基板5に所定ピッ
チAで上述の工程を経てFeAβSIA合金薄膜8等を
形成したコアブロックの平面図で、該基板5は表面に直
交し、且つ第1溝6に直交する面内で適当な寸法に切断
され、磁気ヘッドを作製するためのコアブロック13を
作製する。
チAで上述の工程を経てFeAβSIA合金薄膜8等を
形成したコアブロックの平面図で、該基板5は表面に直
交し、且つ第1溝6に直交する面内で適当な寸法に切断
され、磁気ヘッドを作製するためのコアブロック13を
作製する。
上記コアブロック】3について、第2図(f)に示すよ
うに、FeAλSi系合金薄膜8を形成した第1溝6の
側壁6aと側壁11aが角度ψをなすように第2溝11
を、上記第1溝6と平行に形成する。本実施例では、上
記第2溝11の作製は基板5をコアブロックに分割した
後に形成したが、基板5を第2図(e)に示すコアブロ
ック13に分割する前に作製してもよい。上記作製した
第2溝I+に、第2図(g)の如く第1溝6を充填した
低融点ガラス10に比べて作業温度の低い第2の低融点
ガラス12を充填する。
うに、FeAλSi系合金薄膜8を形成した第1溝6の
側壁6aと側壁11aが角度ψをなすように第2溝11
を、上記第1溝6と平行に形成する。本実施例では、上
記第2溝11の作製は基板5をコアブロックに分割した
後に形成したが、基板5を第2図(e)に示すコアブロ
ック13に分割する前に作製してもよい。上記作製した
第2溝I+に、第2図(g)の如く第1溝6を充填した
低融点ガラス10に比べて作業温度の低い第2の低融点
ガラス12を充填する。
上述のように作製されたコアブロック13について、公
知のVTR用フェライトヘッド加工工程と同様に、コイ
ル巻線窓加工、ギャップ対向面の平面研磨、ギャップス
ペーサの形成等を施こし、更にガラス溶着を行って第2
図(h)に示す如く磁気ヘッドコアブロック14を形成
する。上記磁気へラドコアブロック14は、基板に磁気
ヘッド構造が多数個連設した状態にあるため、次に各磁
気ヘッドに分割する。即ち第2図(i)に示す如くアジ
マス角を確保するためにFeAfSi系合金薄膜12に
対して平行な平面で磁気ヘッドの幅I5をもってスライ
スし、整形する。上述のようにして得られた磁気ヘッド
について、従来の磁気ヘッド構造と同様にベース板への
当該磁気ヘッドの接着固定、コイル巻線、テープ研磨を
施こして磁気ヘッドを完成する。
知のVTR用フェライトヘッド加工工程と同様に、コイ
ル巻線窓加工、ギャップ対向面の平面研磨、ギャップス
ペーサの形成等を施こし、更にガラス溶着を行って第2
図(h)に示す如く磁気ヘッドコアブロック14を形成
する。上記磁気へラドコアブロック14は、基板に磁気
ヘッド構造が多数個連設した状態にあるため、次に各磁
気ヘッドに分割する。即ち第2図(i)に示す如くアジ
マス角を確保するためにFeAfSi系合金薄膜12に
対して平行な平面で磁気ヘッドの幅I5をもってスライ
スし、整形する。上述のようにして得られた磁気ヘッド
について、従来の磁気ヘッド構造と同様にベース板への
当該磁気ヘッドの接着固定、コイル巻線、テープ研磨を
施こして磁気ヘッドを完成する。
上述のような工程を経て作製することにより、トラック
幅とほぼ同程度の膜厚からなるFeAfl、Si系合金
薄膜8が、トラック幅方向には感光性結晶化ガラス5と
低融点ガラス10で挾持され、記録媒体摺動方向には感
光性結晶化ガラス5で挾持され、摺動面において合金薄
膜8が完全に感光性結晶化ガラス、低融点ガラス等の他
の材質で囲まれた磁気ヘッド構造となる。
幅とほぼ同程度の膜厚からなるFeAfl、Si系合金
薄膜8が、トラック幅方向には感光性結晶化ガラス5と
低融点ガラス10で挾持され、記録媒体摺動方向には感
光性結晶化ガラス5で挾持され、摺動面において合金薄
膜8が完全に感光性結晶化ガラス、低融点ガラス等の他
の材質で囲まれた磁気ヘッド構造となる。
〈効 果〉
本発明によれば、磁気ヘッドの幅を変えることなく磁気
へソドコアの大きさを調整することができるため、磁気
ヘッドの大きさを小さくしてインダクタンスを小さくし
た場合に従来装置で生じる耐摩耗性の劣化という欠点を
克服でき、また基板のはりあわせが不必要となっている
ため工程の簡略化をはかることができる。さらに磁気回
路としては軟磁性薄膜で閉じているため、基板として非
磁性基板に限定することなく軟磁性フェライト等の磁性
材を用いることも可能であり、基板の選択範囲が広くな
るだけでなく、従来のフェライトヘッド加工工程を十分
に利用できるという多くの効果が期待できる。
へソドコアの大きさを調整することができるため、磁気
ヘッドの大きさを小さくしてインダクタンスを小さくし
た場合に従来装置で生じる耐摩耗性の劣化という欠点を
克服でき、また基板のはりあわせが不必要となっている
ため工程の簡略化をはかることができる。さらに磁気回
路としては軟磁性薄膜で閉じているため、基板として非
磁性基板に限定することなく軟磁性フェライト等の磁性
材を用いることも可能であり、基板の選択範囲が広くな
るだけでなく、従来のフェライトヘッド加工工程を十分
に利用できるという多くの効果が期待できる。
第1図は本発明による一実施例を示す磁気ヘラ下の斜視
図、第2図(a)〜(i)は同実施例の製造工程を説明
するための図、第3図(a) 、 (b)は従来の磁気
ヘッド斜視図である。 5:感光性結晶化ガラス 8:FeAfSi系合金薄膜
IO:低融点ガラス 12:第2低融点ガラス
図、第2図(a)〜(i)は同実施例の製造工程を説明
するための図、第3図(a) 、 (b)は従来の磁気
ヘッド斜視図である。 5:感光性結晶化ガラス 8:FeAfSi系合金薄膜
IO:低融点ガラス 12:第2低融点ガラス
Claims (1)
- 1、磁気回路を構成する軟磁性薄膜と該軟磁性薄膜を支
持する基板からなる磁気ヘッドにおいて、トラック幅と
ほぼ同じ寸法の膜厚からなる軟磁性薄膜が、トラック幅
方向には軟磁性薄膜を支持する基板と、該基板とほぼ同
等の摩耗性を有する非磁性体とで支持され、記録媒体摺
動方向には軟磁性薄膜を支持する上記基板または上記非
磁性体で挾持されてなり、記録媒体対向面で軟磁性薄膜
が囲まれてなることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29367086A JPH0766497B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29367086A JPH0766497B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63146204A true JPS63146204A (ja) | 1988-06-18 |
JPH0766497B2 JPH0766497B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=17797721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29367086A Expired - Lifetime JPH0766497B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0766497B2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP29367086A patent/JPH0766497B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0766497B2 (ja) | 1995-07-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |