JPS6247810A - 磁気コアおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野〕 本発明は磁気コアおよびその製造方法に関し、さらに詳
しくは磁気記録媒体に摺動して情報の記録、再生を行な
い、前記摺動画が複数種類の磁性材で構成される誘導型
磁気ヘッドの磁気コアおよびその製造方法に関するもの
である・ ［従来の技術］ 近年開発されている幅８１の磁気テープを記録媒体に用
いるＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）や電子カメラにお
いては記録媒体としていわゆるメタル塗布媒体等の抗磁
力Ｈｅが１３０００ｅＮ１５０００ｅの高抗磁力媒体が
用いられる。

従って従来の磁気コア材にフェライト系材料のみを用い
た磁気ヘッドでは磁気コアの飽和磁束密度Ｂｓが５００
０ガウス程度に留まるため、これを上記の高抗磁力媒体
に対して用いると、磁気コアの飽和が生じ、充分な記録
効率が得られない。

このため飽和磁束密度の高いセンダスト、アモルファス
等の磁性合金を磁気コア材料として用いる磁気ヘッドが
開発された。しかしこのようなヘッドの磁気コアを製造
する場合、基本的には磁気ギャップを介してチップ状の
コア半休どうしを突き合わせて？ｉａ気コアを得るため
、フェライトコアのようにブロックで突き合わせた後ス
ライスして多数のコアを得るのと比較して生産性が低い
ととともに特性のバラツキが大きく、この結果製造コス
トが大幅に上昇するという問題があった。

そこでこの生産性の問題を解決するため、コア半休の磁
気ギャップを挾む突き合わせ面部分に−１−記の磁性合
金材を用い、残りの部分にフェライトを用いたいわゆる
複合型の磁気コアが種々提案された。

これらのコアの製造方法の概略を述べると、まずフェラ
イトからなるブロックの突き合せ面［−に磁性合金材の
）１りをスパッタ等の方法で所定ピッチで付着、形成し
た後、前記磁性合金膜部分がその間に磁気ギャップを形
成するようにブロックを突き合わせ接合し、しかる後に
接合したブロックをスライスして磁気コアを得る。

この製法によればスライスにより多数のコアを得られる
という点では生産性の点で有利である。しかし８ミリＶ
ＴＲ用のコアの場合には極めて狭トラツク（１５ＪＬｍ
程度）、狭ギャップ（０，２５ｇｍ程度）であるため、
上記工程の突き合わせにおけるトラック合わせとギャッ
プ出しは極めて高い精度を要し、困難であり、実際には
かなりのバラツキを生じてしまう。例えばギャップ出し
では０．２５ｇｍを目標としても、０．２〜０．３μｍ
程度の範囲内でバラツキが生じる。

そしてこのバラツギにより歩留りが悪くなってしまうと
いう問題がある。

そこで、突き合わせ工程を無くした磁気コアの製法が提
案されている。第７図（ａ）〜（ｄ）はその製法の一例
（特開昭５５−７３９１３号）を説明するものである。

まず第７図（ａ）に示す巻線巻回用の貫通穴２を形成し
たコア基板ｌ上に第７図（ｂ）に示すようにセンダスト
合金等の膜からなるコア半体３をスパッタ等により形成
し、その磁気ギャップを形成する面に５ｉ０２等の非磁
性のギヤツブ利４を所定の厚みで付着させる。次に同図
に矢印Ａで示すようにコア基板ｌ上にセンダスト合金等
の強磁性材をスパッタ等で堆積した後、不要な部分に付
着した強磁性材を除去して第７図（Ｃ）に示すように残
った強磁性材の膜を第２のコア半体５として同図に示す
磁気コアを得る。

この製法による磁気コアには一ヒ述の突き合わせによる
問題はないが別の問題を生じる。

すなわち、まずコア基板ｌに貫通穴２をいちいち形成す
る必要がある。また磁気ギャップにアジマスを付ける場
合には第７図（ｂ）に示すようにコア半体３のギャップ
形成面Ｂに一定のアジマス角度Ｏをつけなければならな
い。さらに第２のコア半体５の磁性材を成膜する際に第
７図（ｄ）に断面を示すように段差を有する面に成膜す
ると面と面が交わる稜部Ｃ，Ｄの近傍では磁性材の特性
が劣化してしまう。

これらの問題点からこの製法では安価にコアを製造する
ことは実際−ヒ極めて困難であった。

そこでこの点に鑑みて本出願人は突き合わせ工程がなく
、さらに生産性を高めた製法を先に提案した。第８図（
ａ）〜（ｈ）はその製法を説明するものである。

まず第８図（ａ）に示すセンダスト等の高飽和磁束密度
の磁性合金材からなるブロック６に第８図（ｂ）に示す
ように巻線窓７を切削、研磨等で形成する。

次に第８図（Ｃ）に示すように巻線窓７をアルミニウム
、銀ロウ等の力／へ一部材８で埋め、さらにブロック６
の磁気ギャップ形成面に５ｉ０２の非磁性材を磁気ギャ
ップ９としてスパッタ等で所定の厚さイ・１着させる。

次に第８図（ｄ）に示すようにブロック６とで磁気ギャ
ップ９を挾むコアとしてセンダスト等の磁性材膜１０を
スパッタ等で付着させる。

続いて第８図（ｅ）に示すようにカバ一部材８を溶解さ
せて巻線窓７を再び空ける。

さらに第８図（ｆ）に１．￥鎖線で示すようにアジマス
角０をつけて全体を切断する。

第８図（ｇ）は上記切断面に非磁性材の補強板１１を接
着材１２で接着した様子を示しており、さらに同図に１
点鎖線に沿って切断を行なう。

そしてその切断面にも第８図（ｈ）に示すように非磁性
材の補強板１４を接着材１３で接着して磁気コアを得る
。

［発明が解決しようとする問題点］ 第８図（ａ）〜（ｈ）の製法では第７図（ａ）〜（ｄ）
の製法より大幅に生産性が向−ヒしたものの以下のよう
な問題がある。

まず第８図（ｈ）に示すように１つの磁気コアについて
２枚の補強板１１．１４を接着する工程が必要である。

またコアの特性上の要請から磁性材膜ｌＯの厚さく媒体
摺動方向）は媒体摺動面から巻線窓７の−Ｌ端までの寸
法と同等で０．５ｍｍ程度必要となるが、スパッタ等の
物理蒸着で０．５ｍｍ程の厚さを得るには数十時間を要
し、生産性を低下させる。かといってその厚さを小さく
すると磁気回路の抵抗が増し、出力が低下してしまう。

また構造の面でいうと第８図（ｈ）の磁気コアの補強板
１１．１４は非磁性材であるが、全体の磁気抵抗を減ら
すには磁性材を用いた方が良い。

［問題点を解決するための手段］ 上述した問題点を解決するために、本発明によるｍ気コ
アにあっては、一端面に第１の高飽和磁束密度材膜を形
成された高透磁率材チップと、前記１１タトに磁気ギャ
ップ材膜を介して形成された第２の高飽和磁束密度材膜
と、前記第２の膜上に接合された補強板からなり、磁気
記録媒体摺動面に露出する１■記チツプと第１の膜の境
界線は磁気ギャップ材膜と非平行であり、前記摺動面に
おいて前記補強板の前記第２の膜に隣接する部分は少な
くとも非磁性材からなる構造を採用した。

また本発明による磁気コアの製造方法にあっては、一側
面に溝を形成した高透磁率材ブロックの前記描形成面」
―に第１の高飽和磁束密度材膜を形成する工程と、前記
膜形成後にｒｔｉｉ記溝に非磁性材を埋設する工程と、
前記埋設後の膜形成面一１に磁気ギャップ材膜を形成す
る工程と、前記ギャップ材膜にに第２の高飽和磁束密度
材膜を形成する工程と、前記第２の膜の磁気記録媒体摺
動面側の端部の複数箇所を所定幅に加工する工程と、前
記加工後に前記第２の膜にに少なくとも前記摺ｆＪＪ面
側において、前記第２の膜に接する分が非磁性材で構成
されたブロックを接合する工程と、前記接合後全体を切
断して磁気コアを得る工程とを含む構成を採用した。

［作　用］ 上述の構造によれば磁気コアの磁気回路の磁気ギャップ
近傍が高飽和磁束密度材膜で構成されるので高抗磁力媒
体に対応できる。また高透磁率材チップの存在により全
体の磁気抵抗が低くなるので高出力を得られる。また摺
動面上の第１の高飽和磁束密度材膜と高透磁率チップ間
の境界線が磁気ギャップ材に対して非平行であることと
、摺動面で第２の高飽和磁束密度材膜が磁性材に接して
いないことから疑似ギヤツブ作用の発生を効果的に防１
１二できる。

また本発明の製造方法によれば磁気ギャップの形成は成
膜工程のみにより行なわれ、突き合わせ工程を含まない
のでギャップ幅のバラツキを抑えることができる。また
最終的にはブロックの切断により多数のコアがｅＩられ
ることと、特別に困難な工程や時間のかかる工程１問題
のある工程を含まないので磁気コアを高い生産性で安価
に製造できる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。

剃±１１」 第１図（ａ）は本発明の第１実施例による磁気コアの構
造を示す斜視図であり１図中の磁気コアの上端面が不図
示の磁気テープに摺動する磁気テープの摺動面である。

符号１５で示すものはコアの磁気回路を構成する高透磁
率磁性材のフェライトからなるフェライトチップであり
、図中左上端部は溝２５により」ユ方から見て断面Ｖ字
形に形成され、さらに溝２５に連続して巻線溝２６が形
成されている。

フェライトチップ１５の溝２５、巻線溝２６を形成した
図中左端面には磁性合金膜１６がセンダスト等の高飽和
磁束密度の磁性合金から形成されており、フェライトチ
ップとともにコアの磁気回路を構成している。その膜厚
は５〜２０ルｍである。磁性合金膜１６のＶ字形の−Ｌ
端面ば磁気テープ摺動画に露出しており、その先端部は
磁気ギヤ、プＧに接して第１の磁極１６ａを構成してい
る。

溝２５および３ｖＡ溝２６中には非磁性の接着材である
低融点ガラス２９が埋設されており、巻線溝２６中には
円形の穴の巻線窓２が形成されている。

また磁性合金膜１６の巻線溝２６より下の部分と巻線溝
２６．溝２５に埋設された低融点ガラス２９の表面上に
は磁気ギャップＧを形成する磁気ギャップ材膜である非
磁性膜１７を介して第２の磁性合金膜１８が形成されて
おり、コアの磁気回路の残りの部分を構成している。磁
性合金膜１８と非磁性膜１７の上端部はトラック幅方向
に切り欠かれており、磁性合金膜１８の−に端部は第２
の磁極１８ａとして磁気テープ摺動画に露出し、磁気ギ
ャップＧを挾んで磁性合金膜１６の磁極１６ａと対向し
ている。磁性合金膜１８は磁性合金膜１６と同様の高飽
和磁束密度の磁性合金から形成され、膜厚は２０〜３０
ｇｍである。また非磁性１１４２１７は５ｉ０２等から
形成され、膜厚は０．２〜０．３１ヒｍである。

さらに磁性合金膜１８に対して補強板２３が厚さ１〜５
ｋｍの接着材層１９と低融点ガラス２９を介して接合さ
れている。補強板２３は磁性合金１１り１８を機械的に
補強するとともに磁気回路の抵抗を減らすものであり、
例えば多結晶フェライト等の高透磁率磁性材からなる磁
性材チップ２１ヒに磁気テープ摺動画を構成する非磁性
材チップ２０を接着材層２２を介して接合して形成しで
ある。非磁性材チップ２０はその底面が巻線溝２６の」
二輪部に達する厚みを有する。また非磁性材チップ２０
の材料は耐摩耗性がフェライトチップ１５と回等のもの
例えば非磁性フェライト等を選択する。

なお以−ヒの構造において、フェライトチップ１５の磁
気テープ摺動面に露出する左端部の断面のＶ字形のそれ
ぞれの辺はほぼ直線状とし、それぞれ磁気ギャップＧに
対して２０’以上の角度を有するものとする。すなわち
磁気テープ摺動面のフェライトチップ１５、（６性合金
膜１６間の境界線がほぼ直線状で磁気ギャップＧに対し
て２０゜以上の角度を有するようにする。

このような構造により磁気テープ摺動画ＩＺに異種の磁
性材間の境界線があり、これが磁気ギヤ。

ブに対して平行である場合にこの境界線部分に発生する
疑似ギャップ作用の問題を避けることができ、同作用に
より発生するノイズを防１にできる。

また磁気テープ摺動面において第２の磁性合金ｊ漠１８
の磁極１８ａは非磁性材チップ２０と接しているため、
磁性合金膜１８側でも疑似キャー、ブ作用は発生しない
。

また以上のような本実施例の構造によれば磁気ギヤツブ
Ｇ近傍が高飽和磁束密度の磁性合金膜１６．１８から構
成されているので８ミリＶＴＲ等に用いられる高抗磁力
媒体に対して充分に記録を行なえる。しかも磁性合金膜
１６．１８は、それぞれ高透磁率で大きな断面積を有す
るフェライトチップ１５、磁性材チップ２１に磁気的に
結合されているので全体として磁気抵抗が小ざ（なリ、
高出力を得ることができる。

ちなみに後述の製造方法で本実施例の磁気コアをトラッ
ク幅１５〜１８ｇｍという狭トラツクで製造し、このコ
アから８ミリＶＴＲの長時間記録１１生川ヘツドを作成
しメタルテープに対して記録１９゛生を行なったところ
充分な性能を得られた。

さらに本実施例の磁気コアによれば補強板２３の磁性材
チップ２１により磁気抵抗を小さくできるため磁性合金
膜１８をギャップデプス程度の２０〜３０８Ｌｍ程度ま
で薄くできるので、特性を向トさせるとともに成膜１程
に時間がかからず生産性を向］二できる・ なお本実施例の第１図（ａ）のコアを第１図（ｂ）に示
すように変形し、補強板２３の接合面の摺動面近傍部分
に溝２３ａを形成すれば補強板２３の接着強度をより大
きくできる。また第１図（ｂ）に示すように巻線溝２６
中に低融点ガラス２９を埋設せずに巻線溝２６をそのま
まＳ線巻回に使用すれば巻線を通すスペースをより大き
くできる。但し第１図（ｂ）の変形により製造工程の工
数は１曽加する。

次に第１図（ａ）の磁気コアの製造方法を第２図（ａ）
〜（ｇ）を参照して説明する。

まず第２図（ａ）に示すように、先述のフェライトチッ
プの母体となるブロック２４を高透磁率磁性材のフェラ
イトから形成し、さらにこれに断面がＶ字形の溝２５と
断面がコの字形の巻線溝２６を形成する。

この場合ブロック２４のフェライトとしては摺動ノイズ
を少なくするために単結晶フェライトが好ましい、また
最近開発された多結晶フェライト上゛に単結晶フェライ
トを成長させたものを用い、その場合単結晶部分を媒体
摺動面となるＡ面側とし、磁気抵抗の小さい多結晶部分
を下部側とすれば、完成品の磁気抵抗をより小さくでき
、さらに好ましい。

また巻線溝２６はＡ面と隣接するＢ面にＡ面と平行に形
成する。

また溝２５はＡ面とＢ面の角部に多数隣接して形成し、
前述したフェライトチップ１５、磁性合金膜１６間の境
界線の磁気ギャップＧに対する角度に対応して断面をＶ
字形状とする。また溝２５の側面は少なくとも巻線溝２
６に至るまでの部分はＡ面に対して垂直とする。これは
磁気ギャップの深さ方向にトラック位置ずれが生じるの
を防ぐためである。

次に第２図（ｂ）に示すように磁性合金膜１６をブロッ
ク２４のＢ面に形成する。磁性合金膜１６の材料として
はセンダスト、パーマ０イ、アモルファス等の高飽和磁
束密度の磁性合金を用いる。またその成膜法は例えばス
パッタやメッキ等による。なおセンダストをスパッタす
る場合には、センダストとフェライトの線）膨張係数が
かなり異なるので、両者の密着性をヒげるために、スパ
ッタ前にブロック２４のＢ面に下地層を形成しておくと
良い。またスパー、夕の際のブロック２４の温度なｆ’
ｆ、　Ｊａすることが心安である。

次に第２図（ｃ）に示す炭素体２８を巻線溝２６中に嵌
め込んだ後、溶融させた低融点ガラス２９で巻線溝２６
および溝２５を埋め、さらにガラス固化後にＢ面を研磨
して磁性合金膜１６側のトラック幅Ｗを出す。なお最終
的にアジマス角０を付ける場合には実際のトラック幅Ｔ
ｗは、ＷＣＯ３Ｏとなる。

次に第２図（ｄ）に示すように磁気ギャップＧを形成す
る非磁性＋１９１７を第２図（Ｃ）の８面上に例えば５
ｉ０２のスパッタ等により形成し、さらにこの−Ｉ−に
第２の磁性合金ｎｔｉ　ｉ　ａを第１の磁性合金１模１
６と同様の材料と方法で形成する。磁性合金膜１８は耐
摩耗性の点で磁性合金膜１６と全く同じ材料から形成す
るのが好ましい。

次に第２［ｆｆ１（ｅ）に示すように溝３２を第２図（
ｄ）のＢ面の溝２５に対応する位置に先述のトラック幅
Ｗの間隔で形成する。この溝形成により完成品のコアで
磁気ギヤー２プＧ及び磁極１８ａとして磁気テープ摺動
面に露出する非磁性膜１７及び磁性合金膜１８の上端部
の幅をトラック幅Ｗに決める。

さらに第２図（ｆ）に示すように補強板２３の母体とな
る補強ブロック３０を第２図（ｅ）のブロックのＢ面に
厚さ１〜５８Ｌｍの接着材層１９を介して貼り合わせる
。またこれとともに融溶させた低融点ガラス２９を溝３
２中に流し込んで両ブロックを溶着して接合強度を１−
げろ。

なお補強ブロック３０はブロック２４と同様のフェライ
ト等の高透磁率磁性材から直方体形に形成した磁性材ブ
ロー２り３８に、ブロック２４と同等の耐摩耗性を有し
た非磁性材から矩形に形成した非磁性材板３６を接着材
層２２を介して接着して形成する。

続いて第２図（ｇ）に示すように切断部３９で全体を切
断して磁気コアチップ４０を得た後、炭素棒２８を各チ
ップの巻線溝から抜いて巻線窓を形成し、さらに各チッ
プのＡ面を磁気テープ摺動面として所定形状に加工して
第１図（ａ）の磁気コアが完成する。なお第１図（ａ）
のコアではアジマス角をつけていないが、第２図（ｇ）
ではアジマス角をつけて切断する場合を示している。

ところで第２図（ｇ）に示す距ｇｉｄ、すなわちフェラ
イトチップ１５となるフェライト部分の尖った先端から
磁気ギャップＧまでの距離は理想的にはＯにするのが好
ましい。これは上記先端が外部磁場の形成時と受容時に
特異性を有する点となるため、距＃ｄが存在すると磁気
ギャップ長が実際の磁気ギャップＧのギャップ長ｔｇに
距＃ｄを加えたものになるという疑似ギヤツブ作用に類
似した作用が生じるからである。

ところが距＃ｄをＯにするために、第２図（ｂ）のＢ面
の研磨時に研磨をちょうどフェライトの先端でＩＦめる
ことは極めて困難である。このため、実際の工程では研
磨が足らずに距離ｄが生じることよりも研磨のしすぎで
前記のフェライト先端部面が露出する場合を許容する。

また、第２図（ｅ）のｆｌｊ３２を形成する際の削りの
深さにもかなりの精度を要する。すなわち第３図に示す
ように溝３２を形成するにはバイトの刃４１を矢印方向
に入れてゆき、刃４１の角の点Ｐが磁気ギャップ１７の
端の点Ｐｉに一致した所で刃４１をＩＦめるのが理想で
あるがこれは極めて困難である。

そこでこの場合は点ＰがＰＩに達さずに磁極１８を削り
残すよりも、磁性合金膜１６は若干削られてしまうが、
点Ｐ１より矢印方向へ若干進んだところまで刃を入れて
しまうことを許容する。この許容幅は第３図に示す距ｆ
ｉｌｄｌであり、フェライト部分の先端の角度が９０°
の場合ｄｌ＝ｗ／２である。溝３２の加工を容易にする
には距ｆｉｄｌが大きくなるようにすればよく、それに
はトラック幅Ｗをできるだけ大きくするとともにフェラ
イトチップ１５の先端の角度をできるだけ小さくする。

以上のような本実施例のｔＡ造方法によれば磁気ギャッ
プの形成は成膜のみにより突き合わせを行なわないので
、ギャップ幅のバラツキを従来より抑えることができる
。例えば従来方法ではギャップ幅は目標を０．２５ｇｍ
としても実際には０．２〜０．３μｍにばらついたが、
木実流側工程によれば０．２４〜０．２６μｍ程度に抑
えることができた。本実施例ではこのようにギャップ幅
のバラツキを抑えられるので磁気コアの特性を均一化、
安定化させ歩留りを向」−できる。また特性が均一化す
ることにより、このコアから構成した磁気ヘッドを磁気
記録再生装置にペアで組み込む場合に両ヘッドの特性を
電気的方法で揃える工程を簡略化でき、磁気記録再生装
置のコストダウンに寄与できる。

さらに本実施例の製造方法によれば最終的にはブロック
の切断により一度に多数のコアが得られ、また前述した
従来方法におけるような特別に困難な工程や時間のかか
る工程及び問題のある工程を含まないこともあり、第１
図の磁気コアを［りｈい生産性で安価に製造できる。

１ム工蔦」 第１実施例では製造工程において、第２図（ｂ）のＢ面
の研磨によるトラック幅出し等に特別な困難はないもの
のかなりの加工精度を要する。また第２図（ｅ）の溝入
れ時に溝加工の衝撃により磁性合金膜１８の磁極となる
上端部にｊｔｌれが発生する場合がある。

そこで、これらの問題を軽減し、生産性をより向上させ
た本発明の第２実施例を、第４図及び第５図（ａ）〜（
ｈ）を谷間して説明する。なおこれらの図において第１
図〜第３図中と同一もしくは相当する部分には同一符号
が付してあり、同一部分の詳細な説明は省略する。

第４図は本実施例による磁気コアの構造を示す斜視図で
ある。同図に示すように本実施例のコアは溝２５と磁性
合金膜１６の形成部分が第１実施例の第１図（ａ）のコ
アと異なっている。

すなわち本実施例のコアでは、Ｘ　２５　、２５の位置
が第１図（ａ）の場合より図中左奥側へずれており、フ
ェライトチップ１５の図中左上端部の溝２５によるＶ字
形の先端は磁気ギャップＧの図中左奥側の端に接してい
る。そして前記先端面の右側面のみに磁性合金膜１６が
形成されており、左側面には形成されていない。そして
右側面のみに形成された磁性合金膜１６の先端が磁気ギ
ャップＧを挾んで磁極１６ａとして磁極１８ａと対向し
ている。また磁性合金膜１６はフェライトチップ１５の
巻線溝２６の底面までしか形成されておらずそれより下
部の端面には形成されていない。

本実施例コアのこの他の部分の構造は第１図（ａ）のコ
アと同様である。

このような構造によれば第１実施例と同様の構造−にの
理由により同様の作用効果が得られるとともに、次に説
明するように製造工程をより容易にし、生産性をさらに
向りできる。

次に本実施例コアの製造工程を説明する。

まず第５図（ａ）に示すようにブロック２４に溝２５と
巻線溝２６を形成する。この場合第１実施例と異なり溝
２５は所定の間隔ｄ２をおいて形成する。

次に第５図（ｂ）に示すように磁性合金膜１６を第１実
施例の場合と同様に第５図（ａ）のブロック２４のＢ面
に形成する。

次にまた第１実施例と同様に炭素棒２８を巻線溝２６中
に嵌め、溝２５９巻線溝２６を低融点ガラス２９で埋め
た後、第５図（ｂ）のＢ面を第５図（Ｃ）に示す状態と
なるまで研磨する。すなわち磁性合金膜１６の溝２５１
巻線溝２６への付着部分以外の付着部分を完全に除去す
るまで研磨を行なう。

そしてこの場合研磨後の第５図（Ｃ）のＢ面に露出する
磁性合金膜１６の端部の幅Ｗが後に磁性合金膜１６側の
トラック幅Ｗとなるので、トラック幅は第１実施例の場
合と異なり研磨量によっては左右されず、溝２５の側面
に成膜する磁性合金膜１６の厚さにより簡単に管理でき
る。

次に第５図（ｄ）に示すようにまた第１実施例の場合と
同様に第５図（ｃ）のＢ面にに非磁性膜１７を形成し、
さらにこのヒに第２の磁性合金膜１８を形成する。

次に第５図（ｅ）に示すように溝４１を形成し、磁極１
８ａ及び磁気ギャップＧとなる磁性合金膜１８と非磁性
膜１７の１一端部の図中左側縁を決めた後、この溝４１
を低融点ガラス２９で埋め戻す。

続いて第５図（ｆ）に示すように溝４２を形成し、ｌ記
」一端部の図中右側縁を決めてトラック幅Ｗを出す。こ
の場合前記に端部の強度は低融点ガラス２９に補強され
ているので剥れの発生は少ない。

このように２回の溝入れで磁極１８ａ側のトラック幅を
出すことにより、磁性合金膜１８の磁極１８ａ近傍の剥
れの発生を少なくすることができる。

次に第５図（ｇ）に示すように先述の補強ブロック３０
を接着材層１９と、溝４２に埋められる低融点ガラス２
９を介して接合する。

続いて第５図（ｈ）に示す破線に沿って全体を切断し、
後は第１実施例の場合と同様の工程を経て第４図の磁気
コアが完成する。

以−Ｌのようにして磁性合金膜１６側のトラック幅出し
や磁性合金膜１８の剥れ等の問題を軽減して第１実施例
の場合よりも高い生産性で安価に第４図の磁気コアを製
造できる。

剃１１１１ 上述した第１．第２実施例では磁極１８ａの匂、１出し
、即ちアジマス角がＯｏの場合にはトう、グ幅出しを機
械的な溝入れによって行なっていたが、これを化学的方
法、例えばフォ）・リソグラフィにより以下のように行
なうこともできる。

まず第２図（ｄ）あるいは第４図（ｄ）の磁性合金膜１
８の形成後に磁性合金膜１８　ににフォトレジストをス
ピンコータで厚さｅ！ＩＪ−ｍ　９布した後、光照射と
現像プロセスによって磁性合金１漠１８を残したい領域
のみにレジスト層を形成する。

次にウェントプロセスまたはイオンミーリング等のドラ
イプロセスによりエツチングを行ない、レジスト層に被
覆されていない部分の磁性合金膜１８を除去して磁極１
８ａを形成する。しかる後にレジスト層を除去する。

第４図（ｄ）の工程後に」−記の工程により磁極１８ａ
を形成した状態を第６図に示す、符号４３で示す部分が
エツチングによる磁性合金膜１８の除去部分である。こ
れ以後第４図（ｆ）以後と同様の工程を経て磁気コアを
得ることができる。

このような方法によれば磁性合金膜１８に機械的な応力
が加わらないため磁性合金膜１８の剥れを極めて効果的
に防１にでき、狭トラツクコアの加工に好適である。

但し１回のエツチングで切れ良く除去できる磁性合金膜
１８の厚さは１０ｇｍ位が限度であるので、磁性合金■
Ｑ　１８の厚さをそれより大きくする場合には成膜、フ
ォトリソ工程を交互に複数回行なう。

［効　果］ 以上の説明から明らかなように、本発明の磁気コアによ
れば高飽和磁束密度材と高透磁率材の組合わせにより高
抗磁力媒体に対応できるとともに高出力を得られる。ま
た媒体摺動面一ヒで磁気ギャップに平行な異種磁性材間
の境界が存在しないため疑似ギャップ作用の発生を防］
トでき、優れた特性が得られる。

また本発明の磁気コアの製造方法によれば本発明の磁気
コアを高い生産性で安価に製造できるとともに磁気コア
のギャップ幅のバラツギを抑えることができ、磁気コア
の特性の均一化、安定化が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）はそれぞれ本発明の第１実施例と
その変形例による磁気コアの構造を示す斜視図、第２図
（３）〜（ハはよｇｒｇ第、。 （ａ）のコアの製造工程を順に示す説明図、第３図は第
２図（ｅ）中の溝加工精度の問題の説明図、第４図は第
２実施例による磁気コアの斜視図、第５図（ａ）〜（ｈ
）は第４図のコアの製造■−程の説明図、第６図は第３
実施例による製造工程の説明図、第７図（ａ）〜（ｄ）
はそれぞれ従来の磁気コアの製造■程の説明図、第８図
（ａ）〜（ｈ）はそれぞれ他の従来コアの製造り程の説
明図である。 １５・・・フエライトチンブ １６．１８・・・磁性合金膜 １７・・・非磁性膜　　　１９．２２・・・接着材層２
０・・・非磁性材チップ ２１・・・磁性材チンブ　２３・・・補強板２４・・・
ブロック ２５．３２，４１．４２・・・１１４ ２６・・・巻線溝　　　　２９・・・低融点ガラス３０
・・・補強ブロック　３６・・・非磁性材板３８・・・
磁性材ブロック

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一端面に第１の高飽和磁束密度材膜を形成された高
   透磁率材チップと、前記膜上に磁気ギャップ材膜を介し
   て形成された第２の高飽和磁束密度材膜と、前記第２の
   膜上に接合された補強板からなり、磁気記録媒体摺動面
   に露出する前記チップと第１の膜の境界線は磁気ギャッ
   プ材膜と非平行であり、前記摺動面において前記補強板
   の前記第２の膜に隣接する部分は少なくとも非磁性材か
   らなることを特徴とする誘導型磁気ヘッドの磁気コア。 ２）一側面に溝を形成した高透磁率材ブロックの前記溝
   形成面上に第１の高飽和磁束密度材膜を形成する工程と
   、前記膜形成後に前記溝に非磁性材を埋設する工程と、
   前記埋設後の膜形成面上に磁気ギャップ材膜を形成する
   工程と、前記ギャップ材膜上に第２の高飽和磁束密度材
   膜を形成する工程と、前記第２の膜の磁気記録媒体摺動
   面側の端部の複数箇所を所定幅に加工する工程と、前記
   加工後に前記第２の膜上に少なくとも前記摺動面におい
   て、前記第２の膜に接する部分が非磁性材で構成された
   ブロックを接合する工程と、前記接合後全体を切断して
   磁気コアを得る工程とを含むことを特徴とする誘導型磁
   気ヘッドの磁気コアの製造方法。 ３）前記第２の膜端部の複数箇所の幅加工を一箇所につ
   き２度の溝形成により行なうことを特徴とする特許請求
   の範囲第２項に記載の磁気コアの製造方法。 ４）前記第２の膜端部の複数箇所の幅加工をフォトリソ
   グラフィにより行なうことを特徴とする特許請求の範囲
   第２項に記載の磁気コアの製造方法。