JPS61110309A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS61110309A JPS61110309A JP23209684A JP23209684A JPS61110309A JP S61110309 A JPS61110309 A JP S61110309A JP 23209684 A JP23209684 A JP 23209684A JP 23209684 A JP23209684 A JP 23209684A JP S61110309 A JPS61110309 A JP S61110309A
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- Japan
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- thin film
- magnetic
- metal thin
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに関するものであり、特に磁気ギャ
ップ近傍部が強磁性金属薄膜で形成されてなる、いわゆ
る複合型の磁気ヘッドに関するものである。
ップ近傍部が強磁性金属薄膜で形成されてなる、いわゆ
る複合型の磁気ヘッドに関するものである。
例えばＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）等の磁気記録再
生装置においては、記録信号の高密度化が進められてお
り、この高密度記録に対応して磁気記録媒体として磁性
粉にＦａ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属の粉末を用いた、
いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着により
ベースフィルム上に被着した、いわゆる蒸着テープ等が
使用されるようになっている。そして、この種の磁気記
録媒体は高い抗磁力Ｈｃを有するために、記録再生に用
いる磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密度Ｂｓ
を有することが要求されている０例えば、従来磁気ヘッ
ド材料として多用されているフェライト材では飽和磁束
密度Ｂｓが低く、またパーマロイでは耐摩耗性に問題が
ある。
生装置においては、記録信号の高密度化が進められてお
り、この高密度記録に対応して磁気記録媒体として磁性
粉にＦａ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属の粉末を用いた、
いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着により
ベースフィルム上に被着した、いわゆる蒸着テープ等が
使用されるようになっている。そして、この種の磁気記
録媒体は高い抗磁力Ｈｃを有するために、記録再生に用
いる磁気ヘッドのヘッド材料にも高い飽和磁束密度Ｂｓ
を有することが要求されている０例えば、従来磁気ヘッ
ド材料として多用されているフェライト材では飽和磁束
密度Ｂｓが低く、またパーマロイでは耐摩耗性に問題が
ある。
一方、上述の高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記
録される記録トラックのトラック幅の狭小化も進められ
ており、これに対応して磁気ヘッドのトランク幅も極め
て狭いものが要求されている。
録される記録トラックのトラック幅の狭小化も進められ
ており、これに対応して磁気ヘッドのトランク幅も極め
て狭いものが要求されている。
そこで従来、例えばセラミックス等の非磁性基板上に強
磁性金属薄膜を被着形成し、これをトラック部分とした
複合型磁気ヘッドが提案されているが、この種の磁気ヘ
ッドでは磁路が膜厚の薄い強磁性金属薄膜のみにより構
成されるので、磁気抵抗が大きく効率上好ましくなく、
また上記強磁性金属薄膜の膜形成を膜成長速度の極めて
遅い真空薄膜形成技術で行うため、磁気ヘッド作製に時
間を要する等の問題があった。
磁性金属薄膜を被着形成し、これをトラック部分とした
複合型磁気ヘッドが提案されているが、この種の磁気ヘ
ッドでは磁路が膜厚の薄い強磁性金属薄膜のみにより構
成されるので、磁気抵抗が大きく効率上好ましくなく、
また上記強磁性金属薄膜の膜形成を膜成長速度の極めて
遅い真空薄膜形成技術で行うため、磁気ヘッド作製に時
間を要する等の問題があった。
あるいは、磁気コア部がフェライト等の強磁性酸化物か
らなり、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形成面に強
磁１生金属薄膜を被着した複合型磁気ヘッドも提案され
ているが、この場合には磁路と上記金属薄膜とが直交す
る方向に位置するため渦電流損失が発生し再生出力の低
下を招く虞れがあり、また上記磁気コア部と上記金属薄
膜間に擬似ギャップが形成され、充分な信頼性が得られ
ない等の問題がある。
らなり、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形成面に強
磁１生金属薄膜を被着した複合型磁気ヘッドも提案され
ているが、この場合には磁路と上記金属薄膜とが直交す
る方向に位置するため渦電流損失が発生し再生出力の低
下を招く虞れがあり、また上記磁気コア部と上記金属薄
膜間に擬似ギャップが形成され、充分な信頼性が得られ
ない等の問題がある。
そこで本願出願人は、先に特願昭５８−２５０９８８号
明細書において、例えばメタルテープ等の高い抗磁力を
有する磁気テープに高密度記録するのに通した複合型磁
気ヘッドを提案した。この磁気ヘッドは、第１１図に示
すように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物によ
り形成される一対の磁気コア半体１０１，１０２の突き
合わせ面をそれぞれ斜めに切り欠いて強磁性金属薄膜形
成面１０３．１０４を形成し、この強磁性金属薄膜形成
面１０３．１０４上に真空薄膜形成技術によりセンダス
ト等の強磁性金属！Ｅ１ｍ！１０５，１０６を被着形成
し、これら強磁性金ｊ！［１０５，１０６を当接するこ
とにより磁気ギャップ１０７を構成し、さらにトラック
ｖ／ｉ規Ｘ溝内にテープ摺接面を確探し強磁性金属ａ！
膜１０５，１０６の摩耗を防止するために低融点ガラス
１０８，１０９あるいは高融点ガラス１１０，１１１を
充填して構成される ′ものであって、信頼性や磁
気特性、耐摩耗性等の点で優れた特性を有するものであ
る。
明細書において、例えばメタルテープ等の高い抗磁力を
有する磁気テープに高密度記録するのに通した複合型磁
気ヘッドを提案した。この磁気ヘッドは、第１１図に示
すように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物によ
り形成される一対の磁気コア半体１０１，１０２の突き
合わせ面をそれぞれ斜めに切り欠いて強磁性金属薄膜形
成面１０３．１０４を形成し、この強磁性金属薄膜形成
面１０３．１０４上に真空薄膜形成技術によりセンダス
ト等の強磁性金属！Ｅ１ｍ！１０５，１０６を被着形成
し、これら強磁性金ｊ！［１０５，１０６を当接するこ
とにより磁気ギャップ１０７を構成し、さらにトラック
ｖ／ｉ規Ｘ溝内にテープ摺接面を確探し強磁性金属ａ！
膜１０５，１０６の摩耗を防止するために低融点ガラス
１０８，１０９あるいは高融点ガラス１１０，１１１を
充填して構成される ′ものであって、信頼性や磁
気特性、耐摩耗性等の点で優れた特性を有するものであ
る。
ところで、上述の如く構成される磁気ヘッドでは、磁気
ギャップを構成する強磁性金属薄膜として、ターゲット
に対し傾斜して配置される強磁性金属薄膜形成面上に被
着形成される強磁性金属薄膜を使用しているので、この
強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部での透磁率が若干
低下し、記録再生出力が高い磁気ヘッドが得難いという
問題がある。
ギャップを構成する強磁性金属薄膜として、ターゲット
に対し傾斜して配置される強磁性金属薄膜形成面上に被
着形成される強磁性金属薄膜を使用しているので、この
強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部での透磁率が若干
低下し、記録再生出力が高い磁気ヘッドが得難いという
問題がある。
そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、磁気ギャップ近傍部での強磁性金属薄膜
の透磁率の低下を防ぎ、信頼性が高く、高出力の磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。
ものであって、磁気ギャップ近傍部での強磁性金属薄膜
の透磁率の低下を防ぎ、信頼性が高く、高出力の磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。
この目的を達成するために本発明の磁気ヘッドは、強磁
性酸化物よりなる磁気コア半体の接合面を切り欠き強磁
性薄膜形成面を形成し、この強磁性ａｖ瑛影形成面上真
空薄膜形成技術による第１の強磁性金属薄膜を形成する
とともに、前記第１の強磁性金属薄膜同士を突き合わせ
て磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドにおいて、上
記強磁性１１１１！形成面と磁気ギャンブ形成面とが所
要角度で傾斜するとともに、上記第１の強磁性金属薄膜
のみにより磁気ギャップが構成され、上記第１の強磁性
金属薄膜の磁気ギャップ構成部に上記磁気ギャップ形成
面に対して略直交する向きの柱状構造を有する第２の強
磁性金属薄膜を設けてなるものである。
性酸化物よりなる磁気コア半体の接合面を切り欠き強磁
性薄膜形成面を形成し、この強磁性ａｖ瑛影形成面上真
空薄膜形成技術による第１の強磁性金属薄膜を形成する
とともに、前記第１の強磁性金属薄膜同士を突き合わせ
て磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドにおいて、上
記強磁性１１１１！形成面と磁気ギャンブ形成面とが所
要角度で傾斜するとともに、上記第１の強磁性金属薄膜
のみにより磁気ギャップが構成され、上記第１の強磁性
金属薄膜の磁気ギャップ構成部に上記磁気ギャップ形成
面に対して略直交する向きの柱状構造を有する第２の強
磁性金属薄膜を設けてなるものである。
このように、磁気ギャップ形成面に対して傾斜する斜面
、すなわち強磁性金＊ｙｐｕ＊形成面上に被着形成され
る第１の強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部上に、上
記磁気ギャップ形成面と直交する方向の柱状構造を有す
る第２の強磁性金属薄膜を設けているので、磁気ギャッ
プ近傍部の強磁性金属＊ｉ＊の透磁率がより一層高くな
る。
、すなわち強磁性金＊ｙｐｕ＊形成面上に被着形成され
る第１の強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部上に、上
記磁気ギャップ形成面と直交する方向の柱状構造を有す
る第２の強磁性金属薄膜を設けているので、磁気ギャッ
プ近傍部の強磁性金属＊ｉ＊の透磁率がより一層高くな
る。
以下、本発明を通用した磁気ヘッドの一実施例を図面を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
第１図は本発明を通用した複合型磁気ヘッドの一例を示
す外観斜視図であり、第２図はその磁気テープ摺接面を
示す要部平面図である。
す外観斜視図であり、第２図はその磁気テープ摺接面を
示す要部平面図である。
この磁気ヘッドにおいては、一対の磁気コア半体１．２
が例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物によ
り形成され、上記磁気コア半体１゜２の磁気ギャップ形
成面１１に対してθなる角度で傾斜している強磁性金属
薄膜形成面３，４上に第１の強磁性金属薄膜５，６が被
着形成され、さらに上記第１の強磁性金属薄膜５．６の
磁気ギャップ構成部７，８上に第２の強磁性金属薄１ｍ
ｌ！ ９ 。
が例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物によ
り形成され、上記磁気コア半体１゜２の磁気ギャップ形
成面１１に対してθなる角度で傾斜している強磁性金属
薄膜形成面３，４上に第１の強磁性金属薄膜５，６が被
着形成され、さらに上記第１の強磁性金属薄膜５．６の
磁気ギャップ構成部７，８上に第２の強磁性金属薄１ｍ
ｌ！ ９ 。
１０が、その柱状構造成長方向が磁気ギャップ形成面１
１に対して略直角になるように被着形成されている。そ
して、これら一対の磁気コア半体１゜２をＳｉｎ、等の
ギャップ材を介して突き合わせ、上記第２の強磁性金属
薄膜９．１０の当接面間がトラック幅Ｔｗの磁気ギャッ
プ１２となるように構成されている。なお、上記磁気ギ
ャップ１２の近傍部には、例えばガラス等の非磁性材１
３，１４が充填され、この磁気ヘッドの磁気テープ摺接
面を所定の幅に確保し磁気テープの走行伏態を安定なも
のとするとともに、上記第１の強磁性金属薄膜５．６及
び第２の強磁性金属薄膜 ９．１０の摩耗を防止するよ
うにされている。
