JPS61115205A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分書） 本発明は軟磁性膜を基板によって挾持した構成の磁気記
録再生用ヘッドに関するものである。

（従来例の構成とその問題点） これまでＶＴＲ用のビデオヘッドとして、耐摩耗性が優
れ、加工性の良好なフェライトヘッドが使用されてきた
。一方、近年、短波長領域の出力レベルを向上させるた
め、蒸着テープ（Ｈｃ＝９００〜１００００ｅ）や合金
粉末テープ（）（Ｃ＝１３００〜１５０００ｅ）などの
高抗磁力テープの開発が進められている。

しかし上記高抗磁力テープに対しフェライトヘッドで記
録する際に磁気飽和を生じ、充分記録できない問題点が
あり、アモルファスヘッドやセンダストヘッドなどの飽
和磁束密度の大きいメタル材料を用いたヘッドが開発さ
れつつある。

以下、第１図および第２図により先に本発明者らによっ
て提案されたヘッド構成とそれらの問題点について説明
する。第１図は第１の従来例を示し、同図（５）はヘッ
ドの摺動＋ｔｌｓ　（Ｂ）はヘッド側面を示すものであ
り、コア半体３では結晶化ガラスなどの非磁性基板１上
に非晶質合金膜とＳｉＯ□膜の絶縁材料を積層した軟磁
性合金層５を低融点ガラス層６を介してもう１つの非磁
性基板１′によりサンドイッチした形に構成する。一方
コア半体４も同様に構成した後、巻線溝２を施こし、Ｓ
　ＩＯ２膜などの非磁性体を介して両コア半体を接合レ
ギャノゾ７を形成する。両コア半体の接着は、高鉛ガラ
ス棒９を第１図（Ｂ）に示すごとく巻線溝２の７４７２
７部に配備した後、所定の温度を加えて溶融するもので
ある。それに先立って高鉛ガラス９のぬれ性を良くする
ためＣｒ　＋　Ｃｕなどの金属層８を形成しである。第
１図（Ｃ）は、このようにして両コア半体を合体せしめ
たヘッドブロックを示す。１０は（ａａ’、ｂｔ？で切
断し所定のコア幅Ｗ（１００＃１〜１３０＃りのヘノド
チッｆ（６）とする。しかしこの切断時に問題が発生す
る。それは第１図（Ｆ′）に示すように高鉛ガラス１０
の中にギャップ面から通じるクラックが多く発生し、ギ
ヤ、プ部が開いてしまうという問題で、そのためギャッ
プの不良となり歩留りが極めて悪かった。

第２図は、これを改善するために、同じく本発明者によ
り提案されている第２の従来例で同図（Ａ）（はテープ
摺動面、同図（Ｂ）はヘッド側面を示し、第　　。

１図の場合と異なる点は、上述の低融点ガラス１０に発
生するクラック１１を防止するため、コア半体３および
４のギャップ面上から溝１３を形成しこの溝に低融点ガ
ラス１２を充填して、ギャップ形成時にこの低融点ガラ
スを再溶融せしめて両コア半体３および４を強固に合体
せしめるものである。このようにして合体せしめたヘッ
ドブロックを同図（Ｃ）に示すようにＣ♂およびｄ　ｄ
’で切断すると、同図（匂に示すようなヘッドチップと
なる。

これを側面からみると側面に低融点ガラスが露出した形
となっている。

上記切断に関しては、低融点ガラスによりヘッド側面に
おいて両コア半体を強固に接着しているため、切断の歩
留りがよい。しかし、このようにして得られたヘッドチ
ップをベース上に貼り付けた後、研摩テープによってそ
のヘッドの前面を研摩する際、ギャッゾデブスの厚みｈ
（第２図ｐ）参照）は２０〜３０μｍ　と極めて薄く仕
上げるため、特に巻線溝を施こした側の低融点ガラスが
同様に薄くなり、第２図（財））に示すようなりラック
１４が発生する問題が発生した。このクラックが発生す
るとクラック１４を境にして段差が生じ、テープと摺動
せしめた時にテープからの磁性粉あるいはバインダが付
着しやすくまたはなはだしい場合にはクラックの生じた
位置から低融点ガラスが脱落するなどによって、ヘッド
摺動面に欠陥が生じてヘッド目づまりが生じ、使用に耐
え得ない問題が生じていた。また第２図（Ｄ）は溝に充
填した低融点ガラス１３が理想的に再溶融した場合を示
したものであって実際的には、第２図（Ｇ）に示すよう
に低融点ガラス１３が再溶融する時ガラスが他の位置へ
移動するためガラスモールドされていない部分１５が生
ずる。そのためへラドチップとして切断し、前研した後
のテープ摺動面は第２図（）（）のように低融点ガラス
の充填されない部分が生じ、テープとの摺動の際ヘッド
目づまりの原因になるなどの問題が発生していた。

（発明の目的） 本発明はこのような問題を解決するものであり、切断そ
の他の加工に対して充分強く製造の歩留りを向上せしめ
るヘッド構造を提供するものである。

（発明の構成） 上記の目的を達成するために本発明は、非磁性基板上に
ス・ぐツタリングなどの手段によって形成した軟磁性膜
をもう１つの非磁性基板で挾持した形の磁気ヘッドにお
いて、上記ヘッドの摺動面の少なくとも一部にガラスを
充填したノツチ部を有し、それと同時に巻線孔のアペッ
クス部をガラスモールドした構造にすることを特徴とす
るもので、この構成によって、切断およびその他の機械
加工に対し、極めて強度の大きいヘッドが得られ、製造
の歩留りが飛躍的に向上するものである。

（実施例の説明） 以下、本発明の実施例に関して説明する。本発明の一実
施例では基板を結晶化ガラスを用いこの基板上にＣｏ−
Ｎｂ−Ｚｒアモルファス膜ヲスパッタリ７グによって１
０μｍ形成し、さらにその上に１０００Ｘ厚みの５１０
２膜を形成するこの方法を３回繰返して３層約３０μｍ
のヘッド磁芯を構成した後さらに接着層を介して同種基
板によってサンドイッチした構造とした。

これらは、本発明者らが従来例で提案したものと同様で
ある。上記アモルファス膜の結晶化温度は約５６０℃で
あるが、磁気ヘッドの接着、アニール、ギャップ形成等
の熱処理工程を通過するため８０〜１００℃下の４６０
℃〜４８０℃の温度で使用することが望ましい。

一方低融点ガラスは作業点が４５０℃の高鉛ガラスを用
いた。

次に第３図以下を用いて本発明の具体実施例について説
明する。

第３図（Ｎはコア半体１６と１７とにそれぞれ溝１８と
１９を施こし低融点ガラスを充填してＳｉＯ□膜を介し
て付合せ、巻線溝のアペックス部に低融点ガラス棒２０
を配置したものである。

この時上記充填した低融点ガラスと低融点ガラス棒は同
一のガラスを用いており前述したものである。この（Ａ
）の状態で４８０℃３０分間Ｎ２中で加　　１熱し徐冷
し、その後、従来例にも述べたようにグイシングツ−に
よって、約１３０μｍのチップ厚に切断してその側面を
観察したのが第３図（Ｂ）である。

このようにコア半体１６および１７のそれぞれに施こし
た溝１８および１９に充填した低融点ガラス２１および
２２とが再溶融して溶けあい両コア半体１６および１７
とを接着すると同時に低融点ガラス棒も溶けて巻線溝ア
ペックス部に溶けた低融点ガラス２３として上記２つの
コア半体を接着するものである。

したがって、低融点ガラス棒２０を溶融せしめることに
よシこれが低融点ガラス２１と２２の再溶融時に発生す
るガラスの移動に基づく欠陥部分へ補充されるとともに
、アペックス部にガラスが充填されるため、テーゾ摺動
面を研摩しても従来例に述べたクラックの発生は皆無で
ある。その様子は第３図（Ｃ）に示すようになシ、ノツ
チ部の低融点ガラスに欠陥がまったくないヘッドが得ら
れるものである。

第４図は上記実施例におけるガラスのぬれ状態を示すも
のであり、同図（Ａ）はへラドチップに切断する前のヘ
ッドブロック巻線溝を観察したものであり、同図（Ｂ）
は同ブロック巻線溝内部の断面を示すもので（４）の巻
線溝の上部２７から内部を観察したものである。２５は
コア半体１６側、２６はコア半体１７側を示す。第４図
（Ｂ）を見ると前述の積層したアモルファス膜２８の両
側の基板３１と３２上に施こした溝に充填した低融点ガ
ラス２９および３０を中心に低融点ガラス３３がよくぬ
れていることがわかる。

このように巻線溝中に何の処理なしでもガラスが良好に
ぬれているのは、アモルファス膜の両側に配備した低融
点ガラスのためであり、第５図に示した従来し１１の場
合を見ると良く判る。第５図（Ａ）は巻線溝を側方より
みたものであり第５図（Ｂ）は巻線溝の上部４０から内
部をみたもので、基板３５上に積層したアモルファス膜
３４を同じ基板３６でサンドイッチした一対のコア半体
を付合せて低融点ガラス棒３７を配置したものであり、
３８および３９はそれぞれ巻線溝を施していないコア半
体側および施こしたコア半体側を示す。この状態で４８
０℃３０分Ｎ２中で加熱した後、徐冷したのが同図（Ｃ
）および（Ｄ）である。低融点ガラス棒はぬれカ良くナ
イため、特に巻線溝のアモルファス膜近傍にガラスが流
れておらず、ヘッドチップにｅ　ｅ’およびｆ　ｆ’で
切断する時すなわちチップ＠ｅｆ間１３０μｍに切断す
る時に、上述のように低融点ガラス３７′が接着剤の役
目をはたしていないため、−・ばらになりヘッド化でき
ないものである。上臭施例では溝を両コア半体に施こし
た方が、つコア半体でもよい。

らに第６図、第７図により本発明第２の実施ついて説明
する。

４２の実施例はさらに低融点ガラスのぬれ性を改良し切
断強度をあげるため第６図の構成とした。

すなわち第６図（Ａ）はコア半体４１上のみに溝４３を
施こして低融点ガラスを充填しかつコア半体４２上の巻
線溝の表面にＣｒ膜４４を２μｍ形成した後非磁性スイ
ーサ５Ｉｏ２膜を介して付合せて低融点ガラス棒４５を
配置した状態を示し、この状態で４８０℃３０分間Ｎ２
中で加熱し徐冷し、その後、第３図の場合と同様にチッ
プ厚に切断して、その側面を観察したのが第６図（Ｂ）
であり、この場合も第６図（ｃ）に示すようにノツチ部
の低融点ガラスに欠陥のまったくないヘッドが得られる
。

また、第７図に示すようにこの時の低融点ガラス４５゛
のぬれ状態は極めて良好でＣｒ膜４４によって積層した
アモルファス膜４６とこレヲサントイッチしている結晶
化ガラス上の巻線溝の表面上に均一にぬれており理想的
なガラスの流れを示している。

このようにして得られたヘッドの製造歩留りを従来例と
比較して示すと次の様になる。

ヘッドのタイプ　　　　製造歩留り 第１の従来例　　　　　　　５係 第２の従来例　　　　　　ｌｏ係 第１の実施例　　　　　　９５憾 第２の実施例　　　　　１００％ 以上のごとく本発明は溝に充填した低融点ガラスと、ア
ペックス部に低融点ガラスを流す方法と　　［を合せて
用いることによって、上記方法を単独に用いた第１．０
従来例と第２の従来例に比較して、飛躍的に製造歩留り
を向上できることがわかった。

なお、本発明の実施例では、基板として結晶化ガラスを
用いたがその他、ンーダヵリ系などのガラス、セラミッ
クス、非磁性フェライト、なども有効である。

また低融点ガラスのぬれ性を良好にするためＣｒを用い
たがその他Ｃｕ　＋　Ａｇなどの金属も効果的であった
。

（発明の効果） 一対のコア半体の少なくとも一方の付合せ面に溝を施こ
して低融点ガラスを充填し、かつ一対のコア半体を付合
せた後、アペックス部に低融点ガラス棒を配置して所定
の温度を加え、該溝に充填した低融点ガラスと低融点ガ
ラス棒とを溶融せしめて両コア半体を接着することによ
り、機械的強度の大なるヘッドが製造でき、歩留りを飛
躍的に向上できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１の従来例を示す図で（Ａ）　、　Ｑ）＞　
、■）は平面図（Ｂ）　、　（Ｃ）は側面図、（Ｆ′）
は部分詳細図、第２図は第２の従来例を示す図で、（Ａ
）　、　（Ｃ’ｌ　、　（Ｅｌは平面図、（Ｂ）は側面
図、［Ｆ］）、　（Ｇ）は側断面図、「）、卸は部分詳
細図、第３図は本発明の第１の実施例を示す図で囚は側
面図、の）は側断面図、（Ｃ）は平面図、第４図は同実
施例における巻線溝中のガラスの流れを示す側面図およ
び平面図、第５図は従来例における巻線溝中のガラスの
流れについての説明図、第６図は本発明の第２の実施例
を示す図で（Ａ）は側面図、（Ｂ）は側断面図、Ｃ）は
平面図、第７図は同実施例における巻線溝中のガラスの
流れを示す側面図および平面図、である。 ８・・・Ｃｒ　、　Ｃｕなどの金属層、１１．１４・・
・クラック、１２．１３，２９，３０．３３・・・低融
点ガラス、２０．４５・・・低融点ガラス棒、４４・・
・Ｃｒ膜、２８．４６・・・アモルファス膜、３１．３
２・・・基板。 第１図 第２図 （Ｇ）　　　　　（Ｈ） 第３図 （Ｃ） 第４図 （Ａ）　　　（Ｂ） 第５図 （Ａ）　　　　　　　（Ｂ） 第６図 第７図 （Ａ）（Ｂ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に形成した軟磁性膜をもう１つの基板によ
   り挾持した磁気ヘッドにおいて、該磁気ヘッドの摺動面
   の少なくとも一部にガラスを充填したノッチ部を有し、
   かつ巻線溝のアペックス部をガラスモールドしたことを
   特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）巻線溝を施こしたコア半体の該巻線溝表面上の少
   なくとも一部に金属膜を形成し、かつ巻線溝を施こさな
   いコア半体の基板上の少なくとも一部に溝を形成してガ
   ラスを充填した後、上記両コア半体をＳｉＯ＿２などの
   非磁性のスペーサを介して接合するとともに、巻線溝の
   アペックス部にガラスを配備し、所定の温度を印加して
   、上記溝に充填したガラスおよびアペックス部のガラス
   を溶融せしめて接着せしめたことを特徴とする特許請求
   の範囲第（１）項記載の磁気ヘッド。
3. （３）少なくとも一方のコア半体における軟磁性膜コア
   の両側の基板に溝を形成し、ガラスを充填した後、一対
   のコア半体を非磁性のスペーサを介して対接せしめて、
   巻線溝のアペックス部にガラスを配備し、所定の温度を
   印加することにより、上記溝に充填したガラスおよびア
   ペックス部に配備したガラスを溶融せしめて、上記一対
   のコア半体を合体したことを特徴とする特許請求の範囲
   第（１）項記載の磁気ヘッド。
4. （４）軟磁性膜が非晶質合金であることを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッド。