JPH01138604A - 高密度記録用磁気ヘッド - Google Patents
高密度記録用磁気ヘッドInfo
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- JPH01138604A JPH01138604A JP62297251A JP29725187A JPH01138604A JP H01138604 A JPH01138604 A JP H01138604A JP 62297251 A JP62297251 A JP 62297251A JP 29725187 A JP29725187 A JP 29725187A JP H01138604 A JPH01138604 A JP H01138604A
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- Pending
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報記号を記録再生する磁気ヘッドに係わり、
特に高保磁力媒体を用い高記録密度を達成するため、磁
気回路の一部に高飽和磁束密度の金属磁性膜を被着した
複合磁気ヘッドに関するものである。
特に高保磁力媒体を用い高記録密度を達成するため、磁
気回路の一部に高飽和磁束密度の金属磁性膜を被着した
複合磁気ヘッドに関するものである。
高記録密度達成のためには、媒体の保磁力を高める必要
があり、従来のフェライトヘッドでは飽和磁束密度が小
さく弱い記録磁界しか発生出来ない。従ってフェライト
ニアのギヤツブ部ＫＣｏ系非晶質合金あるいはＦｅ−Ａ
ｔ−８ｔ系合金のような高飽和磁束密度薄膜材を被着し
た構成の磁気ヘッドが必須となシ、すでに多くの例が開
示されている。
があり、従来のフェライトヘッドでは飽和磁束密度が小
さく弱い記録磁界しか発生出来ない。従ってフェライト
ニアのギヤツブ部ＫＣｏ系非晶質合金あるいはＦｅ−Ａ
ｔ−８ｔ系合金のような高飽和磁束密度薄膜材を被着し
た構成の磁気ヘッドが必須となシ、すでに多くの例が開
示されている。
上記構成において生じる問題点は、フェライトおよび薄
膜材が共に軟磁性体であるため、両部材の接合部が擬似
的なギャップとなシ、この擬似ギャップにより再生され
、再生コイルに誘起される電圧が、本来の磁気ギャップ
による再生電圧と干渉し、再生出力の周波数特性に波打
ち現象を生じることである。この波打ち現象を防ぐため
には、接合部の形状を変更し、いわゆるアジマス損失を
利用する方法がすでに知られている（特公昭４６−１６
３５３号参照）。またフェライト上に高飽和磁束密度の
軟磁性膜を、本来の磁気ギャップをまたぐが如く配置せ
しめた構造の幾つかの例が特開昭５４−９６０１３号に
開示されている。しかしこれらの「７エライトと高飽和
磁束密度薄膜との接合面を本来の磁気ギャップと非平行
にする」ような形状では、高精度の加工を必要とするた
め量産性にやや問題があった。一方、製造が比較的容易
なものとして特開昭５８−１７５１２２号あるいは特開
昭６１−２４２３１１号に開示された形状のものがある
。この従来の形状を第２図に示す。この形状においては
高飽和磁束密度の薄膜材をスパッタリング法等により被
着させるに際し、フェライト基板に加工によυ設ける溝
形状が単純なＶ字型形状で良いことから量産性に優れる
。しかしながら第２図の従来形状では、媒体摺動面両端
部に接合ガラスが充てんされているため、耐摩耗性に劣
るという欠点があった。
膜材が共に軟磁性体であるため、両部材の接合部が擬似
的なギャップとなシ、この擬似ギャップにより再生され
、再生コイルに誘起される電圧が、本来の磁気ギャップ
による再生電圧と干渉し、再生出力の周波数特性に波打
ち現象を生じることである。この波打ち現象を防ぐため
には、接合部の形状を変更し、いわゆるアジマス損失を
利用する方法がすでに知られている（特公昭４６−１６
３５３号参照）。またフェライト上に高飽和磁束密度の
軟磁性膜を、本来の磁気ギャップをまたぐが如く配置せ
しめた構造の幾つかの例が特開昭５４−９６０１３号に
開示されている。しかしこれらの「７エライトと高飽和
磁束密度薄膜との接合面を本来の磁気ギャップと非平行
にする」ような形状では、高精度の加工を必要とするた
め量産性にやや問題があった。一方、製造が比較的容易
なものとして特開昭５８−１７５１２２号あるいは特開
昭６１−２４２３１１号に開示された形状のものがある
。この従来の形状を第２図に示す。この形状においては
高飽和磁束密度の薄膜材をスパッタリング法等により被
着させるに際し、フェライト基板に加工によυ設ける溝
形状が単純なＶ字型形状で良いことから量産性に優れる
。しかしながら第２図の従来形状では、媒体摺動面両端
部に接合ガラスが充てんされているため、耐摩耗性に劣
るという欠点があった。
上述のように、本発明は、量産性に優れるものの耐摩耗
性が劣るという第２図に示した形状の欠点を改善するこ
とを目的とする。
性が劣るという第２図に示した形状の欠点を改善するこ
とを目的とする。
本発明は上記問題点を解決するため、媒体摺動面両端部
にも金属磁性膜を配し、耐摩耗性を改善するものである
。次に実施例により祥述する。
にも金属磁性膜を配し、耐摩耗性を改善するものである
。次に実施例により祥述する。
第１図は本発明による磁気ヘッドの概略構成例を示す図
であシ、１はフェライト、２は高飽和磁束密度材からな
る薄膜であシ、例えばＦｅ−Ａｔ−８ｔまたはＣｏ系非
晶質材等が用いられる。６は切シ欠き部に充てんされた
接合ガラス、４は磁気ギャップであり、５は溝部の角度
θである。第２図の従来例と比較すると、高飽和磁束密
度材は、連続的に設けられた鋸歯状溝の斜面部にスパッ
タリング法により被着されるため、隣接する溝部の薄膜
材が媒体摺動面両端部にも配され、接合ガラスを挾む形
状となシ、該切シ欠き郡全体を接合ガラスで埋めた従来
形状のヘッドに較べ、接合カラス部の耐摩耗性に優れる
。また、フェライト基板に、加工により設ける溝形状が
、単純な鋸歯状溝でよいことから、量産性にも優れる。
であシ、１はフェライト、２は高飽和磁束密度材からな
る薄膜であシ、例えばＦｅ−Ａｔ−８ｔまたはＣｏ系非
晶質材等が用いられる。６は切シ欠き部に充てんされた
接合ガラス、４は磁気ギャップであり、５は溝部の角度
θである。第２図の従来例と比較すると、高飽和磁束密
度材は、連続的に設けられた鋸歯状溝の斜面部にスパッ
タリング法により被着されるため、隣接する溝部の薄膜
材が媒体摺動面両端部にも配され、接合ガラスを挾む形
状となシ、該切シ欠き郡全体を接合ガラスで埋めた従来
形状のヘッドに較べ、接合カラス部の耐摩耗性に優れる
。また、フェライト基板に、加工により設ける溝形状が
、単純な鋸歯状溝でよいことから、量産性にも優れる。
このような構造の磁気ヘッドは、第６図に示すような工
程によって効率よく製造することができる。まず同図０
２に示すように、フェライト材からなる直方体のブロッ
ク１０を用意し、それに一定ピツチで多数の鋸歯状溝１
１を形成する。そして、同図（ロ）に示すように、スパ
ッタリング法によシ、高飽和磁束密度材１２を被着させ
る。この時、高飽和磁束密度材のスパッタ粒子は垂直方
向より飛来するため、鋸歯状溝１１の斜面部のみに成膜
され、垂直部にはほとんど成膜されない。次に、このブ
ロック１０にガラスを溶融光てんし、さらに研摩により
、同図（ハ）に示すような王字型コアに加工をする。こ
のとき、露出した磁性膜の幅Ｗが丁度トラック＠心に一
致するように調整する。一方、この工学型コアと対にな
るコアに長平方向に延びる溝を形成し、断面Ｃ字型コア
とし、その後、このよりなＩコアとＣコアを非磁性ギャ
ップ１４を介して相対向する如く接合一体化し、コアブ
ロック１５を形成する（同図に）参照）０非磁性ギヤツ
プ１４の形成材料としては二酸化珪素又はガラス等のス
パッタ膜が好適である。そして、このコアブロック１５
を、同図に）に示すＡ−Ａ線の位置でスライシング加工
した後、この両側面及び媒体摺動面を研摩加工すること
により同図（ホ）に示すコアチップを得ることができる
。
程によって効率よく製造することができる。まず同図０
２に示すように、フェライト材からなる直方体のブロッ
ク１０を用意し、それに一定ピツチで多数の鋸歯状溝１
１を形成する。そして、同図（ロ）に示すように、スパ
ッタリング法によシ、高飽和磁束密度材１２を被着させ
る。この時、高飽和磁束密度材のスパッタ粒子は垂直方
向より飛来するため、鋸歯状溝１１の斜面部のみに成膜
され、垂直部にはほとんど成膜されない。次に、このブ
