JPS63282908A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに関し、特に高透磁率磁性材上に、
高飽和磁束密度磁性膜を被着してなる磁気ヘッドに関す
るものである。

〔従来の技術〕

近年抗磁力の高い磁気記録媒体、例えばメタル塗布、金
属蒸着テープ等に対して記録再生の可能なＭ　Ｉ　Ｇ　
（Ｍ　ｅ　ｔ　ａ　１　１　ｎ　　Ｇ　ａ　ｐ　）ヘッ
ドと呼ばれるが利用される様になって来た。

ＭＩＧヘッドは、コアの大部分にフェライト等の高透磁
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束密度
材、即ち、パーマロイ、センダント。

アモルファス等の合金磁性材で形成した構造となでいる
。

ＭＩＧヘッドの最も単純な電磁変換部近傍の形態を第５
図（Ａ）、（Ｂ）に示す。図中１，１′　　は単結晶フ
ェライト等の高透磁率材チップ、２，２′　　はセンダ
ンスト等の高飽和磁束密度合金よりなる磁性合金膜、３
は非磁性材よりなる磁気ギャップ部、１４は巻線窓部で
ある。尚第５図（Ａ）は巻線溝内には磁性合金膜を被着
しないタイプ、（Ｂ）は巻線溝内には磁性合金膜を被着
しないタイプのそれを示している。

ＭＩＧヘッドにはその基本構造を第５図（Ａ）、（Ｂ）
に示している様に磁気記録媒体摺動面に於ける磁性合金
膜２と高透磁率材ｌとの境界が磁気ギャップ３に平行な
タイプ（以下Ｐタイプと称する）と磁気ギャップに非平
行でアジマス角を有するタイプ（以下Ａタイプと称する
）とが考えられている。例えばＰタイプのＭＩＧヘッド
としては特開昭５１−１４０７０８号公報に開示されて
いるもの、ＡタイプのＭＩＧヘッドとしては例えば特開
昭６０−３２１０７号公報に開示されているものがある
。

しかしながらＰタイプのＭＩＧヘッドは、磁気ギャップ
と平行である処の高透磁率材と合金磁性材との境界部分
の磁気的性質の不連続性のために、コンタ−効果と呼ば
れる現象が発生し、第５図に示すように、周波数対出力
性曲線に、少ない場合で３〜４ｄＢ程度のリップルが現
われるため、記録再生用ヘッドとして未だ実用化されて
いない。

その様な現象を避ける為に考案されたものがＡタイプの
ＭＩＧヘッドであり、上記特開昭６０−３２１０７号公
報に開示のものがＶＴＲ用として実用化されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、一般的にＡタイプのＭＩＧヘッドはＰタイプ
のＭＩＧヘッドに比べて、複雑な構造となるので、製造
工程数が多（なると同時に製品歩留りも低くなっていた
。そのため製造コスト面に於いてかなり割高であった。

また、ＡタイプのＭＩＧヘッドで例えば６０μｍもの広
いトラック幅を有するヘッドを製造しようとすると、そ
の構造と製造法によっては、４０μｍ前後の厚さの磁性
合金膜をスパッタリング等の物理蒸着法で成膜する工程
が必要となる。このような厚さの膜をスパッタリングで
成膜するには、成膜時間のみで数時間を要し、また仮に
成膜したとしても、内部応力の蓄積の為、膜そのものや
、基板であるフェライトにクラックが入ったり、はなは
だしい場合、割れてしまうこともある。そのため機械加
工や、５００°Ｃ〜６００℃前後のガラス溶着工程など
の過酷な工程を経て完成に至るヘッドは少なく、歩留り
の低下を増長する結果となる。

上述した様にＡタイプのＭＩＧヘッド、ＰタイプのＭＩ
Ｇヘッド共に夫々解決すべき問題を有している。またこ
れらに共通の問題として磁性合金膜の膜厚が不充分な場
合にギャップを通過する磁束密度が太き（とれなくなり
、抗磁力の極めて大きな磁気記録媒体に対する記録が不
充分となってしまうことがあった。

本発明は上述の如き問題に鑑みてなされ、トラック幅を
広くとっても膜厚を厚くする必要がなく、かつコンタ−
効果の発生を抑圧でき、充分な電磁変換特性を有する磁
気ヘッドを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

かかる目的下に於いて本発明の磁気ヘッドに於いては高
透磁率材上に高飽和磁束密度膜を被着してなるコアハー
フ同志を磁気ギャップ材を介して突合せてなる磁気ヘッ
ドに於いて前記高飽和磁束密度膜が媒体摺動面に於いて
前記磁気ギャップ材の両端に接する一対の非磁性部の一
方と前記高透磁率材との境界に沿って延在すると共に、
前記高飽和磁束密度膜の少なくとも一方の膜厚が前記媒
体摺動面からの深さに応じて変化する構成とした。

〔作　用〕

上述の如き構成の磁気ヘッドにあっては、トラック幅を
広くしても同じ膜厚で磁気ギャップ材の形成面に対して
高透磁率材と高飽和磁束密度材との境界を非平行とるす
ことができるので、トラック幅の広い磁気ヘッドとして
も良好な電磁変換特性を得ることができる。また非磁性
部と高透磁率材との境界に沿って延在する高飽和磁束密
度膜の存在により、コンタ−効果を更に軽減すると共に
磁気ギャップを通過する磁束密度を大きくし得るもので
ある。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明する。

第１図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの磁気ギャップ
近傍の構成を示す図であり、第４図と同様の構成要素に
ついては同一番号を付す。尚、第１図に於いてはコアハ
ーフ同志を固定する接合用ガラス等の非磁性材は省略し
ている。図中８１は磁性合金膜２と巻線窓４内のフェラ
イト１との境界面、Ｓ２は記録媒体摺動面、Ｓ３．Ｓ３
′　はトラック幅を決定する溝５，５′　　内のフェラ
イト１．１’　　と磁性合金膜２，２′　　との境界面
を夫々示す。

本実施例の構成の特徴について説明する。

まず境界面Ｓ、は磁気ギャップ３の形成面と非平行な平
面として摺動面Ｓ２と交差して直線り、を形成している
。そのため境界面Ｓ、の存在によるコンタ−効果の発生
を軽減できる。また境界面Ｓ３゜８３′　　に存在する
磁性合金膜は摺動面Ｓ２上にも露呈し、境界線Ｌ２，８
２′　が形成されている。この”　２　＋　Ｌ２′　　
の存在により、巻線窓のないコアハーフの磁性合金膜２
′　とフェライト１′　との境界面が摺動面Ｓ２にギャ
ップと平行な状態で露呈することによる境界線Ｌ３の存
在によるわずかなコンタ−効果の発生をも抑えることが
できる。

従って従来摺動面Ｓ２に於いてフェライト１゜１′　と
磁性合金膜２，２′　　との境界線Ｌ１．Ｌ３がギャッ
プと平行であれば、コンタ−効果による電磁変換特性の
劣化が招かれていたが、本例ではこれを充分抑圧できる
。この様に境界線Ｌ１．Ｌ３がギャップと平行にできる
ということは、生産性を向上せしめコストダウンを可能
とすると共にトラック幅を任意に設定でき、特に大きな
トラック幅のヘッドを容易に製造可能となる。

以下第２図（Ａ）〜（Ｈ）を用いて第１図のヘッドの製
造工程について説明を加える。まずフェライトブロック
３０に対して、第２図（Ａ）に示す如く溝３１を所定の
ピッチで配置された回転砥石等を用い切削研磨加工する
。次に溝３１の形成されたフェライトブロック３０に対
し、第２図（Ｂ）の如く巻線溝３７を形成した後スパッ
タリング等で磁性金属膜３２を被着形成する（第２図（
Ｃ）に示す）。磁性金属膜３２が側面及び底面に被着さ
れた方形溝３１には、高融点ガラス３３が溶融充填され
る（第２図（Ｄ）に示す）。

次いで溝３１に対して一定の距離シフトした位置に同様
に溝３４を形成しく第２図（Ｅ）に示す）、この溝内に
も高融点ガラス等の非磁性材を溶融充填し、第２図（Ｆ
）に示す如（磁気ギャップ材３８を・被着する。そして
巻線溝の形成されていない同様のブロック３６′　を第
２図（Ｆ）に示すブロック３６と突合わせ低融点ガラス
等の接着剤で接合する。しかる後第２図（Ｇ）のＡ、Ａ
’　で記す鎖線に沿って切断し、ヘッドコアチップを得
る。