１に対して略直角になるように被着形成されている。そ
して、これら一対の磁気コア半体１゜２をＳｉｎ、等の
ギャップ材を介して突き合わせ、上記第２の強磁性金属
薄膜９．１０の当接面間がトラック幅Ｔｗの磁気ギャッ
プ１２となるように構成されている。なお、上記磁気ギ
ャップ１２の近傍部には、例えばガラス等の非磁性材１
３，１４が充填され、この磁気ヘッドの磁気テープ摺接
面を所定の幅に確保し磁気テープの走行伏態を安定なも
のとするとともに、上記第１の強磁性金属薄膜５．６及
び第２の強磁性金属薄膜 ９．１０の摩耗を防止するよ
うにされている。
なお、上記強磁性金属薄膜形成面３．４と磁気ギャップ
形成面１１とがなす角θは、２０度から８０度程度の範
囲に設定することが好ましい、ここで２０度以下の角度
であると、隣接トラックからのクロストークが大きくな
り、望ましくは３０度以上の角度を持たせるのがよい、
また、上記傾斜角度を９０度にした場合は、耐摩耗性が
劣ることから、８０度程度以下とするのがよい、また、
傾斜角度を９０度にすると、磁気ギャップ１２の近傍部
に形成される上述の強磁性金属薄膜５．６の膜厚をトラ
ック幅Ｔｗに等しく形成する必要があり、真空薄膜形成
技術を用いて薄膜を形成するにあたって、多くの時間を
要してしまうことや、膜構造が不均一化してしまう点で
好ましくない。
形成面１１とがなす角θは、２０度から８０度程度の範
囲に設定することが好ましい、ここで２０度以下の角度
であると、隣接トラックからのクロストークが大きくな
り、望ましくは３０度以上の角度を持たせるのがよい、
また、上記傾斜角度を９０度にした場合は、耐摩耗性が
劣ることから、８０度程度以下とするのがよい、また、
傾斜角度を９０度にすると、磁気ギャップ１２の近傍部
に形成される上述の強磁性金属薄膜５．６の膜厚をトラ
ック幅Ｔｗに等しく形成する必要があり、真空薄膜形成
技術を用いて薄膜を形成するにあたって、多くの時間を
要してしまうことや、膜構造が不均一化してしまう点で
好ましくない。
すなわち、上記磁気コア半対１．２に被着形成される強
磁性金属薄膜５．６の膜厚ｔは、ｔ ｓ＋ｉＴｗ ｓｉ
ｎ θ でよいことから、トラック幅Ｔｗに相当する膜厚を膜付
けする必要がなく、ヘッド作製に要する時間を短縮する
ことができる。ここで、Ｔｗはトラック幅であり、θは
上記強磁性金属薄膜形成面３゜４と磁気ギャップ形成面
１１とのなす角度である。
磁性金属薄膜５．６の膜厚ｔは、ｔ ｓ＋ｉＴｗ ｓｉ
ｎ θ でよいことから、トラック幅Ｔｗに相当する膜厚を膜付
けする必要がなく、ヘッド作製に要する時間を短縮する
ことができる。ここで、Ｔｗはトラック幅であり、θは
上記強磁性金属薄膜形成面３゜４と磁気ギャップ形成面
１１とのなす角度である。
また、上記強磁性金属薄膜５，６．９．１０の材質とし
ては、Ｆｅ −ＡＩ−３上系合金であるセンダスト合金
が使用可能であり、その膜付は方法としても、フラッシ
ュ蒸着、ガス蕉着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング、クラスター−イオンビーム法等に代表れさる真空
薄膜形成技術が採用される。
ては、Ｆｅ −ＡＩ−３上系合金であるセンダスト合金
が使用可能であり、その膜付は方法としても、フラッシ
ュ蒸着、ガス蕉着、イオンブレーティング、スパッタリ
ング、クラスター−イオンビーム法等に代表れさる真空
薄膜形成技術が採用される。
上記第１の強磁性金属薄膜５．６の磁気ギャップ構成部
７．８上に被着形成される第２の強磁性金属薄膜９，１
０は、例えば上記第１の強磁性金属薄膜５．６の磁気ギ
ャップ部７．８がターゲットに対して平行になるように
配置して真空蒸着技術により被着することによって形成
され、従って、この第２の強磁性金属薄膜９．１０の柱
状構造は磁気ギャップ形成面に対して直交する方向に生
起され、透磁率の高いものとなる。
７．８上に被着形成される第２の強磁性金属薄膜９，１
０は、例えば上記第１の強磁性金属薄膜５．６の磁気ギ
ャップ部７．８がターゲットに対して平行になるように
配置して真空蒸着技術により被着することによって形成
され、従って、この第２の強磁性金属薄膜９．１０の柱
状構造は磁気ギャップ形成面に対して直交する方向に生
起され、透磁率の高いものとなる。
次に、本発明に係る磁気ヘッドの構成をより明確なもの
とするために、その製造方法について説明する。
とするために、その製造方法について説明する。
本発明に係る磁気ヘッドを作製するには、まず、第３Ｗ