ロック１０にガラスを溶融光てんし、さらに研摩により
、同図（ハ）に示すような王字型コアに加工をする。こ
のとき、露出した磁性膜の幅Ｗが丁度トラック＠心に一
致するように調整する。一方、この工学型コアと対にな
るコアに長平方向に延びる溝を形成し、断面Ｃ字型コア
とし、その後、このよりなＩコアとＣコアを非磁性ギャ
ップ１４を介して相対向する如く接合一体化し、コアブ
ロック１５を形成する（同図に）参照）０非磁性ギヤツ
プ１４の形成材料としては二酸化珪素又はガラス等のス
パッタ膜が好適である。そして、このコアブロック１５
を、同図に）に示すＡ−Ａ線の位置でスライシング加工
した後、この両側面及び媒体摺動面を研摩加工すること
により同図（ホ）に示すコアチップを得ることができる
。
また、溝部の角度５を変えたヘッドも作製したが、θく
３０では、該溝部の斜面が急峻となるため、薄膜材の付
着性が悪化し作製が困難であった。−方、θ〉７０では
トラック幅に対し薄膜材の膜厚が微小となるため、厳密
なトラック幅の加工の制御が困難であった。本発明によ
る結果では、該溝部の最適な角度は、θ＝５０〜７０で
ありた。
３０では、該溝部の斜面が急峻となるため、薄膜材の付
着性が悪化し作製が困難であった。−方、θ〉７０では
トラック幅に対し薄膜材の膜厚が微小となるため、厳密
なトラック幅の加工の制御が困難であった。本発明によ
る結果では、該溝部の最適な角度は、θ＝５０〜７０で
ありた。
次に、本発明により作製したヘッドと、第２図に示した
従来例のヘッドにおいて、磁気テープを２００時間、摺
動させた前後の出力電圧の差と、接合カラス部の段差を
第１表に示す。磁気テープは市販されているＦｅ粉塗布
テープを用い、磁気ヘッドを相対速Ｍ、 ５−５ ｍｌ
ｓｅｃで接触させ行なりた。この場合の出力電圧差は
、摺動テスト前の値を１００とし、テスト後の値との割
合で示した。段差については磁気ギャップ近傍の金属磁
性膜と接合ガラスとの段差を微小表面膜差計により測定
した。その結果を第１表に示す。
従来例のヘッドにおいて、磁気テープを２００時間、摺
動させた前後の出力電圧の差と、接合カラス部の段差を
第１表に示す。磁気テープは市販されているＦｅ粉塗布
テープを用い、磁気ヘッドを相対速Ｍ、 ５−５ ｍｌ
ｓｅｃで接触させ行なりた。この場合の出力電圧差は
、摺動テスト前の値を１００とし、テスト後の値との割
合で示した。段差については磁気ギャップ近傍の金属磁
性膜と接合ガラスとの段差を微小表面膜差計により測定
した。その結果を第１表に示す。
第 １ 表
第１表よシ判るように、本発明によるヘッドは従来例と
較べて出力電圧の劣下も少なく、また接合カラス部の摩
耗も少ないことがわかる。この結果を解析した本発明者
等の見い出した一つの理由は、接合ガラス部の摩耗によ
υ、磁気ギャップ部に対する摺動割合が高くなυ、段差
の大きい程、出力電圧が劣下すると考えられる。すなわ
ち、本発明のヘッドにおいては接合ガラスが摺動方向の
前後を金属磁性膜に挾まれ、保護される形状となってい
るため、従来例のヘッドに較べ耐摩耗性に優れ、また特
性の劣下も少なかった。
較べて出力電圧の劣下も少なく、また接合カラス部の摩
耗も少ないことがわかる。この結果を解析した本発明者
等の見い出した一つの理由は、接合ガラス部の摩耗によ
υ、磁気ギャップ部に対する摺動割合が高くなυ、段差
の大きい程、出力電圧が劣下すると考えられる。すなわ
ち、本発明のヘッドにおいては接合ガラスが摺動方向の
前後を金属磁性膜に挾まれ、保護される形状となってい
るため、従来例のヘッドに較べ耐摩耗性に優れ、また特
性の劣下も少なかった。
以上、実施例に述べた様に、本発明は媒体摺動面の両端
部にも金属磁性膜材を配置することによシ、耐摩耗性に
優れ、また特性の劣下も少ない高密度記録用磁気ヘッド
として工業上の利用価値穴である。
部にも金属磁性膜材を配置することによシ、耐摩耗性に
優れ、また特性の劣下も少ない高密度記録用磁気ヘッド
として工業上の利用価値穴である。
第１図は、本発明の実施例であシ、媒体摺動面を示す構
造図、第２図は、従来の磁気ヘッドの構成図、第６図は
、本発明の磁気ヘッドの製造工程の一例を示す説明図で
ある。 １・・・・・フェライト材 ２・１２・・・・・高飽和磁束密度材 ３・１３・・・・・接合ガラス ４・・・・・磁気ギャップ ５・・・・・飾部の角度θ 第 １ 図
造図、第２図は、従来の磁気ヘッドの構成図、第６図は
、本発明の磁気ヘッドの製造工程の一例を示す説明図で
ある。 １・・・・・フェライト材 ２・１２・・・・・高飽和磁束密度材 ３・１３・・・・・接合ガラス ４・・・・・磁気ギャップ ５・・・・・飾部の角度θ 第 １ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フェライト基板に鋸歯状溝を設け、該溝部に高飽和
磁束密度の薄膜を被着し、該薄膜を当接させ接合した磁
気ヘッドにおいて、磁気ギャップを構成する箇所以外に
も金属磁性膜を有することを特徴とする高密度記録用磁
気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
鋸歯状溝の角度が３０〜７０°の範囲にあることを特徴
とする高密度記録用磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62297251A JPH01138604A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62297251A JPH01138604A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01138604A true JPH01138604A (ja) | 1989-05-31 |
Family
ID=17844110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62297251A Pending JPH01138604A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 高密度記録用磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01138604A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6713612B2 (en) | 2002-05-01 | 2004-03-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process |
| US8547665B2 (en) * | 2008-01-03 | 2013-10-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic head having a material formed in one or more recesses extending into the media support surface of at least one of the substrate and the closure |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP62297251A patent/JPH01138604A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6713612B2 (en) | 2002-05-01 | 2004-03-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process |
| US8547665B2 (en) * | 2008-01-03 | 2013-10-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic head having a material formed in one or more recesses extending into the media support surface of at least one of the substrate and the closure |
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Legal Events
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