次に摺動面を研磨するのであるが、第２図（Ｇ）の線Ｘ
（一点鎖線）で示した断面の構成を第２図（Ｈ）に示す
。第２図（Ｈ）において、フェライトコア１の巻線窓用
の溝の面Ｓ、と、つき合わせ面に対向する面Ｓ。との交
線を点Ｐで示す。本実施例のヘッドでは、初期状態に於
ける摺動面Ｓ２の位置が、鎖線で示す如（点Ｐと同じか
、より下方に位置する様に加工する。第２図（Ｈ）の点
Ｐとギャップ近傍の拡大図は第１図に示している。

第３図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は夫々第１図のヘッドに
於ける磁性合金膜２の被着部分が異なる他の実施例を示
す図であり、第１図と同様の構成要素には同ｉ番号を付
している。

一般にフェライト１と磁性合金膜２との接触面積が広（
なれば、より高い磁束密度の磁界を発生可能であるが、
フェライト１の内部に、より大きな応力を与えることに
なる。従って上記接触面積は前述のコンタ−効果の発生
、フェライト内部の応力の発生、必要とする磁束密度等
に応じて適宜決定してやる必要がある。

第３図（Ａ）は巻線窓４より摺動面から遠い部分、所謂
バックギャップ部分の磁性膜２を取り除いたもので、簡
単な加工工程を加えることにより実現可能である。第３
図（Ｂ）は巻線窓４内の摺動面に近い面のみに磁性膜２
を被着したもの、第３図（Ｃ）は更にギャップ近傍のみ
に磁性膜２を被着したもので、フェライト内部に発生す
る応力を小さく抑えることができる。

また第３図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示した各ヘッドに
於いて、巻線窓４の形成されていない側のコアハーフに
於ける磁性膜２′　の被着箇所についても同様に適宜決
定可能である。

第４図（Ａ）、（Ｂ）は第１図のヘッドに於ける媒体摺
動面上に露呈する磁性合金膜２，２′　　の形状を変え
た他の実施例を示す図であり、第１図と同様の構成要素
については同一番号を付している。これらの変形は第２
図（Ａ）の工程に於いて形成される溝３１の形状そ変え
ることにより実現可能である。第４図（Ａ）、（Ｂ）の
例は境界線Ｌ　、　、Ｌ　２を直線としている。これに
よってフェライトの加工工程を簡易ならしめることがで
きる。但し、第４図（Ａ）の実施例にあっては第２図（
Ａ）の工程に於いて形成される溝の深さがトラック幅に
影響するので正確な加工精度が要求される。

尚、各側の効果については第１図の実施例のそれと同等
である。

Ｌ発明の効果〕 以上説明した様に本発明の磁気ヘッドによれば加工が比
較的簡単でかつコンタ−効果による電磁変換特性の劣化
を防止でき、かつ容易に広いトラック幅とすることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの磁気ギ
ャップ近傍の構成を示す斜視図、第２図（Ａ）〜（Ｈ）
は第１図に示す磁気ヘッドの製造工程を示す図、 第３図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は夫々第１図に示す磁気
ヘッドの磁性膜の被着位置の変形例を示す図、第４図（
Ａ）、（Ｂ）は夫々第１図に示す磁気ヘッドの媒体摺動
面上の構成の変形例を示す図、第５図（Ａ）、（Ｂ）は
夫々従来の磁気ヘッドの構成例を示す図、 第６図は従来の磁気ヘッドの問題点を説明するための図
である。 図中１，１′　　は高透磁率材ブロック、２．２′　　
は高飽和磁束密度材膜、 ３は磁気ギャップ、 ４は巻線窓、 ７．７′　　は非磁性材部、 Ｓ２は媒体摺動面である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高透磁率材上に高飽和磁束密度膜を被着してなるコアハ
   ーフ同志を磁気ギャップ材を介して突合せてなる磁気ヘ
   ッドであって、前記高飽和磁束密度膜が媒体摺動面に於
   いて前記磁気ギャップ材の両端に接する一対の非磁性部
   の一方と前記高透磁率材との境界に沿って延在すると共
   に、前記高飽和磁束密度膜の少なくとも一方の膜厚が前
   記媒体摺動面からの深さに応じて変化することを特徴と
   する磁気ヘッド。