JPH06150241A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 磁性基板の磁気ギャップ近傍部に軟磁性合金
薄膜を配する構造のＭＩＧタイプヘッドであり、従来例
に対しトラック加工精度が高くクロスト−ク対策にも有
効な高歩留りの磁気ヘッドおよびその製造方法を提供す
る。 【構成】 フェライトからなる一対のコア半体１−１、
１−２の間に一対の軟磁性合金薄膜３と非磁性のギャッ
プ部材を備えた磁気ヘッドであり、磁気ギャップ面に対
しトラック形状が８０゜〜９０゜の角度で直線的に直交
する片斜辺４とギャップ近傍でのみ上記形状で直交し、
その延長部は所定の傾斜角を有する片斜面５とでトラッ
ク部分を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲやＤＡＴまたは
ＦＤＤなどの高密度磁気録再装置に好適な磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録技術の動向はビデオヘッ
ドなどにおいては、高周波特性の優れたものが要求さ
れ、最短記録波長が１μｍ以下を記録再生できるものが
要望されている。

【０００３】そこで、より高密度記録を達成する媒体
は、高い保持力を有した純鉄系のメタル媒体（ＭＰテ−
プ）や垂直用媒体が開発され、その一部はＤＡＴや８ｍ
ｍＶＴＲなどに実用化されている。

【０００４】一方、磁気ヘッドにおいては従来のＶＴＲ
などに使用されているフェライトヘッドは上記の媒体を
磁化するのに充分な飽和磁束密度を有していないことが
知られており、センダストまたはアモルファスといった
軟磁性合金薄膜を主磁路とする磁気ヘッドが提案され、
従来より高効率な磁気ヘッドとして実用化されている。

【０００５】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドおよびその製造方法について説明する。

【０００６】図５は、従来の磁気ヘッドを記録媒体の摺
動部から見た正面図であり、フェライトコアの一対のコ
ア半体２１−１および２１−２の間に軟磁性合金薄膜２
２を設け、さらにその界面に非磁性材（図では省略）を
着膜したのちモ−ルドガラス２３にて一対のコア半体２
１−１および２１−２を封着するものであった。

【０００７】また図６は上記磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図であり、図６（ａ）に示すごとくフェライトコ
アからなるコア半体２１−１および２１−２の少なくと
も一方のコア半体に巻線溝２４を設け、切欠溝２５−１
および２５−２を加工し、その残った対向面２６−１お
よび２６−２を所定のトラックとしていた。

【０００８】その後、上記一対のコア半体２１−１およ
び２１−２には図６（ｂ）に示す軟磁性合金薄膜２２と
ギャップ部材となる非磁性薄膜（図では省略）をスパッ
タリングで所定厚着膜するとともにモ−ルドガラス２３
で封着し図６（ｃ）に示すコアブロック２７としてい
た。

【０００９】さらに、封着した上記コアブロック２７は
図６（ｃ）に示すＸ線に従い切断し磁気ヘッドとしてい
た。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来例の磁気
ヘッドでは高密度化で記録パタ−ンのトラック幅を狭く
する傾向にある近年の磁気ヘッド対応を考えると、トラ
ック幅はトラック規制する切欠部の加工精度とコアブロ
ックとする一対のコア半体の突合せ精度との総合する加
工精度で決まり複合する誤差も大きいことから狭トラッ
ク化を考えるとその精度維持が非常に困難となる。

【００１１】また、高密度記録における特性上の課題と
してトラック密度が向上すると再生時において隣接する
トラックの影響を受け易くなりクロスト−ク対策として
の磁気ギャップ近傍のトラック形状の最適化はＭＩＧタ
イプヘッドにおける構造上の課題となっている。

【００１２】本発明は、上記課題解決のために有効な磁
気ヘッドとその製造方法を提供することを目的としてい
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の磁気ヘッドおよび製造方法は、対で磁気ヘ
ッドとなるコア半体に形成するトラック規制手段とし
て、２種の異なる斜辺によってギャップ面より溝底部に
至る斜辺を構成し、ギャップ形成時はギャップ面を中心
に同種の斜辺が対角方向に位置すべく配することで、ク
ロスト−ク対策に有効で且つ従来例に対しトラック加工
精度の高い磁気ヘッドを提供できる。

【００１４】また、磁性基板とモ−ルドガラスが直接接
触し磁気ヘッドとなる構造ではチップ強度の強い高歩留
りの磁気ヘッドが実現可能である。

【００１５】

【作用】トラック幅規制を２種の異なる斜辺で構成する
ことにより、ギャップ形成時点でＲｃｈ・Ｌｃｈ管理の
必要性はあるものの、クロスト−ク対策として有効な斜
辺を活用することで狭トラック化におけるオフトラック
特性が向上する。

【００１６】また、トラツク幅精度の点でもギャップ近
傍においては、ギャップ面に対し８０゜〜９０゜の範囲
でほぼ直角な形状とするため加工上の誤差も少ない。

【００１７】更に、軟磁性合金薄膜を被着した後トラッ
ク規制するタイプではギャップ形成時に磁性基板とモ−
ルドガラスが直接接触する構造となるためチツプ付着強
度の強い高歩留りの磁気ヘッドが実現できる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を用い
て説明する。

【００１９】（実施例１）図１は、本発明の磁気ヘッド
の一実施例を媒体摺動部からみた正面図である。

【００２０】同図において、１−１はフェライトコアか
らなる一方のコア半体、１−２は他方のコア半体であ
り、その磁気ギャップ面２にはＣｏ_0.8Ｎｂ_0.2からなる
一対の軟磁性合金薄膜３とギャップ部材となる非磁性薄
膜（図では省略）を着膜し、トラック形状が８０゜〜９
０゜の角度で直線的に直交する斜辺４と、ギャップ近傍
でのみ２０μｍ以下の寸法と８０゜〜９０゜の角度で直
交し延長部は所定の傾斜角を有する斜辺５で構成し、上
記斜辺４および斜辺５を磁気ギャップ面２を介し対角方
向に対接させモールドガラス６で封着したものである。

【００２１】この構成によれば、所定のアジマスを有す
る磁気ヘッドにおいてはギャップボンディングの際、Ｒ
ｃｈ仕様とＬｃｈ仕様で管理の必要性はあるものの（本
実施例はＲｃｈ仕様）高記録密度のシステムにおいて問
題となるクロスト−ク対策に有効な磁気ヘッドが得られ
る。

【００２２】（実施例２）次に本発明の磁気ヘッドの製
造方法を図２を参照しながら説明する。

【００２３】まず図２（ａ）に示すように対で磁気ヘッ
ドとなるどちらかのコア半体に所定の傾斜角をもった巻
線溝７を形成し（本実施例ではコア半体１−１に形成し
た）、コア半体１−１およびコア半体１−２のギャップ
面８−１および８−２を鏡面研磨する。

【００２４】次に図２（ｂ）に示すように一辺がギャッ
プ面に対し８０゜〜９０゜の角度で溝低部方向に直線的
な斜辺４とギャップ近傍でのみ２０μｍ以下（図中に示
す）の寸法と８０゜〜９０゜の角度で直交し、その延長
部においては溝低部方向に所定の傾斜角を有する斜辺５
で形成される所定のトラック幅（図中に示す）規制を上
記コア半体に行う。

【００２５】次に図２（ｃ）に示すように上記トラック
加工面にＣｏ_0.8Ｎｂ_0.2からなる軟磁性合金薄膜３をス
パッタリング等の手法で所定厚被着する。

【００２６】次に図２（ｄ）に示すようにギャップスペ
−サ−となる非磁性材９を上記軟磁性合金薄膜３被着後
スパッタリング等の手法で所定厚被着する。

【００２７】次に図２（ｅ）、（ｆ）に示すように一対
のコア半体において形状の異なる２種の斜辺がギャップ
面２を境に同種が対角方向に位置すべく対接させ、所定
の条件でモ−ルドガラス６を溶融させ封着することでコ
アブロック１０を製造する。

【００２８】また、上記コアブロック１０の製造は所定
のアジマス角を有する磁気ヘッドにおいては圧着接合す
る際に図中に示すごとく形状の異なる斜辺をＲｃｈ仕様
とＬｃｈ仕様で予め分類しコアブロックを製造する。

【００２９】次に同図中に示すＸ線に沿って切断するこ
とで磁気ヘッドを製造した。 （実施例３）以下、本発明の一実施例について図面を用
いて説明する。

【００３０】図３は、本発明の磁気ヘッドの媒体摺動面
からの正面図である。同図において、１１−１はフェラ
イトコアからなる一方のコア半体、１１−２は他方のコ
ア半体であり、その磁気ギャップ面１２にはＣｏ_0.8Ｎ
ｂ_0.2からなる一対の軟磁性合金薄膜１３とギャップ部
材となる非磁性薄膜（図では省略）を着膜し、トラック
形状が８０゜〜９０゜の角度で直線的に直交する斜辺１
４と、ギャップ近傍でのみ２０μｍ以下の寸法と８０゜
〜９０゜の角度で直交し延長部は所定の傾斜角を有する
斜辺１５で構成し、上記斜辺１４および斜辺１５を磁気
ギャップ面１２を介し対角方向に対接させモ−ルドガラ
ス１６で封着したものである。

【００３１】また、上記軟磁性合金薄膜１３は所定トラ
ック幅で接合界面に残存する構造とする。

【００３２】この構成によれば、所定のアジマスを有す
る磁気ヘッドにおいてはギャップボンディングの際、Ｒ
ｃｈ仕様およびＬｃｈ仕様で管理の必要性はあるものの
（本実施例はＲｃｈ仕様）高記録密度のシステムにおい
て問題となるクロスト−ク対策に有効で且つ磁性基板と
モ−ルドガラスが溶着する構造となるためチップ付着強
度の強い磁気ヘッドが得られる。

【００３３】（実施例４）次に本発明の磁気ヘッドの製
造方法を図４を参照しながら説明する。

【００３４】まず図４（ａ）に示すように対で磁気ヘッ
ドとなるどちらかのコア半体に所定の傾斜角度をもった
巻線溝１７を形成し（本実施例ではコア半体１１−１に
形成した）、コア半体１１−１およびコア半体１１−２
のギャップ面１８−１および１８−２を鏡面研磨する。

【００３５】次に図４（ｂ）に示すように上記ギャップ
面Ｃｏ_0.8Ｎｂ_0.2からなる軟磁性合金薄膜１３をスパッ
タリング等の手法で所定厚被着する。

【００３６】次に図４（ｃ）に示すように一辺がギャッ
プ面に対し８０゜〜９０゜の角度で溝底部方向に直線的
な斜辺１４とギャップ近傍でのみ２０μｍ以下（図中に
示す）の寸法と８０゜〜９０゜の角度で直交し、その延
長部においては溝底部方向に所定の傾斜角を有する斜辺
１５で形成される所定のトラック幅（図中に示す）規制
を上記両コア半体に行う。

【００３７】次に図４（ｄ）に示すように上記トラック
加工面にギャップスペサ−となる非磁性膜１９をスパッ
タリング等の手法で所定厚被着する。

【００３８】次に図４（ｅ）、（ｆ）に示すように一対
のコア半体において形状の異なる２種の斜辺が磁気ギャ
ップ１２を境に同種が対角方向に位置すべく対接させ、
所定の条件でモ−ルドガラス１６を溶融させ封着するこ
とでコアブロック２０を製造する。

【００３９】また、上記コアブロック２０の製造は所定
のアジマス角を有する磁気ヘッドにおいては圧着接合す
る際に図中に示すごとく形状の異なる斜辺をＲｃｈ仕様
とＬｃｈ仕様で予め分類しコアブロックを製造する。

【００４０】次に同図中に示すＸ線に沿って切断するこ
とで磁気ヘッドを製造した。尚、実施例においては軟磁
性合金薄膜としてＣｏ_0.8Ｎｂ_0.2を用いて説明したが、
これに代えて以下の軟磁性合金薄膜を用いても同様の効
果が得られる。

【００４１】（１）軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂで表さ
れ厚み方向に窒素で組成変調されたものであること。

【００４２】ここでＭは、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔ
ｉ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる少なくとも一種以上の元素か
らなり、ａ、ｂは原子比を表し次の式を満足するものと
する。

【００４３】０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０ （２）軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂで表され厚み方向に
窒素で組成変調されたものであること。

【００４４】ここでＭは、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔ
ｉ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる少なくとも一種以上の元素か
らなり、ａ、ｂは原子比を表し次の式を満足するものと
する。

【００４５】０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０

【００４６】

【発明の効果】磁気ギャップ面に至るトラック形状がギ
ャップ近傍においては、ほぼ直角であることから高精度
のトラック規制が可能である。

【００４７】また、片斜面はギャップ近傍でのみ直角で
それ以外は傾斜面とすることから磁気ギャップ部におけ
る磁束の絞り込み効果が大きく高効率の磁気ヘッドが得
られるとともに、クロスト−ク対策にも有効である。

【００４８】更に、トラック部のみに軟磁性合金薄膜を
被着する構造ではギャップボンディングにおいてモ−ル
ドガラスと磁性基板が直接接触し接合されるためチップ
付着強度の強い高歩留りの磁気ヘッドが提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１における磁気ヘッドの正面図

【図２】本発明の実施例２における磁気ヘッドの製造方
法を示す工程図

【図３】本発明の実施例−３における磁気ヘッドの正面
図

【図４】本発明の実施例−４における磁気ヘッドの製造
方法を示す工程図

【図５】従来の磁気ヘッドの正面図

【図６】従来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図

【符号の説明】 １−１ コア半体 １−２ コア半体 ２ 磁気ギャップ面 ３ 軟磁性合金薄膜 ４ 斜辺Ａ ５ 斜辺Ｂ ６ モ−ルドガラス ７ 巻線溝 ８−１ ギャップ面 ８−２ ギャップ面 ９ 非磁性材 １０ コアブロック １１−１ コア半体 １１−２ コア半体 １２ ギャップ面 １３ 軟磁性合金薄膜 １４ 斜辺Ａ １５ 斜辺Ｂ １６ モ−ルドガラス １７ 巻線溝 １８−１ ギャップ面 １８−２ ギャップ面 １９ 非磁性材 ２０ コアブロック ２１−１ コア半体 ２１−２ コア半体 ２２ 軟磁性合金薄膜 ２３ モ−ルドガラス ２４ 巻線溝 ２５−１ 切欠溝 ２５−２ 切欠溝 ２６−１ 対向面 ２６−２ 対向面 ２７ コアブロック

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大谷 和夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 田代 聡子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁性材からなる一対のコア半体の間に一対
   の軟磁性合金薄膜と、その一対の軟磁性合金薄膜の間に
   一対の非磁性薄膜とトラック幅を規制するガラスからな
   る摺動面を備えた磁気ヘッドであって、所定トラック形
   状を２種の異なる斜辺で形成し、その一辺が磁気ギャッ
   プ接合面に対し溝底部より８０゜〜９０゜の角度で直線
   的に直交する片斜辺と、もう一方の斜辺がギャップ近傍
   でのみ８０゜〜９０゜の角度で直線的に直交し、且つそ
   の寸法が溝底部方向に２０μｍ以下で規制され、それ以
   降の斜辺は延長線上に所定の傾斜角を有し、ギャップ面
   を介し対向させヘッドとする際に、同種の斜辺が対角方
   向に位置するよう配すとともに、主磁路となる軟磁性合
   金薄膜を一対のコア半体における接合界面の全面に被着
   されたことを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】磁性材からなる一対のコア半体の少なくと
   も一方のコア半体に巻線窓を形成する工程と、上記一対
   のコア半体を鏡面研磨する工程と、上記一対のコア半体
   に片斜辺がギャップ面に対し溝底部より８０゜〜９０゜
   の角度で直線的に直交しもう一方の斜辺がギャップ近傍
   でのみ８０゜〜９０゜の角度で直線的に直交し、且つそ
   の寸法が２０μｍ以下で溝底部方向に規制され、それ以
   降の延長線上の斜辺は所定の傾斜角を有するトラック加
   工を行う工程と、上記コア半体の接合界面に軟磁性合金
   薄膜をスパッタリングする工程と、上記一対のコア半体
   に非磁性薄膜をスパッタリングする工程と、上記一対の
   コア半体を接合界面で対接させガラスにて封着しコアブ
   ロックとする工程と、上記コアブロックを所定形状に切
   断しヘッドチップとする工程を有する磁気ヘッドの製造
   方法。
3. 【請求項３】磁性材からなる一対のコア半体の間に一対
   の軟磁性合金薄膜と、一対の軟磁性合金薄膜の間に一対
   の非磁性薄膜とトラック幅を規制するガラスからなる摺
   動面を備えた磁気ヘッドであり、トラック形状を２種の
   異なる斜辺で形成し、その一辺が磁気ギャップ接合面に
   対し８０゜〜９０゜の角度で溝底部より直線的に直交す
   る片斜辺と、もう一方の斜辺がギャップ近傍でのみ８０
   ゜〜９０゜の角度で直線的に直交し、且つその寸法が溝
   底部方向に２０μｍ以下で規制され、それ以降の延長線
   上の斜辺は所定の傾斜角を有しギャップ面を介し対向さ
   せヘッドとする際に、同種の斜辺が対角方向に位置する
   よう配すと共に、主磁路となる軟磁性合金薄膜は摺動面
   より観察される範囲においてギャップ界面にのみトラッ
   ク幅方向に所定厚で存在する構造を特徴とする磁気ヘッ
   ド。
4. 【請求項４】磁性材からなる一対のコア半体の少なくと
   も一方のコア半体に巻線溝を形成する工程と、上記一対
   のコア半体を鏡面研磨する工程と、上記一対のコア半体
   の接合界面に軟磁性合金薄膜をスパッタリング等の手法
   で所定厚被着する工程と、上記一対のコア半体に片斜辺
   がギャップ面に対し８０゜〜９０゜の角度で溝底部より
   直線的に直交し、もう一方の斜辺がギャップ近傍でのみ
   ８０゜〜９０゜の角度で直線的に直交し、且つその寸法
   が溝底部方向に２０μｍ以下で規制され、それ以降の延
   長線上の斜辺は所定の傾斜角を有するトラック加工を行
   う工程と、上記一対のコア半体に非磁性薄膜をスパッタ
   リングする工程と、上記一対のコア半体を接合界面で対
   接させガラスにて封着しコアブロックとする工程と、上
   記コアブロックを所定形状に切断しヘツドチップとする
   工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】軟磁性合金薄膜としてＦｅを主成分とする
   合金薄膜およびＣｏを主成分とする合金薄膜またＮｉを
   主成分とする合金薄膜の何れかを用いることを特徴とす
   る請求項１または３記載の磁気ヘッド。
6. 【請求項６】軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂで表され、厚
   み方向に窒素で組成変調された請求項１または３記載の
   磁気ヘッド。ここでＭは、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔ
   ｉ、Ｍｏ、Ｗの一種以上の元素からなり、ａ、ｂは原子
   比を表し次の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０
7. 【請求項７】軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂで表され、厚
   み方向に窒素で組成変調された請求項１または３記載の
   磁気ヘッド。ここでＭは、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔ
   ｉ、Ｍｏ、Ｗの一種以上の元素からなり、ａ、ｂは原子
   比を表し次の式を満足するものとする。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０
8. 【請求項８】軟磁性合金薄膜がＦｅを主成分とする軟磁
   性合金およびＣｏを主成分とする軟磁性合金およびＮｉ
   を主成分とする軟磁性合金の何れかを用いることを特徴
   とする請求項２または４記載の磁気ヘッドの製造方法。
9. 【請求項９】軟磁性合金薄膜がＣｏａＭｂで表され、厚
   み方向に窒素で組成変調された請求項２または４記載の
   磁気へッドの製造方法。ここでＭは、Ｎｂ，Ｔａ、Ｚ
   ｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗの一種以上の元素からなり、
   ａ、ｂは原子比を表し次の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０
10. 【請求項１０】軟磁性合金薄膜がＦｅａＭｂで表され、
    厚み方向に窒素で組成変調された請求項２または４記載
    の磁気ヘッドの製造方法。ここでＭは、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚ
    ｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗの一種以上の元素からなり、
    ａ、ｂは原子比を表し次の式を満足するものとする。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０