JPH0319108A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はＶＴＲなどの磁気記録再生装置に用いられる磁
気ヘッドに関すん 従来の技術 高画質化や高密度記録化に伴って、磁気ヘッドのトラッ
ク幅やギャップ幅は狭いものが使用されていも 従来のこのような磁気ヘッドのへッドコア材料としてフ
エライトを用いた場合（友　輻広コアの先端部分を切欠
し狭トラック幅に絞り込んだ形状とし　その切欠部にガ
ラスを充填し　溶着した構造としていｔラ　　このよう
なガラス溶着（上　フェライトで造った磁気ヘッドの場
合、フエライトのもろさによって生じるトラック端の欠
けを防止するためやトラック幅が狭いために生じるテー
プ摺動による摩耗を防止するた△　更には狭ギャップ幅
を精度よく保つため等であも また　ギャップ下端から巻線窓に設けたガラス溶着部分
によってもコア結合強度を高め狭ギャップ幅精度を保つ
構造としてい１，　　このようなフエライトによる磁気
ヘッドではフエライトが熱的に安定であるため機械強度
が大きい高融点の非結晶ガラスを溶着していｔら 一Ｘ　　磁気ヘッドのへッドコア材料をアモルファスや
センダストなどの磁性合金を用い所定のトラック幅に応
じた厚さに薄膜化積層形威しその両側を基板で挟んだ構
造の磁気ヘッドがあも　このような合金薄膜磁性層ヘッ
ドはヘッド前面の基板上に設けた切欠部から巻線窓を結
ぶガラス溶着部によってコア間の結合を強め挟ギャップ
幅精度を高めた磁気ヘッドを構威したものであん　この
場合アモルファス材の結晶化温度が実用的はに５００℃
程度であり、このため溶着に用いるガラスの処理温度は
アモルファスの結晶化温度で制約されることになも　し
かし軟化点の低い鉛ガラスではコア間の結合力が弱く高
精度のギャップを実現できなかっただけでなく、機械加
工強度が低下すもこの点を改良するためにアモルファス
の結晶化温度を越えない範囲の温度処理を行い溶着後に
ガラスを結晶化させガラス強度を高めた磁気ヘッドも提
案されていも 発明が解決しようとする課題 しかし上記従来例では　磁気ヘッドのテープが摺動する
前面から巻線窓に通じ融着した結合ガラスが非結晶質ガ
ラスであった場合《よ　欠けや割れや使用時の摩耗等の
機械強度が弱くヘッド製造歩留りを低下させも −Ｘ　　結晶化ガラスでは透明度が悪く正確なヘッドギ
ャップ深さ寸法を測定できずヘッド特性に信頼性を欠く
等の問題があっ九 課題を解決するための手段 磁気ヘッドのテープ摺動面に設けるガラスは結晶化ガラ
スで行ｔ，％　　ギャップ深さ下端から巻線窓は非結晶
ガラスで構威すも 作用 テープ摺動する磁気ヘッド前面の結合ガラスが結晶化ガ
ラスで構或されているた吹　機械強度が大きく欠け割れ
が生じ難いとともに　摩耗が少なくテープとの当接が安
定であも 更にギャップ下端から巻線窓に設けた非結晶ガラスは透
明度がよいた△　ギャップ深さ下端が測定できるもので
それぞれの構戒位置に適したガラスを使用することによ
って、磁気ヘッドの生産歩留りと品質及び信頼性を向上
させも 実施例 本発明の一実施例における磁気ヘッドを、アモルファス
等の磁性合金を用いた場合について、説明すも 即ち第ｌ図に示すように　ヘッドトラック幅を威す磁性
合金１を薄膜化積層し　その両側を１組の基盤５、　５
で挟持した構戒のコア半体対をそれらのギャップ形成面
で衝き合わせてヘッドギャップ２を構或し　テープの摺
動するヘッド前面からギャップ面近傍の基板５に設けた
溝内に結晶化ガラス３を充填することによって結合し　
更にギャップ深さ下端から巻線窓に非結晶ガラス４を設
け１体に結合していも 次に　本実施例の構戒を第２図（Ａ）〜（Ｄ）を用い詳
しく説明を行う。同図（Ａ）は少なくともトラック幅に
等しい厚みに薄膜積層した磁性合金１を基板５にスパッ
タリング等により形成し他の片面からガラス接着によっ
て１組の基板５、　５を重ねたいわゆるサンドイッチし
た１対のコア半体６Ａ１６Ｂを製作すも　次に同図ＣＢ
）＠；Ａ　　前記コア半体６Ａ，６Ｂ対のギャップ形成
対向面から基板５に切欠部分７を形威シ　　その切欠部
分７に結晶化ガラス３を非結晶ガラス状態で融着させも 結晶化ガラス３を非結晶ガラス状態で融着する方法とし
て、軟化温度４５０℃程度の結晶化ガラス３を粉末状や
板状又は棒状で切欠部分７に介在させた眞　結晶化が生
じないような比較的低温例えば５００℃程度で１０分程
度の短時間に切欠部７に融着すも　従って融着ガラス層
は結晶化寸前の状態の流動性の少ない状態からなる非結
晶質ガラスであも又　前記結晶化ガラス３をスパッタリ
ングや蒸着などの方法により非結晶ガラス状態のまま直
接切欠部分７に充填することも可能であん　このような
スパッタリングや蒸着による場合は膜厚を厚くするため
には時間を要するため切欠部７の深さはできるだけ浅い
寸法で構戊すると好適である。次に同図（Ｃ）ｉ；Ｌ　
　コア半体６Ａ、６Ｂの磁性合金１とその両側の基板５
と結晶化ガラス３を横断する巻線窓用の溝を設けた後、
ギャップ形成面を平滑研磨することによってギャップ深
さ下端９となる位置を区分すも 同図（Ｄ）ｉｔ　　このようなコア半体６Ａ，６Ｂ対を
ギャップ形成面で衝き合わせ巻線窓１０から非結晶ガラ
ス４を介在させると共に熱処理を行う。この熱処理は５
００℃程度の低温で長時間徐々に昇温させることによっ
てと非結晶ガラス状態を結晶化せしめるもの玄　このよ
うにしてできたて結晶化ガラス３はその熱処理における
昇温過程で結晶核が増え結晶化が進行するため流動変形
が起り難く切欠部７の形状に沿って固着すも この熱処理によって前記結晶化ガラス３の結晶化の過程
で両コア半体６Ａ，　６Ｂ間を結合すると同時に巻線窓
１０中の非結晶ガラス４も軟化し　半線窓１０からギャ
ップ深さｄ下端付近に融着して、両コア半体６Ａ，６Ｂ
を１体に結合し　磁気ヘッド体１１を構或するものであ
も な耘　磁気ヘッドの構威１よ　第３図（Ａ）（Ｂ）に示
すものであってもよ〜１　即板　同図（Ａ）は巻線窓１
０がコア半体６Ａ，６Ｂ片方によって形成されると共に
非結晶ガラス４を融着ヒ　そのーＸ　巻線窓１０内に設
ける非結晶ガラス４に（友　前記結晶化ガラス３の結晶
化温度で融着可能な軟化点が低くかつ透明度のよい低融
点ガラスを使用すも　従って前記結晶化ガラス３の切欠
部分１０内で固着，化が進行する過程で非結晶ガラス４
は軟化が起りやがて巻線窓１０内に融着されも　従って
冷却後は結晶化ガラス３と非結晶ガラス４はその領域が
切欠部７と半線窓１０に存在しその境界は両ガラスの透
明度の違いによって明確となも　即板　切欠部７が不透
明な結晶化ガラス３によって充填されているのに対して
、透明度のよい非結晶ガラス４により巻線窓ｌＯ先端形
状およびヘッドギャップ深さｄが検視できるものであも
　ギャップ深ｄ位置を明確にした構威であも　又　同図
（Ｂ）はコア半体６Ａ．６Ｂ対にフエライトを用１，Ｘ
．磁気ギャップ２の両端を所定のトラック幅Ｗに規制し
　その規制した切欠部分に結晶化ガラス３を融着し　更
に巻線窓１０から非結晶ガラス４を溶着Ｌ，１体化結合
して磁気ヘッドを構威したものであも 発明の効果 磁気ヘッドのテープ摺動する前面が結晶化ガラスで融着
結合し　ギャップ深さ下端から巻線窓を非結晶ガラスで
結合した構造であるたべ　前抵結晶化ガラスはガラス強
度が大きく加工時の欠けやクラック等によるヘッド不良
が減少し　更にガラス部の摩耗が少なくなったためヘッ
ドとテープ間の当接が安定し良好な記録・再生ができる
ようになっｔも 更阪　巻線窓に設けた非結晶ガラスは透明度がよいため
ギャップ深さ下端位置が確認でき正確なギャップ深さ寸
法を測定できるため磁気ヘッドの性能品質及びその信頼
性が高まっｆ，

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視阻
　第２図（Ａ）〜（Ｄ）は同磁気ヘッドの製作工程を説
明する概略を示す斜視は　第３図（Ａ）（Ｂ）は本発明
の他の実施例における磁気ヘッド例を示す斜視込 ３・・・・結晶化ガラ入　４・・・・非結晶ガラス　６
ん６Ｂ・・・・ヘッドコア半恢　７・・・・切欠Ｋ　　
１０・・・・巻線胤

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ヘッドコア半体対を対向せしめて磁気ギャップを形成す
   る磁気ヘッドにおいて、前記両コア半体の結合を該コア
   半体の対向面からテープ摺動する前面に設けた切欠部分
   の結晶化ガラスと、磁気ギャップ下端から巻線窓部分の
   非結晶ガラスとにより行ったことを特徴とする磁気ヘッ
   ド。