Ｊに示すように、例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等の強
磁性酸化物基板２０の上面２０ａ、すなわちこの強磁性
酸化物基板２０における磁気コア半体突き合わせ時の接
合面に、回転砥石等により断面路■字状の第１の切溝２
１を全幅に亘って複数平行に形成し、強磁性金属薄膜形
成面２１ａを形成する。なお、上記強磁性金属薄膜形成
面２１ａは、上記強磁性酸化物基板２０の磁気ギャップ
形成面に対応する上面２０ａと所定角度θで傾斜するよ
うに斜面として形成され、その角度θは、ここではおよ
そ４５°に設定されている。
Ｊに示すように、例えばＭｎ−Ｚｎ系フェライト等の強
磁性酸化物基板２０の上面２０ａ、すなわちこの強磁性
酸化物基板２０における磁気コア半体突き合わせ時の接
合面に、回転砥石等により断面路■字状の第１の切溝２
１を全幅に亘って複数平行に形成し、強磁性金属薄膜形
成面２１ａを形成する。なお、上記強磁性金属薄膜形成
面２１ａは、上記強磁性酸化物基板２０の磁気ギャップ
形成面に対応する上面２０ａと所定角度θで傾斜するよ
うに斜面として形成され、その角度θは、ここではおよ
そ４５°に設定されている。
次いで、第４図に示すように、上記基板２０をターゲッ
トと平行に配置して、上記強磁性金ｘ薄膜形成面２１ａ
上にセンダスト等の第１の強磁性金属薄膜２３をスパッ
タ等の真空薄膜形成技術により形成する。
トと平行に配置して、上記強磁性金ｘ薄膜形成面２１ａ
上にセンダスト等の第１の強磁性金属薄膜２３をスパッ
タ等の真空薄膜形成技術により形成する。
さらに、第５図に示すように、上記基板２０の上面２０
ａを平面研削し、平滑度良く面出しを行い、上記基板２
０の上面２０ａに上記強磁性金属薄膜形成面２１ａに被
着される第１の強磁性金属薄膜２３を露出させる。
ａを平面研削し、平滑度良く面出しを行い、上記基板２
０の上面２０ａに上記強磁性金属薄膜形成面２１ａに被
着される第１の強磁性金属薄膜２３を露出させる。
つぎに、第６図に示すように、上記第１の強磁性金運薄
膜２３が被着形成された強磁性金属薄膜形成面２１ａに
隣接して、上記強磁性金属薄膜２３の一側縁２３ａと若
干オーバーラツプするように第１の切溝２１と平行に第
２の切溝２５を切削加工し、上記基板２０の上面２０ａ
に対して鏡面加工を施す、この結果、上記強磁性金運薄
膜２３のみにより磁気ギャップが構成されるようにトラ
ック幅が規制される。
膜２３が被着形成された強磁性金属薄膜形成面２１ａに
隣接して、上記強磁性金属薄膜２３の一側縁２３ａと若
干オーバーラツプするように第１の切溝２１と平行に第
２の切溝２５を切削加工し、上記基板２０の上面２０ａ
に対して鏡面加工を施す、この結果、上記強磁性金運薄
膜２３のみにより磁気ギャップが構成されるようにトラ
ック幅が規制される。
上述のような工程により作製される一対の強磁性酸化物
基板２０のうち、一方の基板２０に対して、第７図に示
すように、上記第１の切溝２１及び第２の切溝２５と直
交する方向に溝加工を施し、巻線溝３１を形成し強磁性
酸化物基板３０を得る。
基板２０のうち、一方の基板２０に対して、第７図に示
すように、上記第１の切溝２１及び第２の切溝２５と直
交する方向に溝加工を施し、巻線溝３１を形成し強磁性
酸化物基板３０を得る。
次いで、上記強磁性酸化物基板２０及び上記巻線溝３１
を形成した強磁性酸化物基板３０を、ターゲットに対し
て平行に配置し、第８図に示すように、これら基板２０
．３０の上面２０ａ、３０ａに垂直方向からスパッタリ
ング等の真空薄膜形成技術により第２の強磁性金属薄膜
３５．３６を全面に亘って被着形成する。
を形成した強磁性酸化物基板３０を、ターゲットに対し
て平行に配置し、第８図に示すように、これら基板２０
．３０の上面２０ａ、３０ａに垂直方向からスパッタリ
ング等の真空薄膜形成技術により第２の強磁性金属薄膜
３５．３６を全面に亘って被着形成する。
このとき、上記強磁性金運薄膜２３の突き合わせ面２３
ｂは、上記ターゲットと平行に対向するので、この突き
合わせ面２３ｂ上には、これら基板２０．３０の上面２
０ａ、３０ａ、すなわち磁気ギャップ形成面と直交する
方向の柱状構造を有する強磁性金運薄膜が第２の強磁性
金属薄膜３５゜３６として形成される。
ｂは、上記ターゲットと平行に対向するので、この突き
合わせ面２３ｂ上には、これら基板２０．３０の上面２
０ａ、３０ａ、すなわち磁気ギャップ形成面と直交する
方向の柱状構造を有する強磁性金運薄膜が第２の強磁性
金属薄膜３５゜３６として形成される。
続いて、上記基板２０に被着形成される第２の強磁性金
属薄膜３５上か上記基板３０に被着形成される強磁性金
属薄膜３６上のいずれか一方にギャップスペーサ（Ｓｉ
ｎ、等により形成される。）を被着し、第８図に示すよ
うに、これら基板２０゜３０を上記強磁性金属薄膜２３
同士が突き合わされるように接合配置する。そして、こ
れら基板２０及び３０をガラスにより融着すると同時に
、上記第１の切溝２１と上記第２の切溝２５に上記ガラ
スを充填する。
属薄膜３５上か上記基板３０に被着形成される強磁性金
属薄膜３６上のいずれか一方にギャップスペーサ（Ｓｉ
ｎ、等により形成される。）を被着し、第８図に示すよ
うに、これら基板２０゜３０を上記強磁性金属薄膜２３
同士が突き合わされるように接合配置する。そして、こ
れら基板２０及び３０をガラスにより融着すると同時に
、上記第１の切溝２１と上記第２の切溝２５に上記ガラ
スを充填する。
最後に、第８図中ａ−ａ線及びａ′−ａ′線の位置でス
ライシング加工し、複数個のヘッドチップを切り出した
後、磁気テープ摺接面を円筒研磨することにより、第１
図に示す磁気ヘッドを完成する。
ライシング加工し、複数個のヘッドチップを切り出した
後、磁気テープ摺接面を円筒研磨することにより、第１
図に示す磁気ヘッドを完成する。
なお、上述の製造工程において、上記切溝２１及び切溝
２５へのガラスの充填は、基板２０，３０の融着と同時
でなく、例えば第５図に示す工程で第１の強磁性金属薄
膜２３が被着形成された第１の切溝２１内にあらかじめ
ガラスを充填し、さらに第６図に示す工程で第２の切溝
２５内にガラスを充填し、第８図に示す工程ではガラス
融着のみとしてもよい。
２５へのガラスの充填は、基板２０，３０の融着と同時
でなく、例えば第５図に示す工程で第１の強磁性金属薄
膜２３が被着形成された第１の切溝２１内にあらかじめ
ガラスを充填し、さらに第６図に示す工程で第２の切溝
２５内にガラスを充填し、第８図に示す工程ではガラス
融着のみとしてもよい。
ところで、本発明は上述の実施例に限定されるものでは
なく、例えば第９図にしめすように、強磁性酸化物より
なるコア半体５１．５２の磁気ギヤ７プ５３形成面側に
突き出た突起部５４．５５をまたぐように第１の強磁性
金属薄膜５６．５７が形成される磁気ヘッドに通用し、
上記強磁性金属薄ＩＩ！５６．５７の磁気ギ＋−／プ構
成部５６ａ。
なく、例えば第９図にしめすように、強磁性酸化物より
なるコア半体５１．５２の磁気ギヤ７プ５３形成面側に
突き出た突起部５４．５５をまたぐように第１の強磁性
金属薄膜５６．５７が形成される磁気ヘッドに通用し、
上記強磁性金属薄ＩＩ！５６．５７の磁気ギ＋−／プ構
成部５６ａ。
５７ａ上に上記磁気ギャップ５３形成面と直交する方向
の柱状構造を有する第２の強磁性金属薄膜５８．５９を
設けてもよい。
の柱状構造を有する第２の強磁性金属薄膜５８．５９を
設けてもよい。
あるいは、第１０図に示すように、第１の強磁性金属薄
膜６４．６５が磁気ギャップ６３近傍部のみに形成され
るものに通用し、前述の各実施例と同様にこれら第１の
強磁性金属薄膜６４．６５の磁気ギャップ構成部６４ａ
、６５ａ上に上記磁気ギャップ６３形成面と直交する方
向の柱状構造を有する第２の強磁性金属薄膜６６．６７
を設けてもよい。
膜６４．６５が磁気ギャップ６３近傍部のみに形成され
るものに通用し、前述の各実施例と同様にこれら第１の
強磁性金属薄膜６４．６５の磁気ギャップ構成部６４ａ
、６５ａ上に上記磁気ギャップ６３形成面と直交する方
向の柱状構造を有する第２の強磁性金属薄膜６６．６７
を設けてもよい。
以上の説明からも明らかなように、本発明に係る磁気ヘ
ッドにおいては、磁気ギャップ形成面に対して傾斜する
斜面、すなわち強磁性金属薄膜形成面上に被着形成され
る第１の強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部上に、上
記磁気ギャップ形成面と直交する方向の柱状構造を有す
る第２の強磁性金属薄膜を設けてなるので、磁気ギャッ
プ近傍の強磁性金属薄膜が高透磁率を示すようになり、
したがって、記録再生出力が高く、高信頼性を有する磁
気ヘッドを提供することが可能となってい°る。
ッドにおいては、磁気ギャップ形成面に対して傾斜する
斜面、すなわち強磁性金属薄膜形成面上に被着形成され
る第１の強磁性金属薄膜の磁気ギャップ構成部上に、上
記磁気ギャップ形成面と直交する方向の柱状構造を有す
る第２の強磁性金属薄膜を設けてなるので、磁気ギャッ
プ近傍の強磁性金属薄膜が高透磁率を示すようになり、
したがって、記録再生出力が高く、高信頼性を有する磁
気ヘッドを提供することが可能となってい°る。
第１図は本発明が適用される磁気ヘッドの一例を示す外
観斜視図、第２図はその磁気テープ摺接面を示す要部平
面図である。 第３１１Ｊないし第８図は本発明の一実施例を製造する
ための製造工程をその工程順序に従って示す概略的な斜
視図である。 第９図は本発明の他の実施例の磁気テープ摺接面を示す
要部平面図であり、第１０ＴＩ！Ｊは本発明のさらに他
の実施例の磁気テープ摺接面を示す要部平面図である。 第１１図は従来の磁気ヘッドの構成を示す外観斜視図で
ある。 １．２・・・強磁性酸化物基板 ５．６・・・第１の強磁性金属薄膜 ７．８・・・磁気ギャップ構成部 ９．１０・・第２の強磁性金属薄膜 １１・・・・磁気ギャップ形成面 １２・・・・磁気ギャップ
観斜視図、第２図はその磁気テープ摺接面を示す要部平
面図である。 第３１１Ｊないし第８図は本発明の一実施例を製造する
ための製造工程をその工程順序に従って示す概略的な斜
視図である。 第９図は本発明の他の実施例の磁気テープ摺接面を示す
要部平面図であり、第１０ＴＩ！Ｊは本発明のさらに他
の実施例の磁気テープ摺接面を示す要部平面図である。 第１１図は従来の磁気ヘッドの構成を示す外観斜視図で
ある。 １．２・・・強磁性酸化物基板 ５．６・・・第１の強磁性金属薄膜 ７．８・・・磁気ギャップ構成部 ９．１０・・第２の強磁性金属薄膜 １１・・・・磁気ギャップ形成面 １２・・・・磁気ギャップ
Claims (1)
- 強磁性酸化物よりなる磁気コア半体の接合面を切り欠き
強磁性薄膜形成面を形成し、この強磁性薄膜形成面上に
真空薄膜形成技術による第１の強磁性金属薄膜を形成す
るとともに、前記第１の強磁性金属薄膜同士を突き合わ
せて磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドにおいて、
上記強磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成面とが所要角
度で傾斜するとともに、上記第１の強磁性金属薄膜のみ
により磁気ギャップが構成され、上記第１の強磁性金属
薄膜の磁気ギャップ構成部に上記磁気ギャップ形成面に
対して略直交する向きの柱状構造を有する第２の強磁性
金属薄膜を設けてなる磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23209684A JPS61110309A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23209684A JPS61110309A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61110309A true JPS61110309A (ja) | 1986-05-28 |
| JPH0565924B2 JPH0565924B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=16933938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23209684A Granted JPS61110309A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61110309A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6371906A (ja) * | 1986-09-13 | 1988-04-01 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP23209684A patent/JPS61110309A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6371906A (ja) * | 1986-09-13 | 1988-04-01 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0565924B2 (ja) | 1993-09-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |